四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7A/S，第五膜层6最终形成后的厚度为10-50nm，其中第五膜层6的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。
[0027]步骤1)中，对基板1的清洗具体方法如下:将基板1放在真空腔内，用离子枪轰击基板1的外表面5-10分钟。
[0028]通过上述方法制得的触摸显示屏上的各膜层在零下20°C时的附着力为6_9hrs，在80°C时的附着力为6-9hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、纯净度高。而且，该触摸显示屏能有效地过滤33%以上有害蓝光，而且整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，通过对有害蓝光的过滤能有效的缓解视觉疲劳，利用银的氧化物在电子枪蒸镀的作用下银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着形成薄层的纳米银层，纳米单质银杀菌效应使其拥有杀菌能力，纳米单质银是无毒无刺激的，在保证了触摸显示屏足够的杀菌能力的同时，避免人体受到伤害，最外层为使用高硬度材料成型的高硬度层使得该触摸显示屏具有较高的耐磨性。
【主权项】
1.一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏，包括基板，其特征在于:所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层，所述第一膜层为五氧化三钛层，第一膜层的厚度为10-100nm;所述第二膜层为二氧化硅层，第二膜层的厚度为50-100nm;第三膜层为金属层，第三膜层的厚度为5-20nm;所述第四膜层为纳米银层，第四膜层的厚度为5-20nm;所述第五膜层为高硬度层，该第五膜层的厚度为10-50nmo2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏，其特征在于:所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并使用电子枪蒸镀成型。3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏，其特征在于:所述金属层的膜材为金合金、银合金、铀合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并使用电子枪蒸镀成型。4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏，其特征在于:所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型;所述银的氧化物为Ag20、Ag0或Ag203。5.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏，其特征在于:所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并使用电子枪蒸镀成型。6.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏，其特征在于:所述基板为树脂或玻璃成型。7.—种根据权利要求6所述过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏的制造方法，其特征在于:所述触摸显示屏的基板为树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤: 1)对基板的外表面进行清洗； 2)对基板的外表面进行镀膜； A、镀第一膜层: 将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-1 OOnm，其中第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层； B、镀第二膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7A/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层的膜材为二氧化硅，二氧化硅层； C、镀第三膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1A/S，第三膜层最终形成后的厚度为5_20nm，其中第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层； D、镀第四膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，其中第四膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第四膜层的膜材的银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为1A/S，第四膜层最终形成后的厚度为5_20nm的薄层的纳米银层;其中所述银的氧化物为Ag20、Ag0或Ag2〇3 ； E、镀第五膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70°C，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7A/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第五膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。8.根据权利要求7所述的一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏的制造方法，其特征在于:所述步骤1)中，对基板清洗的具体方法如下:将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面3分钟。9.一种根据权利要求6所述过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏的制造方法，其特征在于:所述触摸显示屏的基板为玻璃成型时，所述制造方法具体包括以下步骤: 1)对基板的外表面进行清洗； 2)对基板的外表面进行镀膜； A、镀第一膜层: 将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5A/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-1 OOnm，其中第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层； B、镀第二膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7A/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm，其中第二膜层的膜材为二氧化硅，二氧化硅层； C、镀第三膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1A/S，第三膜层最终形成后的厚度为5_20nm，其中第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层； D、镀第四膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，其中第四膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下第四膜层的膜材的银的氧化物蒸发后分解，以纳米级单质银的形式附着于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为1A/S，第四膜层最终形成后的厚度为5_20nm的薄层的纳米银层;其中所述银的氧化物为Ag20、AgO或Ag2〇3 ； E、镀第五膜层: 保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300°C，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7A/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第五膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。10.根据权利要求9所述的一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏的制造方法，其特征在于:所述步骤1)中，对基板清洗的具体方法如下:将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟。
【专利摘要】本发明公开了一种过滤蓝光杀菌的耐磨触摸显示屏及其制造方法，触摸显示屏包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层和第五膜层，所述第一膜层为五氧化三钛层，所述第二膜层为二氧化硅层，第三膜层为金属层，所述第四膜层为纳米银层，所述第五膜层为高硬度层。其制造方法包括以下步骤：1）对基板进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜。本发明的触摸显示屏能有效地过滤33％以上有害蓝光，而且整体清晰度高，并利用纳米银层的纳米单质银杀菌效应使其拥有杀菌能力，保证了触摸显示屏足够的杀菌能力，最外层为使用高硬度材料成型的高硬度层使得该触摸显示屏具有较高的耐磨性。
【IPC分类】G06F3/041
【公开号】CN105446541
【申请号】CN201511031995
【发明人】吴晓彤, 方俊勇
【申请人】奥特路（漳州）光学科技有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年12月31日