RGBW四色OLED显示元件的制备方法与流程

文档序号:16789777发布日期:2019-02-01 19:34阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种RGBW四色OLED显示元件的制备方法,其特征在于,包括:

步骤11、对于待蒸镀子像素发光层的元件,将第一颜色发光材料通过第一精密金属掩模板蒸镀到第一颜色子像素区域,再通过第一精密金属掩模板的位移蒸镀到白色子像素区域;

步骤12、将第二颜色发光材料通过第二精密金属掩模板蒸镀到第二颜色子像素区域,再通过第二精密金属掩模板的位移蒸镀到白色子像素区域;

步骤13、将第三颜色发光材料通过第三精密金属掩模板蒸镀到第三颜色子像素区域,再通过第三精密金属掩模板的位移蒸镀到白色子像素区域;

其中该第一颜色发光材料、第二颜色发光材料和第三颜色发光材料不同并且分别对应蓝色发光材料、红色发光材料和绿色发光材料其中之一;

该蓝色发光材料为蓝色荧光发光材料或者蓝色磷光发光材料,该红色发光材料为红色荧光发光材料或者红色磷光发光材料,该绿色发光材料为绿色荧光发光材料或者绿色磷光发光材料;

该RGBW四色OLED显示元件的红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素及白色子像素呈田字状排列;蓝色子像素的右侧为白色子像素,蓝色子像素的下方为绿色子像素,白色子像素的下方为红色子像素。

2.如权利要求1所述的RGBW四色OLED显示元件的制备方法,其特征在于,还包括:

步骤10、在已完成TFT制程的RGBW四像素基板上,依次进行阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层的成膜,得到待蒸镀子像素发光层的元件。

3.如权利要求1所述的RGBW四色OLED显示元件的制备方法,其特征在于,还包括:

步骤14、对于完成蒸镀子像素发光层的元件,依次进行空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、阴极的成膜。

4.如权利要求3所述的RGBW四色OLED显示元件的制备方法,其特征在于,还包括:

步骤15、在该阴极上进行阴极保护层的成膜,最后再进行盖板封装或者薄膜封装,完成RGBW四色OLED显示元件的制备。

5.如权利要求1所述的RGBW四色OLED显示元件的制备方法,其特征在于,对于白色子像素区域,首先蒸镀蓝色荧光发光材料,然后依次蒸镀红色磷光发光材料、绿色磷光发光材料。

6.如权利要求1所述的RGBW四色OLED显示元件的制备方法,其特征在于,对于白色子像素区域,首先蒸镀蓝色磷光发光材料,然后先蒸镀红色磷光发光材料、后蒸镀绿色磷光发光材料,或先蒸镀绿色磷光发光材料、后蒸镀红色磷光发光材料。

7.如权利要求1所述的RGBW四色OLED显示元件的制备方法,其特征在于,对于白色子像素区域,首先蒸镀蓝色荧光发光材料,然后依次蒸镀绿色荧光发光材料、红色荧光发光材料。

8.一种RGBW四色OLED显示元件的制备方法,其特征在于,包括:

步骤21、对于待蒸镀子像素发光层的元件,通过第一精密金属掩模板蒸镀第一颜色发光材料到第一颜色子像素区域和白色子像素区域,该第一精密金属掩模板的开孔对应一个第一颜色子像素区域和一个白色子像素区域构成的区域;

步骤22、通过第二精密金属掩模板蒸镀第二颜色发光材料到第二颜色子像素区域和白色子像素区域,该第二精密金属掩模板的开孔对应一个第二颜色子像素区域和一个白色子像素区域构成的区域;

步骤23、通过第三精密金属掩模板蒸镀第三颜色发光材料到第三颜色子像素区域和白色子像素区域,该第三精密金属掩模板的开孔对应一个第三颜色子像素区域和一个白色子像素区域构成的区域;

其中该第一颜色发光材料、第二颜色发光材料和第三颜色发光材料不同并且分别对应蓝色发光材料、红色发光材料和绿色发光材料其中之一;

该蓝色发光材料为蓝色荧光发光材料或者蓝色磷光发光材料,该红色发光材料为红色荧光发光材料或者红色磷光发光材料,该绿色发光材料为绿色荧光发光材料或者绿色磷光发光材料;

该RGBW四色OLED显示元件的红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素及白色子像素呈田字状排列;蓝色子像素的右侧为白色子像素,蓝色子像素的下方为绿色子像素,白色子像素的下方为红色子像素。

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