金属网格触摸屏用基材、金属网格触摸屏及触摸显示装置的制作方法

本实用新型涉及触摸显示技术领域，更具体地说，涉及一种金属网格触摸屏用基材、金属网格触摸屏及触摸显示装置。

背景技术：

金属网格类触摸屏凭借其低电阻、一体化、制程简单的优势在市场中越来越受到关注。尤其是超低电阻的特性使得其能在中大尺寸中得到很好的运用，并且能支持主动笔。

在制作金属网格触摸屏用基材时，需要先在菲林-金属层上设置干膜，然后图案化干膜，即在干膜上设置网格图案，以图案化的干膜为掩膜蚀刻金属层，以在菲林上形成需要的金属网格图案，从而获取金属网格触摸屏用基材，但是在此过程中由于干膜与金属层的附着力差，加上干膜为负性光阻，机理是光聚合反应，显影留下来的为小分子，内聚力弱，在高压喷淋清洗或蚀刻时容易使干膜自金属层上脱落，进而在制作金属网格图案时出现图案缺失等情况，从而降低制取的金属网格图案的精度。

技术实现要素：

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种金属网格触摸屏基材、金属网格触摸屏及触摸显示装置，以保证制取的金属网格层和第一金属掺杂氮化铜层的制作精度高。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种金属网格触摸屏用基材，所述金属网格触摸屏用基材包括：

基板和触摸功能层；

所述触摸功能层包括：均网格化、网格相同且对应设置的金属网格层和第一金属掺杂氮化铜层；所述金属网格层设置在所述基板上；所述第一金属掺杂氮化铜层设置在所述金属网格层上。

可选的，所述触摸功能层还包括：第二金属掺杂氮化铜层；所述第二金属掺杂氮化铜层设置在基板上；所述金属网格层设置在所述第二金属掺杂氮化铜层上。

可选的，所述第一金属掺杂氮化铜层为铁掺杂氮化铜层、铝掺杂氮化铜层和锌掺杂氮化铜层中的任意一种。

可选的，所述第二金属掺杂氮化铜层为铁掺杂氮化铜层、铝掺杂氮化铜层和锌掺杂氮化铜层中的任意一种。

可选的，所述金属网格层的材料为铜、铝和银中的任意一种。

可选的，所述基板为菲林基板。

一种金属网格触摸屏，包括至少一个上述金属网格触摸屏用基材。

可选的，所述金属网格触摸屏包括两个所述金属网格触摸屏用基材为：第一金属网格触摸屏用基材和第二金属网格触摸屏用基材；

其中，所述第一金属网格触摸屏用基材的第一金属掺杂氮化铜层，与所述第二金属网格触摸屏用基材的基板之间通过粘结层粘接。

可选的，所述粘结层为光学胶粘结层。

一种触摸显示装置，所述触摸显示装置包括上述的金属网格触摸屏。

从上述技术方案可以看出，本实用新型提供了一种金属网格触摸屏基材、金属网格触摸屏及触摸显示装置，其中，所述金属网格触摸屏用基材包括：基板和触摸功能层；所述触摸功能层包括：均网格化、网格相同且对应设置的金属网格层和第一金属掺杂氮化铜层；所述金属网格层设置在所述基板上；所述第一金属掺杂氮化铜层设置在所述金属网格层上。本实用新型提供的技术方案，采用第一金属掺杂的氮化铜层作为触摸功能层上的黑化层，由于第一金属掺杂的氮化铜层中的金属离子会随机的在第一金属掺杂的氮化铜层的表面堆积，形成凹凸不平的微表面，所以在制取所述金属网格触摸屏用基材时，第一金属掺杂的氮化铜膜层与干膜热压贴合冷却后，第一金属掺杂的氮化铜膜层的凹凸不平的表面可以与干膜形成强的咬合力，从而大大增强干膜与第一金属掺杂的氮化铜膜层的粘附力，后续以图案化的干膜为掩膜进行高压喷淋清洗或蚀刻时，干膜不易从第一金属掺杂的氮化铜膜层上脱落，进而能够保证制取的金属网格层和第一金属掺杂氮化铜层的制作精度高。此外，本申请提供的第一金属掺杂的氮化铜层能够作为触摸功能层上的黑化层，以对金属网格层进行遮挡而降低其反射率，进而降低金属网格层的可视性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例一提供的一种金属网格触摸屏用基材结构示意图；

图2为本申请实施例二提供的一种金属网格触摸屏用基材结构示意图；

图3为本申请实施例四提供的一种金属网格触摸屏结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本申请实施例一提供一种金属网格触摸屏用基材,如图1所示，所述金属网格触摸屏用基材包括：

基板1和触摸功能层；

所述触摸功能层包括：均网格化、网格相同且对应设置的金属网格层2和第一金属掺杂氮化铜层3；所述金属网格层2设置在所述基板1上；所述第一金属掺杂氮化铜层3设置在所述金属网格层2上。

其中，所述基板为菲林基板。

所述金属网格层用于导电以起到触摸驱动和/或感应的作用，所述金属网格层材料为铜、铝和银中的任意一种。

所述第一金属掺杂氮化铜层为铁掺杂氮化铜层、铝掺杂氮化铜层和锌掺杂氮化铜层中的任意一种。所述第一金属掺杂氮化铜层可以做为金属网格触摸屏用基材中的黑化层，通过第一金属掺杂氮化铜层覆盖金属网格层，以降低金属网格层的反射率，进而降低金属网格层的可视性。

需要说明的是，本申请实施例提供的基板、金属网格层和第一金属掺杂氮化铜层，其材质并不局限于上述实施例中提供的材质，上述实施例提供的材质仅仅为本申请可实现的众多实施例中的几种材质，对此需要根据实际应用进行具体设计。

所述铁掺杂氮化铜层的制取方式为用氮气作为反应气体，氩气作为轰击靶材的离子源，采用一个直流铜靶和一个射频铁靶同时进行溅射的方法获取铁掺杂氮化铜层。

所述铝掺杂氮化铜层的制取方式为用氮气作为反应气体，氩气作为轰击靶材的离子源，采用一个直流铜靶和一个射频铝靶同时进行溅射的方法获取铝掺杂氮化铜层。

所述锌掺杂氮化铜层的制取方式为用氮气作为反应气体，氩气作为轰击靶材的离子源，采用一个直流铜靶和一个射频锌靶同时进行溅射的方法获取锌掺杂氮化铜层。

本实施例一中的所述金属网格触摸屏用基材的制取过程为：在基板上设置金属层；在金属层上设置第一金属掺杂氮化铜膜层；在第一金属掺杂氮化铜膜层上设置干膜，具体为：将第一金属掺杂氮化铜膜层与干膜热压贴合并冷却；图案化干膜，即在干膜上设置网格图案，以图案化的干膜为掩膜蚀刻所述第一金属掺杂氮化铜膜层和金属层，以在基板上形成均网格化、网格相同且对应设置的金属网格层2和第一金属掺杂氮化铜层3；最后剥离所述干膜形成所述金属网格触摸屏用基材，其中所述干膜为用来制作图案的感光材料。

金属掺杂的氮化铜材料中的金属离子会随机的在整片第一金属掺杂的氮化铜层的表面堆积，形成凹凸不平的微表面，第一金属掺杂的氮化铜膜层与干膜贴合后，凹凸不平的表面可以与干膜形成强的咬合力，增强干膜与第一金属掺杂的氮化铜膜层的粘附力。

因为干膜为负性光阻，显影留下来的部分为耐显影液的小分子，小分子在热压过程中通过布朗运动能与衬底分子达到紧密接触，所以其与衬底粘附力强，但小分子内聚力弱，不耐喷淋清洗和蚀刻。本实施例中通过在第一金属掺杂的氮化铜膜层表面形成一层凹凸不平的界面，能解决干膜中小分子内聚力弱不耐喷淋清洗和蚀刻的缺陷。

在本实施例一中采用第一金属掺杂的氮化铜层作为触摸功能层上的黑化层，由于第一金属掺杂的氮化铜层中的金属离子会随机的在第一金属掺杂的氮化铜层的表面堆积，形成凹凸不平的微表面，所以在制取所述金属网格触摸屏用基材时，第一金属掺杂的氮化铜膜层与干膜热压贴合冷却后，第一金属掺杂的氮化铜膜层的凹凸不平的表面可以与干膜形成强的咬合力，从而大大增强干膜与第一金属掺杂的氮化铜膜层的粘附力，后续以图案化的干膜为掩膜进行高压喷淋清洗或蚀刻时，干膜不易从第一金属掺杂的氮化铜膜层上脱落，进而能够保证制取的金属网格层和第一金属掺杂氮化铜层的制作精度高。

此外，本实施例一提供的第一金属掺杂的氮化铜层能够作为触摸功能层上的黑化层，以对金属网格层进行遮挡而降低其反射率，进而降低金属网格层的可视性。

本申请实施例二提供一种金属网格触摸屏用基材,如图2所示，所述金属网格触摸屏用基材包括：

基板1和触摸功能层；

所述触摸功能层包括：均网格化、网格相同且对应设置的金属网格层2第一金属掺杂氮化铜层3和第二金属掺杂氮化铜层4；所述第二金属掺杂氮化铜层4设置在基板1上；所述金属网格层设置2在所述第二金属掺杂氮化铜层4上；所述第一金属掺杂氮化铜层3设置在所述金属网格层2上。

其中，所述基板为菲林基板。

所述金属网格层用于导电以起到触摸驱动和/或感应的作用，所述金属网格层材料为铜、铝和银中的任意一种。

所述第一金属掺杂氮化铜层为铁掺杂氮化铜层、铝掺杂氮化铜层和锌掺杂氮化铜层中的任意一种。

所述第二金属掺杂氮化铜层为铁掺杂氮化铜层、铝掺杂氮化铜层和锌掺杂氮化铜层中的任意一种。

所述第一金属掺杂氮化铜层和第二金属掺杂氮化铜层可以做为金属网格触摸屏用基材中的黑化层，通过第一金属掺杂氮化铜层和第二金属掺杂氮化铜层覆盖金属网格层以降低金属网格层的反射率，进而降低金属网格层的可视性。

需要说明的是，本申请实施例提供的基板、金属网格层、第一金属掺杂氮化铜层和第二金属掺杂氮化铜层，其材质并不局限于上述实施例中提供的材质，上述实施例提供的材质仅仅为本申请可实现的众多实施例中的几种材质，对此需要根据实际应用进行具体设计。

所述铁掺杂氮化铜层的制取方式为用氮气作为反应气体，氩气作为轰击靶材的离子源，采用一个直流铜靶和一个射频铁靶同时进行溅射的方法获取铁掺杂氮化铜层。

所述铝掺杂氮化铜层的制取方式为用氮气作为反应气体，氩气作为轰击靶材的离子源，采用一个直流铜靶和一个射频铝靶同时进行溅射的方法获取铝掺杂氮化铜层。

所述锌掺杂氮化铜层的制取方式为用氮气作为反应气体，氩气作为轰击靶材的离子源，采用一个直流铜靶和一个射频锌靶同时进行溅射的方法获取锌掺杂氮化铜层。

本实施例二中的所述金属网格触摸屏用基材的制取过程为：在基板上设置第二金属掺杂氮化铜膜层，在第二金属掺杂氮化铜膜层上设置金属层；在金属层上设置第一金属掺杂氮化铜膜层；在第一金属掺杂氮化铜膜层上设置干膜，具体为：将第一金属掺杂氮化铜膜层与干膜热压贴合并冷却；图案化干膜，即在干膜上设置网格图案，以图案化的干膜为掩膜蚀刻所述第一金属掺杂氮化铜膜层、金属层和第二金属掺杂氮化铜膜层，以在基板上形成均网格化、网格相同且对应设置的金属网格层2、和第一金属掺杂氮化铜层3和第二金属掺杂氮化铜层4；最后剥离所述干膜，其中所述干膜为用来制作图案的感光材料。

金属掺杂的氮化铜材料中的金属离子会随机的在整片第一金属掺杂的氮化铜层和第二金属掺杂的氮化铜层的表面堆积，形成凹凸不平的微表面。第一金属掺杂的氮化铜膜层与干膜贴合后，凹凸不平的表面可以与干膜形成强的咬合力，增强干膜与第一金属掺杂的氮化铜膜层的粘附力。第二金属掺杂的氮化铜膜层同样可以增强其与金属网格层和基板之间的粘附力。

因为干膜为负性光阻，显影留下来的部分为耐显影液的小分子，小分子在热压过程中通过布朗运动能与衬底分子达到紧密接触，所以其与衬底粘附力强，但小分子内聚力弱，不耐喷淋清洗和蚀刻。本实施例中通过在第一金属掺杂的氮化铜膜层表面形成一层凹凸不平的界面，能解决干膜中小分子内聚力弱不耐喷淋清洗和蚀刻的缺陷。

在本实施例二中采用第一金属掺杂的氮化铜层和第二金属掺杂的氮化铜层作为触摸功能层的黑化层，由于金属掺杂的氮化铜材料中的金属离子会随机的在第一金属掺杂的氮化铜层和第二金属掺杂的氮化铜层的表面堆积，形成凹凸不平的微表面。

所以在制取所述金属网格触摸屏基材时，第一金属掺杂的氮化铜膜层与干膜热压贴合冷却后，第一金属掺杂的氮化铜膜层的凹凸不平的表面可以与干膜形成强的咬合力，从而大大增强干膜与第一金属掺杂的氮化铜膜层的粘附力，后续以图案化的干膜为掩膜进行高压喷淋清洗或蚀刻时，干膜不易从第一金属掺杂的氮化铜膜层上脱落，进而能够保证制取的金属网格层和第一金属掺杂氮化铜层的制作精度高。

且第二金属掺杂的氮化铜层具有的凹凸不平的微表面会增加第二金属掺杂的氮化铜层表面与基板和金属网格层之间的咬合力；从而大大增加第二金属掺杂的氮化铜层与金属网格层和基板之间的粘附力。

本申请实施例三提供一种金属网格触摸屏,所述金属网格触摸屏包括上述任一实施例中的金属网格触摸屏用基材。

本申请实施例四提供一种金属网格触摸屏,如图3所示，所述金属网格触摸屏包括两个所述金属网格触摸屏用基材为：第一金属网格触摸屏用基材31和第二金属网格触摸屏用基材32；

其中，所述第一金属网格触摸屏用基材31的第一金属掺杂氮化铜层311，与所述第二金属网格触摸屏用基材32的基板321之间通过粘结层33粘接。

具体的，所述粘结层33为光学胶粘结层。

本申请实施例五提供一种触摸显示装置，所述触摸显示装置包括上述任一实施例中的金属网格触摸屏。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。