所有数据的标准差，用公式来表示即为:T_test= [mean (参照组)_ mean (实验组)]/stdev (实验组和参照组所有数据)，其中，公式中的mean在统计学中表示“均值”, stdev在统计学中表示“标准差”。T-test值越小，表示参照组数据和实验组数据差异性越小，相似度高；反之，T-test值越大，表示参照组数据和实验组数据差异性越大，相似度低。
[0033]平均值变动系数可以用CV来表示，其可以定义为参照组数据的均值与实验组数据的均值的差除以参照组数据的均值，用公式表示即为:CV= [mean(参照组)-mean(实验组)]/mean (参照组)。
[0034]方差比可以用VR来表示，其可以定义为实验组数据与参照组数据的标准差之比，用公式表示即为:VR = stdev (实验组)/stdev (参照组)。
[0035]步骤104:统计采样点中差异显著的点数，所述差异显著的点数定义为平均值变动系数大于第一阈值并且方差比大于第二阈值的点的个数；
[0036]在计算了上述T-test、CV以及VR的值之后，可以根据数学统计上定义出的P值(P value，其中P值与T-test是一一对应的关系)找出差异显著的并且CV大于第一阈值并且VR大于第二阈值的点数，以统计差异显著的点数。差异显著的点数可以用SigDiff (Significant Difference)来表示。可选地,第一阈值可以为20%,第二阈值可以为 50%。
[0037]步骤105:基于采样点数与差异显著的点数计算实验组数据和参照组数据的匹配率；
[0038]具体地，匹配率可以定义为采样点数与差异显著的点数的差除以采样点数。例如，匹配率可以用MR (Match rate)来表示，则当采样点数为25时，实验组数据和参数组数据的匹配率用公式表示即为:MR= (25-SigDiff)/25。当MR>90%时，可以定义为实验组数据和参照组数据没有差异；当MR〈90 %并且MR>80 %时，可以定义为实验组数据和参照组数据有所差异；iMR〈80%时，可以定义为实验组数据和参照组数据有显著差异。
[0039]上述步骤102?步骤105可以总结为两步，即:针对所选择的数据，基于T检验值、平均值变动系数以及方差比来分析比对实验组数据和参照组数据；以及基于分析比对结果，计算实验组数据和参照组数据的匹配率，其中所述匹配率反映实验组数据和参照组数据的相似度。
[0040]步骤106:基于所计算的匹配率以不同的颜色进行显示，以为工程师提供直观的参考。
[0041]如上所述，当MR>90%时，可以显示绿灯表示通过(pass)，则工程师可以判断出实验组数据和参照组数据没有差异；当MR〈90 %并且MR>80 %时，可以显示黄灯表示警告(warning)，则工程师可以判断出实验组数据和参照组数据有所差异；当1?〈80%时，可以显示红灯表示失败(fail)，则工程师可以判断出实验组数据和参照组数据有显著差异，从而指导工程师进行分析总结。
[0042]基于上述晶圆分类原始数据分析的方法，能够对所有的晶圆分类参数进行全面的检测、降低制程改进和新机台认证的时间、降低晶圆花费、减少人力花费的时间、并且能够提高客户对新制程、新流程和新机器释放的信心度。
[0043]根据本发明的另一方面，提供了一种用于工程改变数据分析的系统。所述系统包括在线数据分析单元、缺陷数据分析单元、晶圆验收测试数据分析单元以及良率数据分析单元，并且所述系统还包括晶圆分类原始数据分析，用于当工程改变等级涉及可靠性时进行晶圆分类原始数据分析。
[0044]图2示出了根据本发明的实施例的晶圆分类原始数据分析的系统200的结构框图。如图2所示，晶圆分类原始数据分析的系统200可以包括数据选择单元201，用于从晶圆分类原始数据中选择具有代表性的数据；分析比对单元202，用于针对所选择的数据，基于T检验值、平均值变动系数以及方差比来分析比对实验组数据和参照组数据；以及匹配率计算单元203，用于计算实验组数据和参照组数据的匹配率，所述匹配率可以反映实验组数据和参照组数据的相似度。
[0045]根据本发明的一个优选实施例，T检验值可以定义为参照组数据的均值与实验组数据的均值的差除以实验组数据和参照组数据的所有数据的标准差；平均值变动系数可以定义为参照组数据的均值与实验组数据的均值的差除以参照组数据的均值；以及方差比可以定义为实验组数据与参照组数据的标准差之比。
[0046]根据本发明的一个优选实施例，分析比对单元202可以进一步包括:采样单元2021，用于对所选择的数据中的每一项进行采样；计算单元2022，用于针对采样点中的每一点，计算T检验值、平均值变动系数以及方差比；以及统计单元2023，用于统计采样点中差异显著的点数，所述差异显著的点数可以定义为平均值变动系数大于第一阈值并且方差比大于第二阈值的点的个数。并且匹配率计算单元203可以进一步用于基于采样点数与差异显著的点数计算实验组数据和参照组数据的匹配率。
[0047]根据本发明的一个优选实施例，系统200可以进一步包括显示单元204，用于基于所计算的匹配率以不同的颜色进行显示，以为工程师提供直观的参考。
[0048]本发明已经通过上述实施例进行了说明，但应当理解的是，上述实施例只是用于举例和说明的目的，而非意在将本发明限制于所描述的实施例范围内。此外本领域技术人员可以理解的是，本发明并不局限于上述实施例，根据本发明的教导还可以做出更多种的变型和修改，这些变型和修改均落在本发明所要求保护的范围以内。本发明的保护范围由附属的权利要求书及其等效范围所界定。
【主权项】
1.一种用于工程改变数据分析的方法，包括在线数据分析、缺陷数据分析、晶圆验收测试数据分析以及良率数据分析，其特征在于，所述方法还包括: 当工程改变等级涉及可靠性时，进行晶圆分类原始数据分析。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述晶圆分类原始数据分析进一步包括: 从所述晶圆分类原始数据中选择具有代表性的数据； 针对所选择的数据，基于T检验值、平均值变动系数以及方差比来分析比对实验组数据和参照组数据；以及 基于所述分析比对结果，计算所述实验组数据和所述参照组数据的匹配率，所述匹配率反映所述实验组数据和所述参照组数据的相似度。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于， 所述T检验值定义为所述参照组数据的均值与所述实验组数据的均值的差除以所述实验组数据和所述参照组数据的所有数据的标准差； 所述平均值变动系数定义为所述参照组数据的均值与所述实验组数据的均值的差除以所述参照组数据的均值；以及 所述方差比定义为所述实验组数据与所述参照组数据的标准差之比。4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述分析比对进一步包括: 对所述所选择的数据中的每一项进行采样； 针对采样点中的每一点，计算所述T检验值、所述平均值变动系数以及所述方差比；以及 统计所述采样点中差异显著的点数，所述差异显著的点数定义为所述平均值变动系数大于第一阈值并且所述方差比大于第二阈值的点的个数；并且 所述计算所述实验组数据和所述参照组数据的匹配率进一步包括: 基于采样点数与所述差异显著的点数计算所述实验组数据和所述参照组数据的所述匹配率。5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括:基于所计算的匹配率以不同的颜色进行显示，以为工程师提供直观的参考。6.一种用于工程改变数据分析的系统，包括在线数据分析单元、缺陷数据分析单元、晶圆验收测试数据分析单元以及良率数据分析单元，其特征在于，所述系统还包括: 晶圆分类原始数据分析单元，用于当工程改变等级涉及可靠性时进行晶圆分类原始数据分析。7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述晶圆分类原始数据分析单元进一步包括: 数据选择单元，用于从所述晶圆分类原始数据中选择具有代表性的数据； 分析比对单元，用于针对所选择的数据，基于T检验值、平均值变动系数以及方差比来分析比对实验组数据和参照组数据；以及 匹配率计算单元，用于计算所述实验组数据和所述参照组数据的匹配率，所述匹配率反映所述实验组数据和所述参照组数据的相似度。8.如权利要求7所述的系统，其特征在于， 所述T检验值定义为所述参照组数据的均值与所述实验组数据的均值的差除以所述实验组数据和所述参照组数据的所有数据的标准差； 所述平均值变动系数定义为所述参照组数据的均值与所述实验组数据的均值的差除以所述参照组数据的均值；以及 所述方差比定义为所述实验组数据与所述参照组数据的标准差之比。9.如权利要求7所述的系统，其特征在于，所述分析比对单元进一步包括: 采样单元，用于对所述所选择的数据中的每一项进行采样； 计算单元，用于针对采样点中的每一点，计算所述T检验值、所述平均值变动系数以及所述方差比；以及 统计单元，用于统计所述采样点中差异显著的点数，所述差异显著的点数定义为所述平均值变动系数大于第一阈值并且所述方差比大于第二阈值的点的个数；并且 所述匹配率计算单元进一步用于基于采样点数与所述差异显著的点数计算所述实验组数据和所述参照组数据的所述匹配率。10.如权利要求7所述的系统，其特征在于，所述系统进一步包括显示单元，用于基于所计算的匹配率以不同的颜色进行显示，以为工程师提供直观的参考。
【专利摘要】本发明提供一种用于工程改变数据分析的方法和系统，涉及半导体技术领域。所述用于工程改变数据分析的方法包括在线数据分析、缺陷数据分析、晶圆验收测试数据分析以及良率数据分析，还包括当工程改变等级涉及可靠性时，进行晶圆分类原始数据分析。所述用于工程改变数据分析的系统包括在线数据分析单元、缺陷数据分析单元、晶圆验收测试数据分析单元以及良率数据分析单元，还包括晶圆分类原始数据分析单元，用于当工程改变等级涉及可靠性时进行晶圆分类原始数据分析。上述方法和系统在工程改变数据分析中加入了对晶圆分类原始数据的分析，能够更为准确地得出新制程对工艺改变带来的影响。
【IPC分类】G06F19/00
【公开号】CN105574312
【申请号】CN201410538630
【发明人】潘建峰, 林光启
【申请人】中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2014年10月13日