用于图案化表面上覆层的方法和包括图案化覆层的装置与流程

技术特征：

技术总结
光电子装置包括：(1)衬底；(2)覆盖衬底的第一区域的成核抑制覆层；和(3)包括第一部分和第二部分的传导性覆层。传导性覆层的第一部分覆盖衬底的第二区域，传导性覆层的第二部分与成核抑制覆层部分地重叠，并且传导性覆层的第二部分通过间隙与成核抑制覆层分隔开。

技术研发人员：Y-L·常;Q·王;M·赫兰德;J·邱;Z·王;T·雷夫
受保护的技术使用者：OTI照明公司
技术研发日：2016.10.26
技术公布日：2018.09.04