技术特征：
技术总结
一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法，本方法由两部分组成：1、激光蚀刻工艺专用的GFF结构上下层ITO图形和银浆图形；2、激光蚀刻银浆图层和ITO图层的工艺参数。通过采用专用的GFF结构上下层的ITO图形和银浆图形进行同步一次性激光蚀刻出ITO图形和银浆图形，减少了工艺流程提高了产品的生产效率和良率，在蚀刻过程中无酸碱溶剂不会造成环境的污染且无需增加纯水清洗系统节省了纯水资源及制水系统的成本；对ITO图形和银浆图形的同步蚀刻避免了图形之间的套版或搭接尺寸的需求结合超细激光蚀刻银浆和超细激光蚀刻设备的采用可以极大的减少GFF结构两侧的边框尺寸实现全面屏需求的GFF超窄边框产品。
技术研发人员：周志强;李金雄;梁巨春;钱鼎林
受保护的技术使用者：深圳市鸿展光电有限公司
技术研发日：2018.11.05
技术公布日：2019.03.15