专利名称：用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及半导体制造领域，且特别涉及一种用于防止机台控制器受侵蚀的
保护罩。
背景技术：
晶圆制造领域所使用的机台经常要对晶圆进行酸性溶液或者碱性溶液处理，但是 由于这类机台的控制器没有保护装置，使得其可能遭受酸碱性物质侵蚀，严重时可能导致 控制器损坏。 例如现有技术中用于进行化学电镀的机台，其控制器放置于机台底部，上面是机 台主框架部分，由于化学电镀机台内部酸性较强，此外当临近预防性保养时间时，机台内部 硫酸铜晶体也会增加，其易溶于水，从而会形成酸性较强的酸性溶液，顺着机台主框架底部 的空隙流下就有可能侵蚀机台控制器，严重时会导致控制器报废，由于控制器价格昂贵并 且维修耗时耗力，因此容易造成较大的损失。
实用新型内容本实用新型提出一种用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，可有效防止机台控制 器受到酸性或者碱性溶液的侵蚀，从而保障机台正常运行。 为了达到上述目的，本实用新型提出一种用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，
包括挡板部以及至少两个支撑部，所述挡板部的形状和大小与所述机台控制器相适配，所
述至少两个支撑部位连接于所述挡板部并位于所述挡板部的同一侧。 可选的，所述支撑部均匀分布在所述挡板部周边。 可选的，所述挡板部的面积大于所述机台控制器的面积。 可选的，所述保护罩的材料为防酸防碱的聚氯乙烯材料。 本实用新型提出的用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，将保护罩置于机台控 制器上方，并利用多个支撑部将保护罩定位在机台控制器上，由于保护罩挡住了机台主框 架底部漏出的酸性或者碱性溶液，因此可有效防止机台控制器受到酸性或者碱性溶液的侵 蚀，从而保障机台正常运行。
图1所示为本实用新型较佳实施例的保护罩结构示意图。
具体实施方式为了更了解本实用新型的技术内容，特举具体实施例并配合所附图说明如下。 请参考图1，图l所示为本实用新型较佳实施例的保护罩结构示意图。本实用新型 提出一种用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，包括挡板部100以及至少两个支撑部200， 所述挡板部100的形状和大小与所述机台控制器相适配，所述至少两个支撑部200连接于所述挡板部100并位于所述挡板部100的同一侧。图1中所示的支撑部200的数量为4个， 均匀分布在所述挡板部100周边，以便保证保护罩的平衡和稳定，不会在控制器上移动或 掉落，当然支撑部200的数量可以是2个或者3个，其作用是和挡板部100 —起罩住整个控 制器并保持稳固。所述挡板部100的面积大于所述机台控制器的面积，充分遮住整个机台 控制器，避免其受到机台主框架底部漏出的残留酸性或者碱性溶液的侵蚀。所述保护罩的 材料为防酸防碱的聚氯乙烯(Polyvinylchloride， PVC)材料，有效地防止机台控制器受到 酸性或者碱性溶液的侵蚀，同时也延长了保护罩的使用寿命，在机台预防性保养时间内也 可将保护罩取出清洗再次使用。 综上所述，本实用新型提出的用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，将保护罩置 于机台控制器上方，并利用多个支撑部将保护罩定位在机台控制器上，由于保护罩挡住了 机台主框架底部漏出的酸性或者碱性溶液，因此可有效防止机台控制器受到酸性或者碱性 溶液的侵蚀，从而保障机台正常运行。 虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型。本实 用新型所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各 种的更动与润饰。因此，本实用新型的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
权利要求一种用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，其特征在于，包括挡板部以及至少两个支撑部，所述挡板部的形状和大小与所述机台控制器相适配，所述至少两个支撑部位连接于所述挡板部并位于所述挡板部的同一侧。
2. 根据权利要求1所述的用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，其特征在于，所述支 撑部均匀分布在所述挡板部周边。
3. 根据权利要求1所述的用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，其特征在于，所述挡 板部的面积大于所述机台控制器的面积。
4. 根据权利要求1所述的用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，其特征在于，所述保 护罩的材料为防酸防碱的聚氯乙烯材料。
专利摘要本实用新型提出一种用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，包括挡板部以及至少两个支撑部，所述挡板部的形状和大小与所述机台控制器相适配，所述至少两个支撑部位连接于所述挡板部并位于所述挡板部的同一侧。本实用新型提出的用于防止机台控制器受侵蚀的保护罩，可有效防止机台控制器受到酸性或者碱性溶液的侵蚀，从而保障机台正常运行。
文档编号H01L21/00GK201532938SQ20092020961
公开日2010年7月21日 申请日期2009年9月11日 优先权日2009年9月11日
发明者李广宁 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司