1.一种触控屏，其特征在于包括：
透明基板；
所述透明基板的正面设有正面电极引线区，所述正面电极引线区内侧围绕形成一正面窗口；所述透明基板的背面设有背面电极引线区，所述背面电极引线区内侧围绕形成一与所述正面窗口相对应的背面窗口；
其中，所述正面窗口的宽度大于所述背面窗口相对应位置的宽度。
2.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述正面窗口的宽度与所述背面窗口相对应位置的宽度的差值为40um～400um。
3.根据权利要求2所述的触控屏，其特征在于，所述差值为120um～200um。
4.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述正面电极走线区各位置处的宽度均相等，所述背面电极走线区各位置处的宽度均相等。
5.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述背面窗口在垂直所述透明基板方向的投影落入所述正面窗口之内。
6.一种触控显示装置，所述触控显示装置包括：
如权利要求1～5任意一项所述的触控屏；
以及，设置在所述触控屏正面窗口的四周的遮光层，所述遮光层的宽度大于等于所述触控屏背面电极引线区相对应位置的宽度，以避免所述背面电极引线区在所述正面窗口处暴露。
7.一种触控屏的双开窗工艺，用于在透明基板正面和背面的铜膜层上分别形成正面电极引线区和背面电极引线区，其中所述正面电极引线区的内侧围绕形成正面窗口，所述背面电极引线区的内侧围绕形成背面窗口，其特征在于，所述双开窗工艺包括：
设置光阻：在所述透明基板的正面铜膜层上设置可完全覆盖所述正面铜膜层的正面光阻层，在透明基板的背面铜膜层上设置完全覆盖所述背面铜膜层的背面光阻层；
设置掩膜：将排版好所述正面电极引线区图案的正面掩膜贴设在所述正面光阻层上，并将排版好所述背面走线区图案的背面掩膜贴设在所述背面光阻层上；其中，所述正面掩膜与所述背面掩膜相对应设置，以便使最后形成的所述正面窗口和所述背面窗口相对；
曝光：对贴设有所述正面掩膜的所述正面光阻层，以及贴设有所述背面掩膜的背面光阻层进行曝光处理，使所述正面电极引线区图案、所述背面电极引线区图案分别转印在所述正面光阻层、所述背面光阻层上；
显影：移除所述正面掩膜和所述背面掩膜，并使用显影液将转印在所述正面光阻层的所述正面电极引线区图案，以及转印在背面光阻层上的所述背面电极引线区的图像显像出来；
蚀刻：使用铜蚀刻液把所述正面走线图案，以及所述背面电极引线区图案所对应的铜膜层区域之外的铜膜去掉，形成所述正面电极引线区和所述背面电极引线区，进而得到所述正面窗口和所述背面窗口；
其中，所述正面窗口的宽度小于所述背面窗口相对应位置的宽度。
8.根据权利要求7所述的触控屏的双开窗工艺，其特征在于，所述正面光阻层和所述背面光阻层均为干膜层。
9.根据权利要求7所述的触控屏的双开窗工艺，其特征在于，所述正面窗口的宽度与所述背面窗口相对应位置的宽度的差值为40um～400um。
10.根据权利要求7所述的触控屏的双开窗工艺，其特征在于，所述正面电极走线区各位置处的宽度均相等，所述背面电极走线区各位置处的宽度均相等。