专利名称：用于压花工艺的组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于将磁盘玻璃基材压花的组合物。
背景技术：
为了满足近来对于提高磁盘记录密度的日益增长的要求，磁盘表面和磁头之间的距离已经显著减小，例如减小到约50-100nm。因此，磁盘表面必须尽可能地平整。磁盘表面的这种高平整度引起了一个问题。即，当磁头停留在磁盘上时，硬盘驱动器不能启动。为了解决这个问题，磁盘基材已经进行压花以便在基材表面上形成线条。
近来，研究已经表明，当在表面上具有微小压花线条的基材上形成磁性层时，与在表面上没有压花线条的基材上形成磁性层的情况相比，磁性能和电磁转化特性得到改进。因此，压花是一种生产高记录密度的硬盘的必要工艺。
压花是这样的方法，其中磁盘基材通过与在其上粘附有特定粒度的磨料粒的胶粘带进行滑动接触或与使用载体(例如带)的磨料粒悬浮液进行滑动接触而被擦磨，从而在磁盘基材表面上形成微小线条。一般来说，作为用于形成这种压花线条的组合物，已经使用一种通过将由金刚石或氧化铝形成的磨料粒与抛光液体混合而制得的浆液。
镀NiP的铝基材(即铝基材)通常用作磁盘基材。但是，近年来，已经使用磁盘玻璃基材，这是由于它们的性能，包括重量轻和刚性高。因此，对于磁盘玻璃基材而言，对压花的需要越来越高，以便通过减少基材表面与磁头之间的距离来改进磁性能和电磁转化特性，从而达到高记录密度。
但是，非常难以象在铝基材上那样在磁盘玻璃基材上形成这种微小压花线条，这是因为磁盘玻璃基材具有高刚性和高硬度的特性。
本发明的目的是提供一种能将磁盘玻璃基材压花的组合物，一种用于压花的浆液，一种生产已经进行压花的磁盘玻璃基材的方法，以及通过该方法生产的磁盘玻璃基材。
本发明的公开内容本发明提供了一种用于将磁盘玻璃基材压花的组合物，它包含磨料粒、溶剂和氟化物。
氟化物是选自氟化铵、氟化钾和氟化钠的至少一种物质。
在该组合物中，氟化物的含量在基于组合物总量计的0.01-10质量％的范围内，氟离子的浓度在0.003-3mol/kg的范围内。
在该组合物中，磨料粒的含量在基于组合物总量计的0.001-5质量％的范围内，磨料粒是选自金刚石、CBN、氧化铝和碳化硅中的至少一种物质的颗粒，并具有最大粒度为5微米或更小，平均粒度在0.01-1微米的范围内。
所述溶剂含有一种能溶解氟化物的物质，该物质是水。
所述溶剂是选自式R1O(CnH2nO)mH的亚烷基二醇单烷基醚(其中R1代表C1-C4直链或支链烷基，m是1、2或3的整数，和n是2或3的整数)及其衍生物、C2-C5多元醇及其衍生物中的至少一种物质。
在该组合物中，溶剂的含量是在基于该组合物总量计的1-50质量％的范围内。
本发明还涉及一种用于压花的浆液，它包含所述组合物，并可以进一步含有选自水、C1-C10一元醇、二醇、C3-C10多元醇、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、四氢呋喃和二噁烷的至少一种附加物质。
在该浆液中，所述组合物的含量是在基于该浆液总量计的10-80质量％的范围内。
本发明还涉及一种生产已经进行压花的磁盘玻璃基材的方法，包括将磁盘玻璃基材的表面压在物体表面上以便在0.98-196N的压力下进行滑动接触；将所述组合物或浆液加到该物体表面和磁盘玻璃基材表面中的至少一个上；使磁盘玻璃基材旋转，同时该物体保持受压，从而在磁盘玻璃基材的表面上进行压花。
在该方法中，所述物体由选自各自从尼龙纤维或聚酯纤维制成的织造织物、非织造织物和植绒织物以及聚氨酯泡沫材料的任何一种材料形成。
在该方法中，磁盘玻璃基材在50-2000rpm范围内的速率下旋转。
在该方法中，磁盘玻璃基材的表面在压花之前无需进行镀NiP，并且由非增强性玻璃、化学增强的玻璃或玻璃陶瓷形成。
本发明还涉及通过上述方法生产的或通过使用上述组合物或浆液压花而生产的磁盘玻璃基材。
附图简述
图1(a)是示意性前视图，显示磁盘基材根据本发明进行压花的状态。
图1(b)是显示图1状态的示意图。
本发明的最佳实施方式本发明涉及一种用于将磁盘玻璃基材压花的组合物，它包含磨料粒和溶剂，其特征在于进一步包含氟化物。
在压花的过程中，在本发明用于将磁盘玻璃基材压花的组合物中所含的氟化物通过其化学作用而使磁盘玻璃基材的表面软化，从而促进将磨料粒的机械作用施加到磁盘玻璃基材的表面上，并通过磨料粒在磁盘玻璃基材上形成压花线条。
在本发明中使用的氟化物根据所用的溶剂和磨料粒的类型而变化。其例子包括烯丙基氟、氟化铝、氟化锑、氟化铵、氟化硫、氟化铀酰、氟代乙烷、氟化镉、氟化钾、氟化镓、氟化钙、氟化银、氟化铬酰、氟化锗、氟化钴、氟化氧、氟化氢、氟氢化铵、氟氢化钾、氟氢化银、氟氢化钴、氟氢化钠、氟氢化铷、氟化锡、氟化锶、氟化铯、氟化铊、氟化钽、氟化钛、氟化铁、氟化铜、氟化钠、氟化铅、氟化镍、氟化腈、氟化钡、氟化铍、氟化镁、氟化锰、氟化钼、氟化锂、氟化钌、氟化铷、六氟硅酸锌、六氟硅酸铵、六氟硅酸镉、六氟硅酸钙、六氟硅酸钴、六氟硅酸汞、六氟硅酸锶、六氟硅酸铊、六氟硅酸铁、六氟硅酸铜、六氟硅酸钠、六氟硅酸铅、六氟硅酸镍、六氟硅酸钡、六氟硅酸镁、六氟硅酸锂、六氟硅酸铷、四氟铍酸铵、四氟铍酸钾、四氟铍酸钠、四氟硼酸铵、四氟硼酸钾、四氟硼酸钠、氟代钼酸铵、氟代钼酸钾、氟代钼酸铊、氟代钼酸钠、氟代硫酸铵、氟代硫酸钾、氟代硫酸钠、氟代硫酸锂、氟代磷酸铵、氟代磷酸钾和氟代磷酸钠。在这些氟化物中，优选的氟化物例如包括氟化铝、氟化锑、氟化铵、氟化硫、氟化铀酰、氟化镉、氟化钾、氟化铬酰、氟化银、氟化锗、氟化钴、氟化氢、氟氢化铵、氟氢化钾、氟氢化银、氟氢化钴、氟氢化钠、氟化氢铷、氟化锡、氟化铯、氟化铊、氟化钽、氟化钛、氟化铜、氟化钠、氟化腈、氟化钡、氟化铍、氟化镁、氟化钼、氟化锂、氟化钌、氟化铷、六氟硅酸锌、六氟硅酸铵、六氟硅酸镉、六氟硅酸钴、六氟硅酸汞、六氟硅酸锶、六氟硅酸铊、六氟硅酸铁、六氟硅酸铜、六氟硅酸钠、六氟硅酸铅、六氟硅酸镍、六氟硅酸镁、六氟硅酸锂、四氟铍酸铵、四氟铍酸钾、四氟铍酸钠、四氟硼酸铵、四氟硼酸钠、氟代钼酸铵、氟代钼酸钾、氟代钼酸钠、氟代硫酸铵、氟代硫酸钾、氟代硫酸钠、氟代硫酸锂、氟代磷酸铵、氟代磷酸钾和氟代磷酸钠。在这些优选的氟化物中，更优选的氟化物例如包括氟化铵、氟化硫、氟化钾、氟化铬酰、氟化氢、氟氢化铵、氟氢化钾、氟氢化钠、氟化钠和四氟硼酸铵。在这些更优选的氟化物中，最优选的氟化物例如包括氟化铵、氟化钾和氟化钠。
为了使用磨料粒在磁盘玻璃基材的表面上形成有利的压花线条，优选的是使在本发明中使用的氟化物均匀地分散在用于将磁盘玻璃基材压花的组合物中。氟化物在该组合物中的均匀分散液通过将含有氟化物的组合物进行机械搅拌或者通过使该组合物进行超声波振动等方法来获得。优选，将一种能溶解氟化物的物质引入在所述组合物中所含的溶剂中，从而使氟化物均匀地溶解或分散在所述组合物中。
能溶解氟化物的物质的例子包括水；C1-C10一元醇，例如甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇和丁醇；丙酮；醚；盐酸；硫酸；硝酸；和乙酸。水是特别优选的。
在本发明中使用的溶剂的例子包括C1-C10一元醇，例如甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇和丁醇；二甲基亚砜(DMSO)，二甲基甲酰胺(DMF)；四氢呋喃；二噁烷；以及它们的衍生物。特别是，优选使用由式R1O(CnH2nO)mH表示的亚烷基二醇单烷基醚(其中R1代表C1-C4直链或支链烷基，m是1、2或3的整数，和n是2或3的整数)及其衍生物，C2-C5多元醇及其衍生物。水是最优选的。
对亚烷基二醇单烷基醚及其衍生物没有特殊的限制，但是具体例子包括乙二醇单甲醚(CH3OCH2CH2OH)，乙二醇单乙醚(C2H5OCH2CH2OH)，乙二醇单丁醚(C4H9OCH2CH2OH)，二乙二醇单甲醚(CH3(OCH2CH2)2OH)，二乙二醇单乙醚(C2H5(OCH2CH2)2OH)，二乙二醇单丁醚(C4H9(OCH2CH2)2OH)，丙二醇单甲醚(CH3OCH(CH3)CH2OH)，丙二醇单乙醚(C2H5OCH(CH3)CH2OH)，丙二醇单丁醚(C4H9OCH(CH3)CH2OH)，二丙二醇单甲醚(CH3(OCH(CH3)CH2)2OH)，二丙二醇单乙醚(C2H5(OCH(CH3)CH2)2OH)，三乙二醇单甲醚(CH3(OCH2CH2)3OH)，二乙二醇单乙醚(C2H5(OCH2CH2)3OH)，和三丙二醇单甲醚(CH3(OCH2CH2CH2)3OH)。
对C2-C5多元醇及其衍生物没有特殊的限制，但是具体例子包括乙二醇(HOCH2CH2OH)，丙二醇(CH3CH(OH)CH2OH)，1，3-丙二醇(HO(CH2)3OH)，1，2-丁二醇(HOCH2CH(OH)CH2CH3)，1，3-丁二醇(HOCH2CH2CH(OH)CH3)，1，4-丁二醇(HO(CH2)4OH)，2，3-丁二醇(CH3CH(OH)CH(OH)CH3)，1，2-戊二醇(HOCH2CH(OH)CH2CH2CH3)，1，3-戊二醇(HOCH2CH2CH(OH)CH2CH3)，1，4-戊二醇(HOCH2CH2CH2CH(OH)CH3)，1，5-戊二醇(HO(CH2)5OH)，2，3-戊二醇(CH3CH(OH)CH(OH)CH2CH3)，2，4-戊二醇(CH3CH(OH)CH2CH(OH)CH3)，2-甲基-1，2-丙二醇(HOCH2C(CH3)(OH)CH3)，2-甲基-1，3-丙二醇(HOCH2CH(CH3)CH2OH)，2-甲基-1，2-丁二醇(HOCH2C(CH3)(OH)CH2CH3)，2-甲基-1，3-丁二醇(HOCH2CH(CH3)CH(OH)CH3)，2-甲基-1，4-丁二醇(HOCH2CH(CH3)CH2CH2OH)，2-甲基-2，3-丁二醇(CH3C(CH3)(OH)CH(OH)CH3)，2-甲基-2，4-丁二醇(CH3C(CH3)(OH)CH3CH2OH)，2-甲基-3，4-丁二醇(CH3CH(CH3)CH(OH)CH2OH)，二甘醇(HOCH2CH2OCH2CH2OH)，三乙二醇(HOCH2CH2OCH2CH2OCH2CH2OH)，聚乙二醇(HO(CH2CH2O)qCH2CH2OH)，二丙二醇(HOCH(CH3)CH2OCH2CH(CH3)OH)，三丙二醇(HOCH(CH3)CH2OCH2CH(CH3)OCH2CH(CH3)OH)，聚丙二醇(HOCH(CH3)CH2O(CH2CH(CH3)O)qCH2CH(CH3)OH)，和甘油(HOCH2CH(OH)CH2OH)。这些醇可以单独使用或其中两种或多种组合使用。在上式中，在代表聚乙二醇和聚丙二醇时，下标“q”是4或更大的整数。
本发明的氟化物的浓度优选在基于用于压花的该组合物总量计的0.01-10质量％的范围内。当氟化物的浓度低于0.01质量％时，难以实现对磁盘玻璃基材表面的充分软化，导致难以形成清晰的压花线条。即使氟化物的浓度升高到超过10质量％，对压花线条的数目和图案的进一步改进也不明显。
在本发明用于压花的组合物中，氟离子的含量优选是基于用于压花的组合物计的0.003-3mol/kg。当氟离子浓度低于0.003mol/kg时，难以实现对磁盘玻璃基材表面的充分软化，导致难以形成清晰的压花线条。即使氟离子的浓度升高到超过3mol/kg，对压花线条数目和图案的进一步改进也不明显。
关于本发明中使用的磨料粒，可以使用通常用作抛光剂的磨料，包括金刚石、CBN、氧化铝、碳化硅、氧化锆和氧化钛。其中特别优选使用金刚石、CBN、氧化铝和碳化硅。这些硬度高的磨料能达到有利的压花性能。
在本发明中用作磨料粒的金刚石是天然存在的或是工业合成的金刚石，其粒度对应于根据JIS R6001-1987规定的磨料或磨料粒的粗粉末或微粉末的粒度。但是，除了这些颗粒之外，还可以使用显示特定粒度分布的颗粒，其中最大粒度为10微米或更小。
在本发明中用作磨料粒的CBN是工业合成的CBN，具有上述根据JISR6001-1987规定的粒度。但是，除了这些颗粒之外，还可以使用显示特定粒度分布的微粒或粉末，其中最大粒度为10微米或更小。
在本发明中用作磨料粒的氧化铝或碳化硅是根据JIS R6111-1987规定的人造磨料或相似的材料，是粒度对应于根据JIS R6001-1987规定的磨料或磨料粒的粗粉末或微粉末的粒度的粉末。此外，用于烧结的氧化铝和碳化硅粉末也包括在本发明的范围内。
优选，上述磨料粒的最大粒度为5μm或更小，更优选3微米或更小。当最大粒度超过5微米时，要形成的压花线条太宽，导致难以形成微小的压花线条。
上述磨料粒的平均粒度在0.01-1微米的范围内，优选0.03-0.5微米。当平均粒度超过1微米时，要形成的压花线条太宽，导致难以形成微小的压花线条，而当平均粒度小于0.01微米时，抛光性能变差，导致难以在磁盘玻璃基材的表面上形成清晰的线条。
在用于压花的组合物中，本发明的磨料粒的含量优选是在基于该组合物总量计的0.001-5质量％的范围内，更优选0.005-1质量％。当磨料粒的含量小于0.001质量％时，用作磨料粒的微粒数目下降，导致难以在磁盘玻璃基材的表面上形成清晰的线条。当磨料粒的含量升高到超过5质量％，对压花线条的数目和图案的进一步改进也不明显，所以证明超过5质量％的含量在经济上是不利的。
在本发明中，可以组合使用两种或多种磨料粒。在这种情况下，磨料粒的总量优选在上述范围内。
在本发明中，溶剂的含量优选是在基于用于压花的组合物总量计的1-50质量％的范围内，更优选3-30质量％。
当溶剂的含量小于1质量％时，该组合物的粘度差，导致难以形成均匀的压花线条，而当该含量超过50质量％时，该组合物的粘度太高，导致难以形成微小的压花线条。
通过使用本发明的用于将磁盘玻璃基材压花的组合物，可以在磁盘玻璃基材的表面上形成均匀和微小的压花线条。
本发明的用于将磁盘玻璃基材压花的组合物可以与其它用于适当调节浓度的溶剂混合，从而得到浆液。对生产浆液的方法没有特殊的限制，但是可以通过适当地选择干式研磨、湿式研磨或其它方法来生产浆液。
干式研磨的例子包括振动磨和喷射磨，湿式研磨法的例子包括球磨和珠磨。
为了调节本发明用于将磁盘玻璃基材压花的组合物的浓度和形成该组合物的浆液，可以向所述组合物中加入醇。特别是，优选使用二醇、C3-C10多元醇、二甲基亚砜(DMSO)、二甲基甲酰胺(DMF)、四氢呋喃和二噁烷。其中，水和C1-C10一元醇是最优选的。
虽然在下面将描述使用本发明用于压花的组合物或浆液进行压花的方法，但本发明不限于此。
在形成压花线条之前对磁盘玻璃基材进行的预处理分为两类，即在磁盘玻璃基材表面上形成底涂层，例如NiP镀层；和在该基材上不形成底涂层。当已经在该基材上形成底涂层时，在底涂层的表面上形成压花线条。压花方法几乎与用底涂层(例如NiP镀层)涂布铝基材时的压花方法相同。当在该基材上不形成底涂层时，在磁盘玻璃基材的表面上形成压花线条。并在压花后的基材上形成底涂层，例如NiP镀层。在后一种情况下，本发明是特别更有效的，其中在没有形成底涂层(例如NiP镀层)的磁盘玻璃基材表面上形成压花线条。
图1(a)是示意性前视图，显示其中磁盘玻璃基材进行压花的状态。图1(b)是显示图1状态的示意图。磁盘玻璃基材1的各表面11与物体(带)2接触，从而进行滑动接触，并通过辊3压在物体(带)2上。从位于带2上的浆液添加装置4按照带2的运动方向，将用于压花的组合物或该组合物的浆液5加到所述带的滑动接触表面上和/或磁盘玻璃基材表面上。磁盘玻璃基材1旋转，同时各带2保持受压状态，从而在磁盘基材的各表面上形成压花线条。在图1(b)中，通过改变辊3的旋转方向，带2可以按照与磁盘基材1旋转方向相同或相反的方向移动。换句话说，在磁盘玻璃基材上的接触部分沿着圆周方向滑动，导致与粘附在带或其它介质上的磨料粒发生滑动接触，从而在基材的表面上形成压花线条。浆液添加装置4的加料方式可以是连续的、间歇的或不连续的。对压制带2的方法没有特殊的限制，但是所述带可以通过辊本身的重量来压制，或可以通过外部压力来压制。
当使用本发明用于压花的组合物或浆液时，考虑到有利地形成压花线条，用于压制进行滑动接触的物体的外部压力优选在0.98-196N(0.1-20kgf)的范围内，更优选4.9-98N(0.5-10kgf)。
在本发明中用于滑动接触的物体(带)的材料例如包括织造织物；非织造织物；各自由尼龙纤维或聚酯纤维等制成的植绒织物；以及聚氨酯泡沫材料。其中，优选使用织造织物。
在压花过程中，磁盘基材1以50-2000rpm旋转，优选100-1000rpm。当旋转速度低于50rpm时，在磁盘玻璃基材上形成压花线条的操作需要相当长的时间，而当旋转速度高于2000rpm时，用于压花的组合物不能保留在底涂层的表面上，并分散到表面的外侧，导致对压花设备的污染，这不是优选的。
在所得的经过压花的底涂层上，形成中间层和磁性层，从而提供磁盘。由于通过镀覆、溅射、蒸汽沉积或其它现有技术形成的中间层和磁性层的厚度小(0.05-0.15微米)，所以在磁性层的表面上再次产生与压花线条基本相似的线条。磁性层可以进一步用保护层涂布，该保护层由高润滑性的材料例如碳通过溅射或相似的方法形成，且厚度小(通常为0.01-0.03微米)。所以，在保护层的表面上也再次产生与压花线条基本相似的线条。
下面将通过实施例详细描述本发明，但不应理解为限制本发明。在以下工作实施例中，二甘醇单丁基醚用作亚烷基二醇单烷基醚，乙二醇用作C2-C5多元醇。但是，本发明不限于使用这些化合物。
工作实施例1-6将用于6.4cm直径磁盘(2.5英寸)的镜面抛光玻璃(化学增强的玻璃)基材进行压花，不需要用NiP镀覆。压花使用如图1所示的压花机(EDC-1800A型，Exclusive Design Inc.的产品)进行。
使该磁盘以40rpm旋转，同时将用于压花磁盘玻璃基材的由下表1所示各组合物形成的浆液从浆液添加装置经由用于滑动接触的带加入待抛光加工的部分的上侧。添加速度是10ml/分钟，并在压花期间连续添加该浆液。
在压花期间，辊的旋转使得所述带以5cm/分钟的速率沿着与磁盘玻璃基材旋转方向相同的方向运行。在压花期间辊的压力是39.2N(4.0kgf)，压花时间是60秒。
在完成压花之后，按照以下方式评价各磁盘玻璃基材。
评价方法(1)观察压花线条使用原子力显微镜(Nanoscope-III，Digital Instruments Inc.的产品)，目测确定在区域(1微米×1微米)内的清晰压花线条的形成。
(2)平均表面粗糙度(Ra)使用接触分布计(Talystep，Rank-Taylor Hobson Inc.的产品)，在完成工艺后检测各磁盘玻璃基材的平均表面粗糙度。
表面粗糙度按照与压花线条垂直的方向(径向)和与压花线条平行的方向检测。进行在这两个方向上的检测，因为考虑到提供数值评价的基础。也就是说，当形成清晰的压花线条时，在径向上检测的平均表面粗糙度应该大于在圆周方向上检测的平均表面粗糙度。
所得的评价结果列在下表1中。
表1
*BG二甘醇单丁醚，EG乙二醇对比例1-6重复进行工作实施例1的工序，不同的是使用下表2中列出的用于磁盘玻璃基材压花的组合物，从而进行压花。按照与工作实施例1相似的方式，在完成压花之后评价磁盘玻璃基材。结果列在下表2中。
表2
*BG二甘醇单丁醚，EG乙二醇当磁盘玻璃基材的表面用本发明用于压花的含有氟化物的组合物进行压花时，如上表1所示形成清晰的压花线条。相比之下，如上表2所示，在相同的条件下，当磁盘玻璃基材的表面用不含氟化物的组合物进行压花时，没有形成压花线条。
工业应用性通过本发明用于压花的组合物，由于氟化物的化学作用和微粒或粉末的物理作用进行了组合，从而在高刚性和高硬度的磁盘玻璃基材表面上形成微小的压花线条。因此，可以获得具有高度规则表面的磁盘玻璃基材。另外，通过使用磁盘玻璃基材，可以生产这样的磁性介质，它显示高磁性各向异性，通过降低磁头的飞行高度而获得高记录密度，和通过防止出现磁头的粘附而具有可靠性。
权利要求
1.一种用于将磁盘玻璃基材压花的组合物，它包含磨料粒、溶剂和氟化物。
2.根据权利要求1的组合物，其中氟化物是选自氟化铵、氟化钾和氟化钠的至少一种物质。
3.根据权利要求1或2的组合物，其中溶剂含有能溶解氟化物的物质。
4.根据权利要求3的组合物，其中所述物质是水。
5.根据权利要求1-4中任一项的组合物，其中所述溶剂是选自式R1O(CnH2nO)mH的亚烷基二醇单烷基醚(其中R1代表C1-C4直链或支链烷基，m是1、2或3的整数，和n是2或3的整数)及其衍生物、C2-C5多元醇及其衍生物中的至少一种物质。
6.根据权利要求1-5中任一项的组合物，其中所述磨料粒是选自金刚石、CBN、氧化铝和碳化硅中的至少一种物质的颗粒。
7.根据权利要求1-6中任一项的组合物，其中在该组合物中，氟化物的含量在基于组合物总量计的0.01-10质量％的范围内。
8.根据权利要求1-7中任一项的组合物，其中在该组合物中，氟离子的浓度在0.003-3mol/kg的范围内。
9.根据权利要求1-8中任一项的组合物，其中所述磨料粒的最大粒度为5微米或更小。
10.根据权利要求1-9中任一项的组合物，其中所述磨料粒的平均粒度在0.01-1微米的范围内。
11.根据权利要求1-10中任一项的组合物，其中在该组合物中，磨料粒的量在基于组合物总量计的0.001-5质量％的范围内。
12.根据权利要求1-11中任一项的组合物，其中在该组合物中，溶剂的含量是在基于该组合物总量计的1-50质量％的范围内。
13.一种用于压花的浆液，它包含根据权利要求1-12中任一项的组合物。
14.根据权利要求13的浆液，进一步含有选自水、C1-C10一元醇、二醇、C3-C10多元醇、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、四氢呋喃和二噁烷的至少一种附加物质。
15.根据权利要求13或14的浆液，其中在该浆液中，所述组合物的含量是在基于该浆液总量计的10-80质量％的范围内。
16.一种生产已经进行压花的磁盘玻璃基材的方法，包括将磁盘玻璃基材的表面压在物体表面上以便在0.98-196N的压力下进行滑动接触；将根据权利要求1-12中任一项的组合物加到该物体表面和磁盘玻璃基材表面中的至少一个上；使磁盘玻璃基材旋转，同时该物体保持受压，从而在磁盘玻璃基材的表面上进行压花。
17.一种生产已经进行压花的磁盘玻璃基材的方法，包括将磁盘玻璃基材的表面压在物体表面上以便在0.98-196N的压力下进行滑动接触；将根据权利要求13-15中任一项的浆液加到该物体表面和磁盘玻璃基材表面中的至少一个上；使磁盘玻璃基材旋转，同时该物体保持受压，从而在磁盘玻璃基材的表面上进行压花。
18.根据权利要求16或17的方法，其中所述物体由选自各自从尼龙纤维或聚酯纤维制成的织造织物、非织造织物和植绒织物以及聚氨酯泡沫材料的任何一种材料形成。
19.根据权利要求16-18中任一项的方法，其中磁盘玻璃基材在50-2000rpm范围内的速率下旋转。
20.根据权利要求16-19中任一项的方法，其中磁盘玻璃基材的表面在压花之前无需进行镀NiP。
21.根据权利要求16-20中任一项的方法，其中磁盘玻璃基材由非增强性玻璃、化学增强的玻璃或玻璃陶瓷形成。
22.通过根据权利要求16-21中任一项的方法生产的磁盘玻璃基材。
23.使用根据权利要求1-12中任一项的组合物压花而生产的磁盘玻璃基材。
24.使用根据权利要求13-15中任一项的浆液压花而生产的磁盘玻璃基材。
全文摘要
本发明涉及一种用于将磁盘玻璃基材压花的组合物，它包含磨料粒、溶剂和氟化物。磁盘玻璃基材使用这样的方法生产，该方法包括将磁盘玻璃基材的表面压在物体表面上以便在0.98－196N的压力下进行滑动接触；将所述组合物加到该物体表面和磁盘玻璃基材表面中的至少一个上；使磁盘玻璃基材旋转，同时该物体保持受压，从而在磁盘玻璃基材的表面上进行压花。
文档编号G11B5/84GK1529681SQ0280748
公开日2004年9月15日 申请日期2002年3月27日 优先权日2001年3月27日
发明者山田二郎 申请人:昭和电工株式会社