指纹识别系统处理方法及指纹识别系统的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种指纹识别系统处理方法及指纹识别系统，设计指纹识别技术领域。本发明的指纹识别系统处理方法包括：第一芯片和第二芯片采集用户的指纹图像数据；将采集到的所述图像数据传送至处理单元；所述处理单元依次处理两个芯片采集到的图像数据，并将处理后的图像数据进行拼接处理，以形成指纹图像。由于本发明指纹识别系统处理方法及指纹识别系统将两个小面阵芯片拼接成大面阵芯片，分别采集图像数据后，再集中处理后拼接成指纹识别图像，使得用户在设计小面阵芯片后，无需再设计大面阵芯片，减少了设计成本、开模成本以及开模时间。
【专利说明】
指纹识别系统处理方法及指纹识别系统
技术领域
[0001]本发明涉及指纹识别技术领域，特别是涉及指纹识别系统处理方法及指纹识别系统。
【背景技术】
[0002]为了辨别指纹，目前的指纹识别器主要可以分为光学式指纹识别器以及电容式指纹识别器。其中，电容式指纹识别器的指纹识别芯片一般包括小面阵的芯片和大面阵的芯片。
[0003]大面阵的芯片适合市面上大多指纹识别器，其要求识别精确、录入次数少，其芯片的算法的代码量少、计算量少，当存储多个指纹时，可及时提取数据进行比对。而小面阵的芯片适合手机等移动终端，用于精准识别，由于其芯片的算法要求精准度，且代码量大，无法支持多个指纹，该算法无法提取足够的特征值，即小面阵的芯片不适合市面上大多精度要求不高的指纹识别器，所以小面阵的芯片与大面阵的芯片无法相互替代。而由于小面阵的芯片与大面阵的芯片设计、开模等均不相同，需要的流片成本增加，且开模的费用、开模的时间也会增加。
【发明内容】
[0004]本发明的主要目的在于提供一种指纹识别系统处理方法及指纹识别系统，旨在减少指纹识别系统的开模时间、开模成本。
[0005]为实现上述目的，本发明提供一种指纹识别系统处理方法，其特征在于，所述指纹识别系统处理方法包括以下步骤:
第一芯片和第二芯片采集用户的指纹图像数据；
将采集到的所述图像数据传送至处理单元；
所述处理单元依次处理两个芯片采集到的图像数据，并将处理后的图像数据进行拼接处理；
重复以上步骤，直至形成完整的指纹图像。
[0006]
优选地，所述处理单元依次处理两个芯片采集到的图像数据，包括:
将所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离设为空白点，所述处理单元依次处理第一芯片、空白点、第二芯片的图像数据，并将处理后的图像数据进行拼接处理，以形成指纹图像。
[0007]
优选地，所述将所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离设为空白点，包括:
所述空白点的面积与所述第一芯片和所述芯片上的像素点面积相等，所述空白点的列数与所述像素点的列数相等，所述空白点的行数与所述第一芯片和所述第二芯片之间的距离相关。
[0008]
优选地，当所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离是所述像素点边长的整数倍时，所述处理单元将所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离处理成与所述像素点面积相等的空白点，所述处理单元依次处理第一芯片、空白点、第二芯片的图像数据，以形成指纹图像。
[0009]
优选地，当所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离大于所述像素点边长的整数倍时，则保持所述空白点的行数与该倍数相等，并增加每行空白点的宽度，以将所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离分成所述像素点边长的整数倍，所述处理单元依次处理第一芯片、空白点、第二芯片的图像数据，以形成指纹图像。
[0010]
优选地，所述保持所述空白点的行数与该倍数相等，并增加每行的所述空白点的宽度，包括:
当所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离大于所述像素点边长的整数倍时，将该大于所述像素点边长整数倍的部分平均分为空白点行数份，以使所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离被处理为近似于所述像素点的空白点。
[0011]
优选地，所述重复步骤包括:
用户不断移动手指与所述第一芯片和所述第二芯片的采集区的相对位置，以使所述第一芯片和所述第二芯片采集到完整的指纹图像数据。
[0012]
本发明还提供一种指纹识别系统，包括设置在同一基板上的第一芯片和第二芯片，所述第一芯片和所述第二芯片分别连接于处理器，并将两者采集到的图像数据传送至处理器进行处理。
[0013]
优选地，所述处理器还包括拼接单元，用于将处理后的图像数据进行拼接，以形成指纹图像。
[0014]
与现有技术相比，本发明的有益效果是:由于本发明指纹识别系统处理方法及指纹识别系统将两个小面阵芯片拼接成大面阵芯片，分别采集图像数据后，再集中处理后拼接成指纹识别图像，使得用户在设计小面阵芯片后，无需再设计大面阵芯片，减少了设计成本、开模成本以及开模时间。
【附图说明】
[0015]图1为本发明指纹识别系统处理方法的原理示意图；
图2为本发明指纹识别系统结构示意图；
图3为图2中A的放大示意图；
图4为本发明第一芯片和第二芯片之间的空白部分示意图。
[0016]本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
[0017]
【具体实施方式】
[0018]应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0019]下面结合附图对本发明进一步说明。
[0020]如图1至图4所示，本发明的指纹识别系统处理方法，包括以下步骤:
51、第一芯片2和第二芯片3采集用户的指纹图像数据；
本发明的指纹识别系统通过两个小面阵的芯片拼接而成，在使用时同时采集用户的指纹信息。由于拼接而成的面阵同时增加了面积，更加适用于用户的手指形状，使得采集指纹信息更加完整、精确。
[0021]
52、将采集到的所述图像数据传送至处理单元；
在指纹识别系统中，设有一个处理单元，所述处理单元具体可以为MCU，即两个小面阵的芯片同时与一个MCU连接。该MCU使用大面阵算法，即基于特征值算法，使得指纹识别系统在处理图像数据时计算量更少，同时用户在录入指纹时的次数更少。
[0022]
53、处理单元依次处理两个芯片采集到的图像数据，包括:
S31、如图4所示，将所述第一芯片2与所述第二芯片3之间的距离设为空白点，所述处理单元依次处理第一芯片2、空白点、第二芯片3的图像数据，并将处理后的图像数据进行拼接处理，以形成指纹图像。
[0023]由于本发明的指纹识别系统中的芯片是由两个小面阵的指纹识别芯片拼而成，在工艺上，两个芯片之间会有一个微米级的缝隙，如图3所示，即第一芯片2与第二芯片3之间的距离D。在处理单元处理图像数据时，首先处理第一芯片2采集的图像数据，然后处理两芯片之间的空白部分，最后再处理第二芯片3采集的图像数据。
[0024]在【具体实施方式】中，将所述第一芯片2与所述第二芯片3之间的距离设为空白点，包括:
空白点的面积与第一芯片2和第二芯片3上的像素点面积相等，所述空白点的列数与所述像素点的列数相等，所述空白点的行数与所述第一芯片2和所述第二芯片3之间的距离相关。
[0025]如图3、图4所示，本发明指纹识别系统处理方法将第一芯片2和第二芯片3之间的距离分为与像素点面积相等的空白点，以使处理器在处理两芯片之间的空白时，将其识别为像素点，即该指纹识别系统的采集区域分别对应为:第一芯片2的采集区域、第二芯片3的采集区域，以及第一芯片2与第二芯片3之间的空白部分。
[0026]具体地，在一实施例中，当所述第一芯片2与所述第二芯片3之间的距离是所述像素点边长的整数倍时，所述处理单元将所述第一芯片2与所述第二芯片3之间的距离处理成与所述像素点面积相等的空白点，所述处理单元依次处理第一芯片2、空白点、第二芯片3的图像数据，以形成指纹图像。如图4所示，设像素点的边长为d，当D=N*d，即当两芯片之间的空白部分刚好可以被多数个空白点填充时，则处理器直接以第一芯片2、空白部分、第二芯片3的顺序分别读取、处理图像数据。
[0027]在另一实施例中，当所述第一芯片2与所述第二芯片3之间的距离大于所述像素点边长的整数倍时，则保持所述空白点的行数与该倍数相等，并增加每行空白点的宽度，以将所述第一芯片2与所述第二芯片3之间的距离分成所述像素点边长的整数倍，所述处理单元依次处理第一芯片2、空白点、第二芯片3的图像数据，以形成指纹图像。当D=N*d+A，A〈d，即当两芯片之间的距离与像素点边长除不尽时，则将Λ分为N行，这样，将每行的空白点增加Λ/Ν的宽度，即可减小空白部分由于带来的误差。
[0028]具体地，保持所述空白点的行数与该倍数相等，并增加每行的所述空白点的宽度，包括:
当所述第一芯片2与所述第二芯片3之间的距离大于所述像素点边长的整数倍时，将该大于所述像素点边长整数倍的部分平均分为空白点行数份，以使所述第一芯片2与所述第二芯片3之间的距离被处理为近似于所述像素点的空白点。即，将Λ平均分成N行，以使每个空白点面积相当。
[0029]
54、将处理后的图像数据进行拼接处理；
在进行拼接处理时，指纹图像的上半部分和下半部分即可形成完整的指纹图像，两芯片之间无法读取的部分标示为空白部分即可。
[0030]
55、重复S1~S4，直至形成完整的指纹图像。
[0031]所述重复步骤包括:用户不断移动手指与所述第一芯片2和所述第二芯片3的采集区的相对位置，以使所述第一芯片2和所述第二芯片3采集到完整的指纹图像数据。由于两个芯片拼接形成的空白部分，在注册指纹时，只需多次移动手指，即可读取到芯片在第一次无法读取的部分，以形成完整的指纹图像。
[0032]
本发明还提供一种指纹识别系统，如图2、图3所示，包括设置在同一基板I上的第一芯片2和第二芯片3，所述第一芯片2和所述第二芯片3分别连接于处理器，并将两者采集到的图像数据传送至处理器进行处理。
[0033]在一些实施例中，处理器还包括拼接单元，用于将处理后的图像数据进行拼接，以形成指纹图像。
[0034]应当理解的是，以上仅为本发明的优选实施例，不能因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种指纹识别系统处理方法，其特征在于，所述指纹识别系统处理方法包括以下步骤: 第一芯片和第二芯片采集用户的指纹图像数据； 将采集到的所述图像数据传送至处理单元； 所述处理单元依次处理两个芯片采集到的图像数据，并将处理后的图像数据进行拼接处理； 重复以上步骤，直至形成完整的指纹图像。2.根据权利要求1所述的指纹识别系统处理方法，其特征在于，所述处理单元依次处理两个芯片采集到的图像数据，包括:将所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离设为空白点，所述处理单元依次处理第一芯片、空白点、第二芯片的图像数据，并将处理后的图像数据进行拼接处理，以形成指纹图像。3.根据权利要求2所述的指纹识别系统处理方法，其特征在于，所述将所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离设为空白点，包括: 所述空白点的面积与所述第一芯片和所述第二芯片上的像素点面积相等，所述空白点的列数与所述像素点的列数相等，所述空白点的行数与所述第一芯片和所述第二芯片之间的距离相关。4.根据权利要求3所述的指纹识别系统处理方法，其特征在于，当所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离是所述像素点边长的整数倍时，所述处理单元将所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离处理成与所述像素点面积相等的空白点，所述处理单元依次处理第一芯片、空白点、第二芯片的图像数据，以形成指纹图像。5.根据权利要求3所述的指纹识别系统处理方法，其特征在于，当所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离大于所述像素点边长的整数倍时，则保持所述空白点的行数与该倍数相等，并增加每行空白点的宽度，以将所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离分成所述像素点边长的整数倍，所述处理单元依次处理第一芯片、空白点、第二芯片的图像数据，以形成指纹图像。6.根据权利要求5所述的指纹识别系统处理方法，其特征在于，所述保持所述空白点的行数与该倍数相等，并增加每行的所述空白点的宽度，包括: 当所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离大于所述像素点边长的整数倍时，将该大于所述像素点边长整数倍的部分平均分为空白点行数份，以使所述第一芯片与所述第二芯片之间的距离被处理为近似于所述像素点的空白点。7.根据权利要求1所述的指纹识别系统处理方法，其特征在于，所述重复步骤包括: 用户不断移动手指与所述第一芯片和所述第二芯片的采集区的相对位置，以使所述第一芯片和所述第二芯片采集到完整的指纹图像数据。8.—种指纹识别系统，其特征在于，所述指纹识别系统包括设置在同一基板上的第一芯片和第二芯片，所述第一芯片和所述第二芯片分别连接于处理器，并将两者采集到的图像数据传送至处理器进行处理。9.根据权利要求8所述的指纹识别系统，其特征在于，所述处理器还包括拼接单元，用于将处理后的图像数据进行拼接，以形成指纹图像。
【文档编号】G06K9/00GK106067005SQ201610385119
【公开日】2016年11月2日
【申请日】2016年6月3日 公开号201610385119.4, CN 106067005 A, CN 106067005A, CN 201610385119, CN-A-106067005, CN106067005 A, CN106067005A, CN201610385119, CN201610385119.4
【发明人】胡家安
【申请人】成都艾德沃传感技术有限公司