其中第五膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。
[0014]所述步骤1)中，对基板清洗的具体方法如下:将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟。
[0015]本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基板制成的电极，并通过电子枪高温轰击将高纯度金属或金属氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基板并最终在基板上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制造的膜层致密性好、粘结力强及纯净度尚ο
[0016]本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，主要起到控制过滤波长的效果，本发明在触摸显示屏基板外表面蒸镀设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，有效滤去了绝大部分蓝光，本发明第三膜层的金属层提升了防蓝光效果和清晰度。通过上述膜层相互配合，本发明在触摸显示屏的基板上镀有的多个膜层能有效地过滤33%以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升清晰度，从而提高触摸显示屏的整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，通过对有害蓝光的过滤能有效的缓解视觉疲劳。利用银的氧化物在电子枪蒸镀的作用下银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着形成薄层的纳米银层，纳米单质银杀菌效应使其拥有杀菌能力，纳米单质银是无毒无刺激的，在保证了触摸显示屏足够的杀菌能力的同时，避免人体受到伤害，此外设置高硬度层能够显著提高触摸显示屏的耐磨性。
【附图说明】
[0017]以下结合附图和【具体实施方式】对本发明做进一步详细说明:
图1为本发明过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏的分解图。
【具体实施方式】
[0018]如图1所示，本发明包括基板1，基板1的外表面从里到外依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5和第五膜层6，第一膜层2为五氧化三钛层，第一膜层2的厚度为10-100nm;第二膜层3为二氧化硅层，第二膜层3的厚度为50-100nm;第三膜层4为金属层，第三膜层4的厚度为5-20nm;所述第四膜层5为纳米银层，第四膜层5的厚度为10-100nm;第五膜层6为高硬度层，该第五膜层6的厚度为10-50nm。
[0019]其中，金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并使用电子枪蒸镀成型。金属层也可以的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并使用电子枪蒸镀成型。
[°02°]高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并使用电子枪蒸镀成型。
[0021]所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型;所述银的氧化物为Ag20、Ag0 或 Ag2〇3。
[0022]另外，基板1为树脂或玻璃成型。
[0023]实施例1:
触摸显示屏的基板1为树脂成型时，该触摸显示屏的制造方法具体包括以下步骤:
1)对基板1的外表面进行清洗；
2)对基板1的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2: 将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第一膜层2的膜材，第一膜层2的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板1的外表面，同时控制第一膜层2蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层2最终形成后的厚度为10-100nm，其中第一膜层2的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层3:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为7A/S，第二膜层3最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层3的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层4:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为1A/S，第三膜层4最终形成后的厚度为5-20nm，其中第三膜层4的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铀合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层5:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第四膜层5的膜材，其中第四膜层5的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第四膜层5的膜材的银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着于上述步骤C中第三膜层4的表面，同时控制第四膜层5蒸镀的速率为1A/S，第四膜层5最终形成后的厚度为5-20nm的薄层的纳米银层;其中所述银的氧化物为Ag20、Ag0或Ag2〇3;
E、镀第五膜层6:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第五膜层6的膜材，第五膜层6的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7A/S，第五膜层6最终形成后的厚度为10-50nm，其中第五膜层6的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。
[0024]步骤1)中，对基板1的清洗具体方法如下:将基板1放在真空腔内，用离子枪轰击基板1的外表面3分钟。
[0025]通过上述方法制得的触摸显示屏上的各膜层在零下20°C时的附着力为2_4hrs，在80°C时的附着力为2-4hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、纯净度高。而且，该触摸显示屏能有效地过滤33%以上有害蓝光，而且整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，通过对有害蓝光的过滤能有效的缓解视觉疲劳，利用银的氧化物在电子枪蒸镀的作用下银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着形成薄层的纳米银层，纳米单质银杀菌效应使其拥有杀菌能力，纳米单质银是无毒无刺激的，在保证了触摸显示屏足够的杀菌能力的同时，避免人体受到伤害，最外层为使用高硬度材料成型的高硬度层使得该触摸显示屏具有较高的耐磨性。
[0026]实施例2:
触摸显示屏的基板1为玻璃成型时，该触摸显示屏的制造方法具体包括以下步骤: 1)对基板1的外表面进行清洗；
2)对基板1的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2:
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第一膜层2的膜材，第一膜层2的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板1的外表面，同时控制第一膜层2蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层2最终形成后的厚度为10-100nm，其中第一膜层2的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层3:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为7A/S，第二膜层3最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层3的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层4:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为1A/S，第三膜层4最终形成后的厚度为5-20nm，其中第三膜层4的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铀合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层5:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第四膜层5的膜材，其中第四膜层5的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第四膜层5的膜材的银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着于上述步骤C中第三膜层4的表面，同时控制第四膜层5蒸镀的速率为1A/S，第四膜层5最终形成后的厚度为5-20nm的薄层的纳米银层;其中所述银的氧化物为Ag20、Ag0或Ag2〇3;
E、镀第五膜层6:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第五膜层6的膜材，第五膜层6的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第