专利名称：真空处理室的盖体开闭机构以及盖体开闭方法
技术领域：
本发明涉及真空处理技术，特别是涉及适合下述的真空处理装置等的有效的技术，利用该真空处理装置进行液晶显示装置(LCD)或等离子显示器等的平面显示器用的玻璃基板等的基板运送工序，或对上述玻璃基板进行干蚀刻等的真空处理。
背景技术：
在比如LCD的制造工艺中，相对作为被处理基板的LCD玻璃基板，多采用干蚀刻、溅射、CVD(化学气相生长)等的真空处理。
在进行这样的真空处理的真空处理装置中，采用下述的结构，其中，按照与保持真空而进行上述处理的真空处理室邻接的方式，设置真空预备室，在被处理基板的送入送出时，使真空处理内的气氛变化极小。
具体来说，比如，在设置于大气侧的容器和进行蚀刻处理等的真空处理室之间，设置有作为真空预备室的负载锁定室，该负载锁定室具有大气侧和真空侧的界面的功能。
在该负载锁定室中，由于每当被处理基板通过时，反复进行大气开放和直至达到与真空处理室相同程度的高真空的排气，故在生产量的提高的方面，尽可能地减小容积，缩短直至达到高真空的排气所需时间是重要的因素。
由此，负载锁定室内的基板运送所采用的基板运送装置要求可抑制作为设置场所的负载锁定室的容积，作为这样的基板运送装置，比如，人们知道有专利文献1所公开的那样的，连接多个臂的多关节的类型。另外，作为引退状态极力地小，同时可确保大的运送距离的类型，人们还探讨有下述的基板运送装置，其中，具有多个臂直线运动而伸缩的多段伸缩式臂。
但是，在最近，人们对LCD玻璃基板的尺寸增加的要求强烈，直至出现一条边超过1m的而小于2m这样的巨大的类型。在比如，于真空处理室和负载锁定室之间，沿水平方向运送这样的巨大的基板的场合，如果为专利文献1中所描述的那样的多关节型，则难于一边极小地减小设置有基板运送装置的负载锁定室，一边确保对于运送来说足够的行程。另外，在上述那样的多段伸缩式臂中，不得不增加臂的叠置段数，以便确保必要的运送距离，由此，运送装置的高度增加，其结果是，设置有运送装置的负载锁定室的高度增加，负载锁定室的尺寸减小具有限制。
另一方面，在该真空处理装置的保养管理中，具有从真空处理室的基体部，取下盖体，进行内部清扫的情况。在形成排列有多个真空处理室(真空处理装置)的多腔系统的情况下，如果构成为各个的真空处理室具有盖体的开闭机构，则各个设备的设置底面积增加，效率差。特别是，在对大型的基板进行处理的真空处理装置中，由于单体的设备本身的尺寸也增加，故对于每个真空处理室都设置盖体的开闭机构的情况来说，多腔系统的上述底面积的增加尤其显著。专利文献1日本特开2001-148410号文献发明内容本发明是针对上述的情况而提出的，目的在于提供在多个真空处理室(真空处理装置)中共用的盖体开闭机构。
此外，本发明的其它的目的在于提供可在不增加高度方向的设置空间的情况下，增加水平方向的运送距离的基板运送装置，以及采用这样的装置的基板运送方法。
另外，本发明的目的在于提供一种基板运送装置，该基板运送装置可在不增加所设置的真空预备室的容积的情况下，进行通过真空预备室的较大的基板的运送。
本发明的目的在于提供一种基板运送装置，该基板运送装置可提高较大的基板的真空处理的生产率。
为了解决上述课题，本发明提供一种真空处理室的盖体开闭机构，在具有基体部以及以可装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室内，开闭上述盖体，其特征在于，该盖体开闭机构包括可移动的台车、和设置在该台车上的支撑上述盖体的支撑部。
另外，本发明提供一种真空处理室的盖体开闭方法，在具有基体部以及以可装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室内，开闭上述盖体，其特征在于使具有可移动的台车、设置为可在多个上述真空处理室共用的盖体开闭机构，移动至与作为目的的上述真空处理室正对的位置；然后，利用上述盖体开闭机构使上述盖体向上方浮起，使其从上述基体部脱离；然后，使上述盖体向上述台车上移动，开放上述基体部。
此外，在本发明的其他方面中，提供一种基板运送装置，其特征在于该基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部的1个或以可滑动的方式叠置的多个板状臂；和臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在第一位置和第二位置之间，进行上述基板的运送动作，上述各板状臂包括在其内收容上述臂驱动机构的开口部。
另外，本发明还提供一种基板运送装置，该基板运送装置设置于真空处理装置中的上述真空预备室中，该真空处理装置包括真空处理室，该真空处理室在真空中，对基板进行处理；和真空预备室，该真空预备室在将上述基板送入送出上述真空处理室的过程中，临时收容该基板，该真空预备室的内部保持真空，其特征在于，该基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部的1个或以可滑动的方式叠置的多个板状臂；和臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室的第二位置之间进行上述基板的运送动作，上述各板状臂包括在其内收容上述臂驱动机构的开口部。
此外，本发明还提供一种基板运送装置，其特征在于，该基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部上，以可滑动的方式叠置的多个板状臂；臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在第一位置和第二位置之间，进行上述基板的运送动作，上述各板状臂包括在其内，按照沿叠置方向穿过邻接臂相互不重合的位置的方式收容上述臂驱动机构的开口部。
还有，本发明提供一种基板运送方法，该基板运送方法采用基板运送装置运送基板，该基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部的1个或以可滑动的方式叠置的多个板状臂；和臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，其特征在于，形成将上述臂驱动机构收容于上述各板状臂的开口部中的状态，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在第一位置和第二位置之间，进行上述基板的运送动作。
再有，本发明还提供一种真空处理装置，该真空处理装置包括真空处理室，该真空处理室在真空中对基板进行处理；真空预备室，该真空预备室在将上述基板送入送出上述真空处理室的过程中，临时收容该基板，该真空预备室的内部保持真空；基板运送装置，该基板运送装置设置于上述真空预备室中，该基板运送装置在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室内的第二位置之间，进行上述基板的运送动作，其特征在于，上述基板运送装置包括载置基板的支承台；设置于上述支承台的下部的1个或以可滑动的方式叠置的多个板状臂；和臂驱动机构，该臂驱动机构分别设置于上述板状臂上，使位于该板状臂的上侧的上述支承台或上述板状臂滑动，通过使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室内的第二位置之间，进行上述基板的运送动作，上述各板状臂包括在其内收容上述臂驱动机构的开口部。
此外，本发明还提供一种基板运送装置，其特征在于，其包括基座；以可沿前后滑动的方式设置于该基座上的1个臂或上下叠置的多个臂；支承台，该支承台按照可沿前后滑动的方式设置于上述臂中的最上段的臂上，支承基板；驱动源，该驱动源驱动上述臂和支承台；和驱动传递机构，该驱动传递机构将上述驱动源的驱动力传递给上述各臂和上述支承台；上述驱动传递机构在使上述臂中的其中一个臂在第一行程滑动时，使其上的臂或支承台以大于上述第一行程的第二行程滑动；通过上述驱动源和上述驱动传递机构，使上述支承台和上述1个或多个臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在第一位置和第二位置之间，进行上述基板的运送动作。
此外，本发明还提供一种基板运送装置，基板运送装置设置于真空处理装置中的上述真空预备室中，该真空处理装置包括真空处理室，该真空处理室在真空中对基板进行处理；和真空预备室，该真空预备室在将上述基板送入送出上述真空处理室的过程中，临时收容该基板，该真空预备室的内部保持真空，其特征在于，该基板运送装置具有基座；以可沿前后滑动的方式设置于该基座上的1个臂或上下叠置的多个臂；支承台，该支承台可沿前后滑动地设置于上述臂中的最上段的臂上，支承基板；驱动源，该驱动源驱动上述臂和支承台；和驱动传递机构，该驱动传递机构将上述驱动源的驱动力传递给上述各臂和上述支承台，上述驱动传递机构在使上述臂中的其中一个臂在第一行程滑动时，使其上的臂或支承台以大于上述第一行程的第二行程滑动，通过上述驱动源和上述驱动传递机构，使上述支承台和上述1个或多个臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室内的第二位置之间之间，进行上述基板的运送动作。
此外，本发明提供一种基板运送方法，该基板运送方法采用基板运送装置运送基板，该基板运送装置具有基座；按照可沿前后可滑动的方式设置于上述基座上的1个或上下叠置的多个臂；支承台，该支承台按照可沿前后滑动的方式设置于上述臂中的最上段，支承基板；驱动源，该驱动源驱动上述臂和支承台；驱动传递机构，该驱动传递机构将上述驱动源的驱动力传递给上述各臂和上述支承台，其特征在于，通过上述驱动传递机构，在使上述臂中的1个臂在第一行程滑动时，以大于上述第一行程的第二行程，使其上的臂或支承台滑动，使上述支承台和上述板状臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室内的第二位置之间运送基板。
此外，本发明提供一种真空处理装置，该真空处理装置包括真空处理室，该真空处理室在真空中对基板进行处理；真空预备室，该真空预备室在将上述基板送入送出上述真空处理室的过程中，临时收容该基板，该真空预备室的内部保持真空；和基板运送装置，该基板运送装置设置于上述真空预备室中，在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室内的第二位置之间，进行上述基板的运送动作，其特征在于，上述基板运送装置具有基座；以可沿前后滑动的方式设置于该基座上的1个臂或上下叠置的多个臂；支承台，该支承台按照可沿前后滑动的方式设置于上述臂中的最上段的臂上，支承基板；驱动源，该驱动源驱动上述臂和基板支承台；和驱动传递机构，该驱动传递机构将上述驱动源的驱动力传递给上述各臂和上述支承台，上述驱动传递机构在使上述臂中的其中一个臂在第一行程滑动时，使其上的臂或支承台以大于上述第一行程的第二行程滑动，通过上述驱动源和上述驱动传递机构，使上述支承台和上述1个或多个臂在收缩状态和伸长状态之间变化，由此，在上述真空预备室内的第一位置和上述真空处理室内的第二位置之间，进行上述基板的运送动作。
发明的效果如上所述，通过设置对多个真空处理室(真空处理装置)共用的盖体开闭机构，进行保养管理作业等的盖体的开闭，能够实现装置整体的节省空间和由盖体开闭机构的共用产生的成本下降。
此外，按照本发明的其他方面，由于在沿板状臂的叠置方向贯通而设置于各个板状臂上的开口部内，收容臂驱动机构，故可减小臂驱动机构的厚度部分的高度。由此，即使在为了确保较长的运送距离，增加板状臂的叠置数量的情况下，仍可极力地减小高度尺寸的增加量。于是，比如，在与真空处理室邻接的真空预备室中设置基板运送装置，进行水平方向的运送距离较长的较大的基板的运送的真空处理装置等中，不必增加设置该基板运送装置的真空预备室的高度，可防止真空预备室的容积的增加。其结果是，可抑制真空预备室的容积的增加造成的该真空预备室的排气的所需时间的增加，可提高伴随经过真空预备室的运送动作的基板的真空处理工序的生产率。
此外，由于基板运送装置采用下述的方案，其中，该装置包括基座；以可沿前后滑动的方式设置于该基座上的1个臂或上下叠置的多个臂；支承台，该支承台可沿前后滑动地设置于上述臂中的最上段的臂上，支承基板；驱动源，该驱动源驱动上述臂和支承台；和驱动传递机构，该驱动传递机构将上述驱动源的驱动力传递给上述各臂和支承台，由于上述驱动传递机构在按照第一行程使上述臂中的其中一个臂滑动时，使其上的臂或支承台按照大于上述第一行程的第二行程滑动，故与1个臂的滑动行程相比较，可增加其上的臂或支承台的滑动行程。由此，即使在1个臂的滑动行程具有限制的情况下，仍可通过较少的臂数量，获得所需的行程，可减少确保与过去相同的运送行程用的臂的叠置数量，其结果是，可减小运送装置的高度。于是，与上述第一～第五方面相同，在于与真空处理室邻接的真空预备室中设置基板运送装置，进行水平方向的运送距离长的较大的基板的运送的真空处理装置等中，不必增加设置该基板运送装置的真空预备室的高度，可防止真空预备室的容积增大，可抑制真空预备室的排气的所需时间的增加，可提高伴随通过真空预备室的运送动作的基板的真空处理工序的生产率。
图1为表示适用本发明的实施方式1的基板运送装置的真空处理装置的外观的立体图。
图2为表示适用本发明的实施方式1的基板运送装置的真空处理装置中的真空预备室和真空处理室的截面图。
图3为表示本发明的实施方式1的基板运送装置的立体图。
图4为表示本发明的实施方式1的基板运送装置的截面图。
图5为表示本发明的实施方式1的基板运送装置的截面图。
图6为表示包括图1的真空处理装置的多腔系统的结构的一个实例的外观立体图。
图7为表示图6的多腔系统的动作的外观立体图。
图8为表示本发明的实施方式2的基板运送装置的垂直截面图。
图9为表示本发明的实施方式2的基板运送装置的收缩状态的侧视图和平面图。
图10为表示本发明的实施方式2的基板运送装置的伸长状态的侧视图和平面图。
图11为表示本发明的实施方式2的基板运送装置的变形实例的侧视图。
图12为表示本发明的实施方式2的基板运送装置用于下述类型的基板运送装置的实例的垂直截面图，其中，滑动拾取部件按照2段设置，分别独立，可实现基板的出入。
标号说明10真空处理室；14基体部；15盖体；16支承轴；20负载锁定室；30、40门阀；50大气侧运送机构；60真空泵；70、170、300基板传送装置；70a驱动马达；70b驱动皮带；71基座板；71a、72a～73a滑轨；71b开口部；71c、72c～73c皮带轮；71d、72d～73d皮带；71e固定部件；72、73、74滑动板；72b～73b开口部；72e～73e、72f～73f固定部件；74a滑动拾取部；74b滑动轴承部；100真空处理装置；171、271、271’基座部；172、272、272’滑动臂；173、273、273’滑动拾取部件；174、273、274’马达；180、280驱动传递机构；181滑动臂驱动部；182滑动拾取部件驱动部；183驱动皮带轮；184驱动皮带；186轴；187皮带轮(第一皮带轮)；190第一皮带；191第一固定部件；192皮带轮(第二皮带轮)；195第二皮带；196第二固定部件；270下段运送机构部；270’上段运送机构部；280’第一驱动传递机构；290第二驱动传递机构；G基板。
具体实施例方式
下面参照附图，对本发明的实施方式进行具体描述。
(实施方式1)图1为表示适用本发明的实施方式1的基板运送装置的真空处理装置的外观的立体图，图2为表示适用本发明的实施方式1的基板运送装置的真空处理装置中的真空预备室和真空处理室的截面图，图3为表示本发明的实施方式1的基板运送装置的立体图，图4和图5为表示本发明的实施方式1的基板运送装置的截面图。
象图1所示的那样，该真空处理装置100包括真空处理室10，该真空处理室10通过真空气氛，对透明的LCD玻璃基板等的基板G，进行等离子蚀刻处理、薄膜形成处理等的所需的真空处理；负载锁定室20，该负载锁定室20与该真空处理室10连接，用作真空预备室；门阀30，该门阀30设置于真空处理室10和负载锁定室20之间；门阀40，该门阀40将负载锁定室20和外部的大气侧传送机构50隔开。
象图1和图2所示的那样，真空泵60通过排气控制阀61，与真空处理室10连接，可实现达到基板G进行规定的真空处理所必需的真空度的真空排气，处理气体供给部12经气体控制阀11与真空处理室10连接。另外，可在真空处理室10的内部，形成规定的压力的处理气体气氛。在真空处理室10的内部，设置处理台13，载置处理对象的基板G。
真空处理室10由设置有上述处理台13的基体部14和盖体15构成，该盖体15以可装卸的方式设置于该基体部14，设置有将反应能量供给到该真空处理室10的内部的图中未示出的电极，或形成上述处理气体气氛用的图中未示出的气体喷嘴等。在该盖体15上，为了在象后述那样的保养作业时，从基体部14，从外部取下该盖体15，在对称位置，设置一对支承轴16。
真空泵60通过排气控制阀62，与负载锁定室20连接，可进行真空排气，直至与真空处理室10相同的真空度。
在门阀30中，设置有开口部31，该开口部31将真空处理室10和负载锁定室20连通，该开口部31具有可使支承于后述的基板运送装置70上的基板G通过的尺寸；和阀体32，该阀体32进行该开口部31的开闭动作。
在门阀40中，设置有开口部41，该开口部41将负载锁定室20和外部的大气侧连通，该开口部41具有可使支承于上述大气侧运送机构50上的基板G通过的尺寸；和阀体42，该阀体42进行该开口部41的开闭动作。
在负载锁定室20的内部，设置有基板运送装置70。象图3～图5所示的那样，该基板运送装置70包括基座板71，该基座板71固定于负载锁定室20的底部；多个滑动板72，该多个滑动板72按照多段叠置于该基座板71上；滑动板73和载置基板G的作为基板支承台的滑动板74。
在基座板71上，设置有一对滑轨71a，该对滑轨71a支承正上方的滑动板72，沿水平方向对其进行导向。在基座板71上，在一对滑轨71a之间的非对称位置，按照沿高度方向贯通的方式形成与该滑轨71a平行的开口部71b。在开口部71b的内部，收容有一对皮带轮71c，该对皮带轮71c的轴是水平的，设置于两端；和皮带71d，该皮带71d张设于该皮带轮71c上。该皮带71d的上部跨越部(皮带轮71c之间的上侧的皮带通路)通过固定部件71e，固定于上侧的滑动板72的底部。
皮带轮71c通过驱动皮带70b，与驱动马达70a连接。另外，通过该驱动马达70a，使张设于皮带轮71c上的皮带71d往复运动，可通过固定部件71e，对上侧的滑动板72，施加水平方向的推力，在滑轨71a上往复运动。
在滑动板72上，设置有一对滑轨72a，该对滑轨72a支承正上方的滑动板73，沿水平方向对其进行导向。在滑动板72中，在一对滑轨72a之间，在未与下侧的基座板71的开口部71b重合的位置，按照沿高度方向贯通的方式，形成与该滑轨72a平行的开口部72b。在该开口部72b的内部，收容有一对皮带轮72c，该对皮带轮72c的轴是水平的，该对皮带轮72c设置于两端；和皮带72d，该皮带72d张设于该皮带轮72c上。
皮带72d的上部跨越部通过固定部件72e，固定于上侧的滑动板73的底部，皮带72d的下部跨越部(皮带轮72c之间的下侧的皮带通路)通过固定部件71f，固定于下侧的基座板71上。
在滑动板73的两侧面，设置有一对滑轨73a，该对滑轨73a支承正上方的滑动板74，沿水平方向对其进行导向。在滑动板73中，在一对滑轨73a之间，在未与下侧的滑动板72的开口部72b重合的位置，按照沿高度方向贯通的方式，形成与该滑轨73a平行的开口部73b。在该开口部73b的内部，收容有一对皮带轮73c，该对皮带轮73c的轴是水平的，该对皮带轮73c设置于两端；皮带73d，该皮带73d张设于该皮带轮73c上。
皮带73d的上部跨越部通过固定部件73e，固定在上侧的滑动板74的底部，皮带73d的下部跨越部通过固定部件72f，固定于下侧的滑动板72上。
在最上部的滑动板74上，设置有一对滑动轴承部74b，该对滑动轴承部74b与设置于下侧的滑动板73的两侧面上的上述一对滑轨73a嵌合。象这样，在滑动板73的两侧面上，设置滑轨73a，由此，可将基板运送装置70的整体高度仅降低滑轨73a的高度。另外，在滑动板74上，设置支承所载置的基板G的下面的基本コ字形的滑动拾取部74a。
在上述那样构成的基板运送装置70中，如果从图5以实例方式表示的收缩状态，通过驱动马达70a，使基座板71的皮带轮71c沿顺时针方向旋转，则通过固定部件71e，固定于皮带71d的上部跨越部的上侧的滑动板72开始按照向图5的右方向伸长的方式移动。
此时，由于滑动板72的皮带72d的下部跨越部固定于下侧的基座板71上，故该皮带72d伴随相对该滑动板72的下侧的基座板71的移动，沿顺时针方向环绕，通过固定部件72e，固定于该皮带72d的上部跨越部上的滑动板73在滑动板72上，按照向图5的右方向伸长的方式开始移动。
此外，滑动板73的皮带73d的下部跨越部通过固定部件72f，固定于下侧的滑动板72上，故该皮带73d伴随相对该滑动板73的下侧的滑动板72的移动，沿顺时针方向环绕，通过该皮带73d的固定部件73e而固定的最上部的滑动板74在滑动板73上，按照向图5的右方向伸长的方式开始移动。
由此，象图3和图4通过实例而表示的那样，滑动板72～74按照固定于皮带71d～73d的各个的上部跨越部上的固定部件71e～73e移动到图3的右端的距离而多段地伸长。伸长距离(运送距离)与滑动板的叠置段数成比例而伸长。
另外，从图3和图4的伸长状态，使驱动马达70a反向运转，沿逆时针方向，使各个的皮带71d～73d旋转，由此，变成图5中所示的收缩状态。
还有，基板运送装置70象上述那样，进行如下的动作在水平方向多段地使滑动板72～74伸长，将支承于滑动板74上的基板G搬入真空处理室10的内部的送入动作，以及在水平方向多段地使滑动板72～74收缩，将在真空处理室10的内部，将载置于滑动板74上的基板G取出到负载锁定室20的送出动作。
象上述那样，在本实施例的基板运送装置70中，由于采用下述的方案，其中，按照进行载置于最上段的滑动板74上的基板G的运送动作的方式，在多段叠置的基座板71和滑动板72～73中，形成开口部71b和开口部72b～73b，在其内部，收容皮带轮71c、72c～73c和皮带71d、皮带72d～73d，故即使在增加滑动板的叠置段数的情况下，仅仅是在高度方向增加滑动板的厚度，不产生因皮带轮、皮带等的驱动机构的厚度而造成的高度方向的尺寸增加。
即，可在不增加高度方向的尺寸的情况下，实现由于滑动板的叠置段数的增加而造成的运送距离的增加。
此外，由于将开口部71b和开口部72b～73b的位置交替地设置于沿高度方向相互不妨碍的位置，故可进一步削减高度。
在负载锁定室20的内部，在夹持基板运送装置70的位置，设置有缓冲板81和缓冲板82；基板递送机构80，该基板递送机构80包括使该缓冲板81和缓冲板82升降的、图中未示出的缓冲升降机构，进行使载置于基板运送装置70的滑动板74上的基板G的周边部从下方由缓冲板81和82支承，使基板G从该滑动板74上浮的动作，以及使从大气侧运送机构50接收的基板G下降到滑动板74上的动作等的基板递送动作。
大气侧运送机构50包括可旋转和伸缩的运送臂51，其进行从收容多块基板G的基板架55，由运送臂51取出未处理的1块基板G，通过门阀40，将其转移到负载锁定室20内的基板运送装置70的动作，以及从负载锁定室20内的基板运送装置70，接收处理过的基板G，通过门阀40，将其取出到大气侧，将其收容于基板架55中。
下面对本实施例的动作进行描述。首先，基板运送装置70处于收缩到负载锁定室20的内部的状态，将门阀30的阀体32关闭，由真空泵60对真空处理室10的内部进行排气，直至所必需的真空度。
大气侧运送机构50通过运送臂51，从基板架55上，取出未处理的基板G，通过门阀40的开口部41，将其送入到负载锁定室20的内部，将其定位于基板运送装置70的滑动板74的正上部。
接着，缓冲板81和缓冲板82上升，从两侧将基板G的周边部抬起，由此，基板G从运送臂51上浮。
然后，将运送臂51抽出到大气侧，使其引退到负载锁定室20的外部，然后，使缓冲板81和缓冲板82下降，由此，将基板G转移到基板运送装置70的滑动板74(滑动拾取部74a)上，将其载置于该滑动板74上。
接着，将门阀40的阀体42关闭，使负载锁定室20处于密封状态，打开排气控制阀62，进行排气直至与真空处理室10相同程度的真空度，接着，打开门阀30的阀体32。此时，由于对负载锁定室20进行真空排气，故不损害真空处理室10的真空度或气氛。接着，通过门阀30的开口部31，象图3那样，将基板运送装置70的滑动板72～74朝向真空处理室10的内部多段地伸长，将基板G送入到真空处理室10的处理台13的正上部，通过设置于真空处理室10内部的图中未示出的上突销等，载置于处理台13上，然后，滑动板72～74收缩到负载锁定室20的内部，实现引退，将门阀30的阀体32关闭，将真空处理室10密封。
之后，在密封的真空处理室10的内部，从处理气体供给部12，送入必要的气体，形成处理气体气氛，对基板G，进行必要的处理。
在经过规定时间后，停止处理气体的送入，打开门阀30的阀体32，将负载锁定室20内部的基板运送装置70的滑动板72～74向真空处理室10的内部伸长为多段，按照与上述送入动作相反的顺序，将真空处理室10的处理过的基板G从处理台13上，转移到滑动板74上，使滑动板72～74收缩，将其送出到负载锁定室20的内部，接着，将门阀30的阀体32关闭，将真空处理室10封闭。
然后，停止负载锁定室20的排气，并且使缓冲板81，82上升，支承基板G的周边部，使其上浮，送入N2等，形成接近大气的压力，然后，打开门阀40的阀体42，将大气侧运送机构50的运送臂51插入到上浮的基板G的下侧，在该状态，使缓冲板81，82下降，将基板G转移到运送臂51。
接着，将运送臂51拉出到大气侧，将处理过的基板G从负载锁定室20，送出到大气侧，将其收容于基板架55中。
在这里，在象上述那样的经过负载锁定室20的基板G相对真空处理室10的进出时，如果基板G的尺寸增加，则必须还使经过负载锁定室20的水平方向的运送距离增加，增加基板运送装置70的滑动板的叠置段数，延长运送距离，但是，本实施例这样的基板运送装置70即使在象上述那样，增加滑动板的叠置段数，延长运送距离的情况下，仍可抑制高度方向的尺寸增加。
其结果是，可减小收容有基板运送装置70的负载锁定室20的容积，可缩短该负载锁定室20的真空排气的所需时间，包括负载锁定室20的排气规定时间的基板G的真空处理工序的生产率提高。
特别是，在收容1条边超过1m这样的大型的基板G的负载锁定室20中，水平截面积增加，负载锁定室20的高度削减大大有助于容积的削减效果、排气规定时间的缩短。
下面对上述的真空处理装置100的保养管理技术的一个实例进行描述。在该真空处理装置100的保养管理中，具有从真空处理室10的基体部14，取下盖体15，进行内部清扫的情况。
一方面，在基板G的处理工序中，具有象图6所示的那样，形成排列有多个真空处理室10(真空处理装置100)的多腔系统的情况。在此场合，如果按照各个的真空处理室10具有盖体15的开闭机构的方式形成，则各个设备的设置底面积增加，效率差。特别是，在对大型的基板G进行处理的真空处理装置100中，由于单体的设备本身的尺寸也增加，故针对每个真空处理室，设置开闭机构，由此，多腔系统的上述底面积的增加更进一步显著。
于是，在本实施例中，象图6通过实例所示的那样，按照多个真空处理室10(真空处理装置100)设置共用的盖体开闭机构200的方式形成。
即，盖体开闭机构200包括台车201，该台车201通过设置车轮201a而自行，由此，可在多个真空处理装置100之间移动；一对轨202，该对轨202设置于台车201上，具有可在垂直状态和水平状态之间弯曲的活动轨202a；活动轴承部203，该活动轴承部203在该轨202上移动。
另外，采用该共用的盖体开闭机构200，象图7那样，进行保养管理作业的各个的真空处理室10的盖体15的开闭。
即，首先，使盖体开闭机构200移动到在与目标真空处理室10正对的位置，象图7(a)通过实例所示的那样，按照夹持该真空处理室10的方式，使活动轨202a旋转到水平的位置，将一对活动轴承部203与盖体15的一对支承轴16嵌合，使盖体15朝向垂直上方上浮，使其与基体部14离开。
然后，象图7(b)通过实例所示的那样，将支承盖体15的活动轴承部203移动到台车201上。由此，打开基体部14的上部，可进行基体部14内的处理台13的清扫等的保养作业。
此外，象图7(c)通过实例所示的那样，在台车201上，按照开口部向外的方式，使盖体15旋转90度，将其锁定于该位置，由此，可进行盖体15的内部的简易的保养检修。
还有，象图7(d)通过实例所示的那样，按照开口部向上的方式，使盖体15旋转180度，将其锁定于该位置，由此，可进行位于盖体15的内部的、图中未示出的气体供给头等的重物的吊起起重器等的装卸作业。
另外，可按照与上述相反的工序，将盖体15安装于基体部14上。另外，在安装后，盖体开闭机构200处于活动臂200a垂直折叠的图6所示的那样的等待状态。
象这样，相对多个真空处理室10(真空处理装置100)，设置共用的盖体开闭机构200，进行保养作业等的盖体15的开闭动作，由此，可节省装置整体的空间，可实现盖体开闭机构的共用造成的成本下降。
(实施方式2)下面对本发明的实施方式2进行描述。
图8为表示本发明的实施方式2的基板运送装置的垂直截面图，图9为表示本发明的实施方式2的基板运送装置的收缩状态的图，图10为本发明的实施方式2的基板运送装置的伸长状态的图。另外，图9(a)和图10(a)均为侧视图，图9(b)和图10(b)均为平面图。
该基板运送装置170与实施方式1相同，设置于真空处理装置100的负载锁定室20中。该基板运送装置170包括基座部171，该基座部171设置于负载锁定室20的底部；滑动臂172，该滑动臂172以可滑动的方式设置于基座部171；作为支承基板的支承台的滑动拾取部件173，该滑动拾取部件173以可滑动的方式设置于该滑动臂172；作为驱动源的马达174，该马达174驱动设置于基座部171的下方的滑动臂172和滑动拾取部件173；驱动传递机构180，该驱动传递机构180将该马达174的驱动力传递给滑动臂172和拾取部件173。
滑动臂172包括一对侧板172a、172b，该对侧板172a、172b垂直地设置，按照相对间隔开的方式相对设置，其中一个的端部形成在规定长度范围内将下部去掉的状态的突出部172c、172d。另外，在这些侧板172a、172b之间，具有驱动传递机构180。另外，象图8所示的那样，在该对侧板172a、172b的外面，设置有导向机构175和导向机构176，该导向机构175用于使滑动拾取部件173相对滑动臂172而滑动，该导向机构176用于使滑动臂172相对基座部171滑动。上述导向机构175包括导轨175a，该导轨175a安装于侧板172a、172b上；和导向部件175b，该导向部件175b以可滑动的方式与安装于滑动拾取部件173上的导轨175a嵌合。另外，导向机构176包括导轨176a，该导轨176a安装于侧板172a、172b上；导向部件176b，该导向部件176b以可滑动的方式与安装于基座部171上的导轨176a嵌合。
驱动传递机构180具有滑动臂驱动部181与滑动拾取部件驱动部182。该滑动臂驱动部181包括驱动皮带轮183，该驱动皮带轮183与马达174直接连接，沿水平方向旋转；驱动皮带184，该驱动皮带184绕挂于驱动皮带轮183上，通过固定部件184a、184b，固定于滑动臂172的侧板172a上；一对空转轮185a、185b，该对空转轮185a、185b设置于皮带轮183的两侧。该滑动拾取部件驱动部182包括皮带轮187，该皮带轮187固定于轴186上，该轴186按照在一对侧板172a、172b的与突出部172c、172d相反一侧的端部附近连接的方式设置；皮带轮189，该皮带轮189固定于轴188上，该轴188按照将一对侧板172a、172b的中间部连接的方式设置；第一皮带190，该第一皮带190张设于皮带轮187和189上；第一固定部件191，该第一固定部件191将第一皮带190的下部跨越部固定于基座部171；皮带轮192，该皮带轮192按照与皮带轮187邻接的方式固定于上述轴187上，该皮带轮192的直径大于皮带轮187；皮带轮194，该皮带轮194固定于轴193上，该轴193按照将一对侧板172a、172b的突出部172c、172d侧的端部附近连接的方式设置；第二皮带195，该第二皮带195张设于这些皮带轮192、194上；第二固定部件196，该第二固定部件196将第二皮带195的上部跨越部固定于滑动拾取部件。另外，按照沿突出部172c、172d对第二皮带195进行导向的方式设置皮带轮197、198。
在象这样构成的基板运送装置170中，通过驱动作为驱动源的马达174，借助驱动传递机构180，驱动滑动臂172和滑动拾取部件173。此时，首先，马达174的旋转驱动通过滑动臂驱动部182的驱动皮带轮183，传递给驱动皮带184，驱动皮带184固定于滑动臂172的侧板172a上，由此，滑动臂172从图9的状态，沿箭头A所示的方向滑动。
此时，由于滑动拾取部件驱动部182的第一固定部件191使第一皮带190的下部跨越部固定于下部171，故伴随滑动臂172的滑动移动，第一皮带190沿箭头A方向移动，皮带轮187旋转。如果皮带轮187旋转，则通过固定于其上的轴186，固定于轴186上的皮带轮192旋转，第二皮带195沿箭头A方向移动，伴随该动作，通过第二固定部件196，固定于第二皮带195的上部跨越部的滑动拾取部件173沿箭头A方向移动，从图9的收缩状态，处于图10的伸长状态。
在此场合，由于皮带轮187和皮带轮192固定于同一轴186上，故通过它们的直径比，确定第一皮带190和第二皮带195的移动距离的比，即，滑动臂172和滑动拾取部件173的移动距离的比。在这里，由于皮带轮192的直径大于皮带轮187，由此，滑动拾取部件173的移动距离大于滑动臂172的移动距离。比如，如果皮带轮192的直径为皮带轮187的直径的n倍，则象图10(a)、(b)所示的那样，在滑动臂172移动距离L时，滑动臂173在滑动臂172上，移动n×L的距离，滑动拾取部件173的总移动距离为(n×L)+L。此场合的n可设定在大于1的任意值。
由于象这样，与滑动臂172的滑动行程相比较，可延长其上的滑动拾取部件173的滑动行程，故即使在因收容于负载锁定室20而对滑动臂172的行程具有限制的情况下，仍可通过适当设定皮带轮187和皮带轮192的直径比，使滑动拾取部件173的行程充分。由此，仅仅通过一个滑动臂172和一个滑动拾取部件173，便可在负载锁定室20与真空处理室10之间的基板运送中，确保充分距离的滑动行程，与采用与实施方式1那样的相同尺寸的皮带轮的直线运动式基板装置相比较，可减少滑动臂的叠置数量，由此，可减小基板运送装置的高度。
其结果是，可减小收容有基板运送装置170的负载锁定室20的容积，缩短该负载锁定室20的真空排气的所需时间，包括负载锁定室20的排气所需时间的基板G的真空处理工序的生产率提高。特别是，在收容1条边超过1m这样的大型的基板G的负载锁定室20中，水平截面积增加，负载锁定室20的高度削减大大有助于容积的削减效果的增加、排气所需时间的缩短。
另外，从确保更大的运送距离的观点来说，也可按照2段以上将滑动臂叠置。图11表示在滑动臂172上，设置再一个的滑动臂172’的实例。在此场合，作为滑动臂172’，也可采用与滑动臂172相同的结构，还可为与实施方式1的滑动臂72、73相同的结构。通过使滑动臂172’为与滑动臂172相同的结构，可确保很大的运送距离。
此外，本实施例的基板运送装置还可适合用于按照2段设置滑动拾取部件，可分别独立地实现基板的进出的类型。图12为表示这样的类型的基板运送装置的垂直截面图。该基板运送装置300包括下段运送机构部270和上段运送机构部270’。
下段运送机构部270包括基座部271；滑动臂272，该滑动臂272以可滑动的方式设置于基座部271上；作为支承基板的支承台的滑动拾取部件273，该滑动拾取部件273以可滑动的方式设置于该滑动臂272上；马达274，该马达274作为驱动设置于基座部271的下方的滑动臂272和滑动拾取部件273的驱动源；和驱动传递机构280，该驱动传递机构280将马达274的驱动力传递给滑动臂272和滑动拾取部件273。另外，在一对侧板272a、272b的外面上，设置导向机构275，该导向机构275用于使滑动拾取部件273相对滑动臂272滑动；和导向机构276，该导向机构276用于使滑动臂272相对上述基座部271滑动。
上段运送机构部270’包括基座部271’；滑动臂272’，该滑动臂272’以可滑动的方式设置于基座部271’；作为支承基板的支承台的滑动拾取部件273’，该滑动拾取部件273’以可滑动的方式设置于该滑动臂272’上；作为驱动源的马达274’，该马达274’驱动设置于下段运送机构部270的基座部271的下方的滑动臂272’和滑动拾取部件273’；第一驱动传递机构280’，该第一驱动传递机构280’将驱动力传递给滑动臂272’和拾取部件273’；和第二驱动传递机构290，该第二驱动传递机构290将马达274’的驱动力传递给第一驱动传递机构280’。另外，在一对侧板272a’、272b’的外面，设置有导向机构275’，该导向机构275’用于使滑动拾取部件273’相对滑动臂272’滑动；和导向机构276’，该导向机构276’用于使滑动臂272’相对基座部271’实现滑动。上段运送机构部270’的基座部271’设置于配置在下段运送机构部270之上的基座301之上(见图12)。
对于上述下段运送机构部270的驱动传递机构280和上段运送机构部270’的第一驱动传递机构280’，作为组成部件，分别仅仅描述驱动皮带轮283、283’，但是，实际上，由于具有与上述驱动传递机构180完全相同的结构，故其它部件省略。
另一方面，上述上段运送机构部270’的第二驱动传递机构290具有驱动皮带轮291，该驱动皮带轮291设置于下段运送机构部270的基座部271的内部，与马达274’直接连接；设在基座部271内的端部的皮带轮292与张设于皮带轮291与292上的皮带293；皮带轮295，该皮带轮295设置于与上段运送机构部270’的基座部271’内的皮带轮292相对应的位置，通过轴294与皮带轮292连接固定；皮带轮296，该皮带轮296设置于基座271’内的驱动皮带轮283’正下方；和皮带297，该皮带297张设于该皮带轮295和296上。另外，在第二驱动传递机构290中，将马达274’的驱动力传递给驱动皮带轮291，另外，通过皮带293，传递给皮带轮292。该皮带轮292的旋转驱动通过轴294，传递给皮带轮295，此外，通过皮带297，传递给皮带轮296，该皮带轮296的旋转驱动传递给第一驱动传递机构280’的驱动皮带轮283’。
在这样的基板运送装置300中，通过驱动马达274的方式，借助驱动传递机构280，使下段运送机构部270的滑动臂272和滑动拾取部件273滑动，由此，实现上段运送机构部270的基板运送，通过驱动马达274’的方式，借助第二驱动传递机构290和第一驱动传递机构280’，使上段运送机构部270’的滑动臂272’和滑动拾取部件273’滑动，与下段运送机构部270完全独立地实现上段运送机构部270’的基板运送。
由于象这样，可设置2段的运送机构部，通过2个滑动拾取部件完全独立地运送基板，故可显著地提高基板运送的效率。另外，使基座部271具有旋转功能，由此，还可用于多个处理室与真空预备室连接的多腔型的处理装置。此外，在本实施例的基板运送装置，由于可减少滑动臂的段数，使高度较低，即使象这样设置2段的运送机构部，仍可将高度保持在较小程度。
此外，本发明不限于上述实施例，可在本发明的构思的范围内，进行各种变形。比如，实施方式1的滑动驱动机构和实施方式2的驱动传递机构采用皮带，但是，并不限于此，也可采用链条、链环、齿轮等的其它传递机构。
还有，给出了作为基板采用LCD、等离子显示器等的平面显示器基板的场合，但是，也可用于其它的大型基板等。
如上所述，本发明的基板运送装置适用于真空处理装置中设置于与真空处理室相邻的真空预备室中的基板运送装置。
权利要求
1.一种真空处理室的盖体开闭机构，在具有基体部以及以可自由装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室，开闭所述盖体，其特征在于，该盖体开闭机构包括可移动的台车；和设置在所述台车上的支撑所述盖体的支撑部。
2.根据权利要求1所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于是配置为多个所述真空处理室所共用的盖体开闭机构。
3.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述支撑部支撑所述盖体且使其向垂直方向浮起，从所述基体部脱离。
4.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述支撑部支撑所述盖体且使其移动到所述台车上，打开所述基体部。
5.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述支撑部是在所述台车上以能够旋转的方式支撑所述盖体的部件。
6.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述支撑部是沿设置在所述台车上的一对导轨移动的部件。
7.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述支撑部与设置在所述盖体上的支撑轴嵌合。
8.根据权利要求1或2所述的真空处理室的盖体开闭机构，其特征在于所述真空处理室是处理平面显示器基板的部件。
9.一种真空处理室的盖体开闭方法，在具有基体部以及以可自由装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室，开闭所述盖体，其特征在于使具有可移动的台车、设置为多个所述真空处理室共用的盖体开闭机构，移动至与作为目的的所述真空处理室正对的位置；然后，利用所述盖体开闭机构使所述盖体向上方浮起，使其从所述基体部脱离；然后，使所述盖体移动到所述台车上，打开所述基体部。
10.根据权利要求9所述的真空处理室的盖体开闭方法，其特征在于使移动到所述台车上的所述盖体旋转。
11.根据权利要求10所述的真空处理室的盖体开闭方法，其特征在于还锁定旋转的所述盖体。
全文摘要
本发明一种真空处理室的盖体开闭机构，在具有基体部以及以可自由装卸的方式设置在该基体部上的盖体的真空处理室，开闭所述盖体，其特征在于，该盖体开闭机构包括可移动的台车；和设置在所述台车上的支撑所述盖体的支撑部。由此，可节省装置整体的空间，可实现盖体开闭机构的共用造成的成本下降。
文档编号H01L21/67GK1971844SQ20061016457
公开日2007年5月30日 申请日期2004年5月27日 优先权日2003年5月30日
发明者中山秀树 申请人:东京毅力科创株式会社