一种银单质掺杂的CZTSSe薄膜的制备方法和应用与流程

文档序号:14156808阅读:360来源:国知局

本发明涉及一种银单质掺杂的cztsse薄膜制备方法及其在柔性太阳电池中的应用,属于薄膜太阳电池技术领域。



背景技术:

得益于成本及技术优势,以cdte、cu(in,ga)se2(cigs)为代表的化合物薄膜电池近年来保持了强劲的发展势头。然而,cigs及cdte等主流薄膜太阳能电池在面向未来tw量级规模化生产时受到了原材料稀缺(in,ga)以及组成元素有毒(cd)等因素的限制。与上述材料体系相比,cu2znsn(sse)4(cztsse),带隙在1.0-1.5ev范围内连续可调,其理论转换效率可达31%以上。同时,cztsse在可见光范围内高达104cm-1的吸收系数,为理想的光吸收层材料。

到目前为止,最高效率cu2znsnse4(cztse)太阳能电池的短路电流密度(jsc)最高为40.6ma/cm2,已达shockley-queisser理论值的80%以上,接近高效cigs器件的电流密度水平,而开路电压(voc)和填充因子(ff)最高仅为423mv和67.3%;而最高转化效率的czts及cztsse太阳电池的开路电压损失(voc-deficit)分别为789mv和603mv,ff最高值分别为60.9%和70%。显然,该类电池的开路电压损耗以及填充因子损失与理论值相差较大,与高效率得到cigs太阳电池相比仍有很大的提升空间,因此,减少开路电压损耗(voc-deficit)和填充因子损失(ff-deficit)是提高czts体系太阳电池的关键。

czts四元体系相图中的纯相稳定区域非常狭窄,偏离该区域则很容易形成二元三元杂相,因此实验上普遍认同贫铜富锌的元素组成(cu/zn+sn>0.8;zn/sn>1.2)在改善薄膜p型导电性的同时可以有效控制铜基杂相产生,但是在非化学计量比的条件下杂相的形成是很难避免的。因此,可以预期,在成膜过程中若将金属源、硫源、硒源以单质形式作为吸收层的原料,更容易调节贫铜富锌的化学计量比,减少引入杂质,减少二次、三次相的形成,得到纯相的caztsse。

另一方面,cu和zn在元素周期表中的位置相邻,原子尺寸相差不大,因此cu和zn之间很容易发生异位交换导致局部无序的kesterite结构,这也被认为是czts材料体系中cuzn和zncn反位缺陷形成的主要原因。ag原子半径远大于zn原子半径,若以ag原子部分替代cu原子,则能够一定程度上减少具有受主特性cuzn反位缺陷的形成,从而有效调节吸收层的带隙和本征掺杂水平,提高成膜质量。因此,可以预期,在成膜过程中引入ag原子将大幅改善cztsse太阳电池的开路电压及填充因子。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种银单质掺杂的cztsse薄膜制备方法及其在柔性太阳电池中的应用。

本发明通过将金属单质(cu、zn、sn、ag)及硫源、硒源溶解在特定的溶剂中加热搅拌,再加入稳定剂,加热搅拌得到均匀的金属分子前驱体溶液,将前驱体溶液利用旋涂方法制备在特定的衬底上,经退火处理后在衬底上形成掺银的cztsse前驱体薄膜,经后硒化处理得到高质量的银掺杂cztsse(caztsse)吸收层薄膜,制备过程简单,对反应条件要求较低,不需要昂贵的大型仪器设备,适于规模化生产。

一种银单质掺杂的cztsse薄膜材料,通过以下方法制备得到:

1)配置不同ag含量的cztsse前驱体溶液,cu+ag的总浓度保持在0.2mol/l,将单质铜、锌、锡、硫、硒、银按照一定的比例加入有机溶剂中,加热搅拌至完全溶解后,加入稳定剂继续搅拌至完全溶解形成稳定的caztsse前驱体溶液;

2)将柔性衬底依次进行清洗、烘干;

3)将前驱体溶液反复旋涂到柔性衬底上,经退火处理后在柔性衬底上制备caztsse预制层,退火温度为200~500℃;

4)将经步骤3)处理后的样品置于rtp硒化炉中进行后硒化处理,硒化温度范围为400~600℃,保持硒化温度处理8~30min,升温速率为6℃/s~10℃/s,在整个硒化处理过程中持续通保护气体,制得caztsse薄膜;

步骤2)中对柔性衬底进行清洗烘干具体指:将钼衬底依次在浓硫酸和甲醇混合溶液中利用电化学技术进行清洗,在无水乙醇中超声清洗,在去离子水中超声清洗,之后将钼衬底在干燥箱中烘干;或将溅射mo的柔性聚酰亚胺薄膜依次在在无水乙醇中超声清洗,在去离子水中超声清洗,之后将衬底在干燥箱中烘干。

所述caztsse薄膜中ag/(cu+ag)的摩尔百分比为3%、4%、5%或6%。

步骤1)中的有机溶剂是指乙二胺和乙二硫醇的混合液。

步骤1)中的稳定剂是指乙醇胺、巯基乙酸和乙二醇甲醚的混合液。

caztsse薄膜的厚度为1.5~3微米。

所述特定的衬底是指柔性衬底,具体指柔性钼箔、溅射mo的聚酰亚胺。

一种银单质掺杂的cztsse薄膜在柔性太阳电池中的应用,具体包括以下步骤:

1)取大烧杯一支,依次加入去离子水和镉盐,搅拌至完全溶解,加入氨水,搅拌均匀,放入caztsse薄膜,加入硫脲,形成溶液a,薄膜在溶液a中水浴

法沉积硫化镉缓冲层,水浴温度为60~75℃,沉积8~12min,经清洁干燥处理得到硫化镉缓冲层;

2)采用射频磁控溅射方法在1)所得的硫化镉缓冲层上沉积本征氧化锌薄膜,工艺参数为:溅射气体是ar气,本底真空度<1.5×10-5pa,工作真空度为1pa,射频溅射功率为80w,溅射时间为25min,衬底温度为室温,所得i-zno薄膜厚度为50nm;

3)采用直流磁控溅射方法在2)所得的i-zno薄膜上沉积ito导电层,工艺参数为:溅射气体是ar气,本底真空度<1.5×10-5pa,工作真空度为1pa,射频溅射功率为75w,溅射时间为15min,衬底温度为室温,所得i-zno薄膜厚度为200nm;

4)采用热蒸发的方式制备银电极,工艺参数为:本底真空度<6.0×10-4pa,衬底温度为室温,所得ag电极厚度为500nm;

所述经清洁干燥处理得到的硫化镉缓冲层,其清洁步骤为:依次用自来水、去离子水、无水乙醇洗片,干燥处理为:烘箱烘干,温度为60~80℃,时间为20~30min。

所述镉盐为硫酸盐,氯化盐或醋酸盐。

所述溶液a中镉的浓度为0.0014~0.002mol/l,硫的浓度为0.005~0.01mol/l,氨水的质量百分比浓度为25%~28%。

所述硫化镉缓冲层的厚度为20~100nm。

本发明与现有技术相比具有的优点:

所有的金属源和硫源硒源都是单质,不引入其他杂质,容易控制化学计量比。

通过ag掺杂可以改善薄膜的质量,有效提高器件的开路电压、填充因子、光电转换效率以及有效改善带尾态现象,实验的可重复性和稳定性较好,在太阳电池方面有较好的应用价值。

所用的稳定剂能够使溶液长时间保持较为稳定状态,减少后硒化处理的落硒现象。

所用的有机溶剂绿色环保,对制作环境要求低。

附图说明

图1是cztsse(a)及caztsse(b)吸收层薄膜的典型sem图;

图2是实施例1-5中caztsse薄膜太阳电池随掺ag比例变化的j-v特性曲线;

图3是实施例1-5的caztsse吸收层薄膜随掺ag比例变化的xrd图(a)及xrd局部放大图(b);

图4是实施例1-5的caztsse吸收层薄膜随掺ag比例变化的raman图。

具体实施方式

该银单质掺杂的cztsse薄膜太阳电池包括柔性衬底、银掺杂cztsse(caztsse)吸收层、硫化镉缓冲层、本征氧化锌窗口层、ito透明导电层及银电极。本发明核心为:在前驱体溶液引入金属单质、硫单质和硒单质,尤其是在吸收层中掺杂适量的单质银提高了电池效率;同时,在前驱体溶液中加入稳定剂,提高溶液的稳定性和改善落硒现象。

实施例1

(1)将单质铜0.0699g、锌0.0494g、锡0.0859g、硫0.0857g、硒0.0234g加入至5.5ml的乙二胺和乙二硫醇混合溶液中,加热搅拌1.5h至完全溶解,加入稳定剂1ml(乙醇胺、巯基乙酸、乙二醇甲醚的混合溶液)加热搅拌0.5h,形成可乐色的cztsse前驱体溶液;

(2)利用匀胶机将cztsse前驱体旋涂到清洁干净的柔性衬底上,然后在热台上350℃退火处理1min,反复旋涂9次;

(3)待旋涂完毕后将样品置于rtp硒化炉中480℃硒化20min,升温速率为8℃/s,自然降温,在退火过程中,持续通保护气体n2,流量为80sccm,即可得到厚度约为2μm的未掺杂的cztsse薄膜(如附图1(a)所示);

(4)在65℃条件下化学浴沉积cds缓冲层(~30nm);

(5)射频磁控溅射制备本征氧化锌窗口层(~50nm);

(6)直流磁控溅射ito透明导电层(~200nm);

(7)热蒸发制备金属银电极(~500nm)。

按照上述步骤制备的cztsse薄膜太阳电池结构为:mo/cztsse/cds/i-zno/ito/ag。通过此方法制备的太阳电池效率为4.9%,开路电压为337mv,短路电流密度为30.64ma/cm2,填充因子为47.3%(如附图2所示)。

实施例2

(1)将单质铜0.0678g、银0.0036g、锌0.0494g、锡0.0859g、硫0.0857g、硒0.0234g加入至5.5ml的乙二胺和乙二硫醇混合溶液中,加热搅拌1.5h至完全溶解,加入稳定剂1ml(乙醇胺、巯基乙酸、乙二醇甲醚的混合溶液)加热搅拌0.5h,形成金黄色的caztsse前驱体溶液;

(2)利用匀胶机将caztsse前驱体旋涂到清洁干净的柔性mo衬底上,然后在热台上350℃退火处理1min,反复旋涂9次;

(3)待旋涂完毕后将样品置于rtp硒化炉中480℃硒化20min,升温速率为8℃/s,自然降温,在退火过程中,持续通保护气体n2,流量为80sccm,即可得到厚度约为2μm的掺杂3%ag的caztsse薄膜;

(4)在65℃条件下化学浴沉积cds缓冲层(~30nm);

(5)射频磁控溅射制备本征氧化锌窗口层(~50nm);

(6)直流磁控溅射ito透明导电层(~200nm);

(7)热蒸发制备金属银电极(~500nm)。

按照上述步骤制备的caztsse薄膜太阳电池结构为:mo/caztsse/cds/i-zno/ito/ag。通过此方法制备的太阳电池效率为5.08%,开路电压为340mv,短路电流密度为26.84ma/cm2,填充因子为55.68%(如附图2所示)。

实施例3

(1)将单质铜0.0671g、银0.0047g、锌0.0494g、锡0.0859g、硫0.0857g、硒0.0234g加入至5.5ml的乙二胺和乙二硫醇混合溶液中,加热搅拌1.5h至完全溶解,加入稳定剂1ml(乙醇胺、巯基乙酸、乙二醇甲醚的混合溶液)加热搅拌0.5h,形成金黄色的caztsse前驱体溶液;

(2)利用匀胶机将caztsse前驱体旋涂到清洁干净的柔性mo衬底上,然后在热台上350℃退火处理1min,反复旋涂9次;

(3)待旋涂完毕后将样品置于rtp硒化炉中480℃硒化20min,升温速率为8℃/s,自然降温,在退火过程中,持续通保护气体n2,流量为80sccm,即可得到厚度约为2μm的掺杂4%ag的caztsse薄膜(如附图1(b)所示);

(4)在65℃条件下化学浴沉积cds缓冲层(~30nm);

(5)射频磁控溅射制备本征氧化锌窗口层(~50nm);

(6)直流磁控溅射ito透明导电层(~200nm);

(7)热蒸发制备金属银电极(~500nm)。

按照上述步骤制备的caztsse薄膜太阳电池结构为:mo/caztsse/cds/i-zno/ito/ag。通过此方法制备的太阳电池效率为6.24%,开路电压为358mv,短路电流密度为31.50ma/cm2,填充因子为55.27%(如附图2所示)。

实施例4

(1)将单质铜0.0664g、银0.0059g、锌0.0494g、锡0.0859g、硫0.0857g、硒0.0234g加入至5.5ml的乙二胺和乙二硫醇混合溶液中,加热搅拌1.5h至完全溶解,加入稳定剂1ml(乙醇胺、巯基乙酸、乙二醇甲醚的混合溶液)加热搅拌0.5h,形成金黄色的caztsse前驱体溶液;

(2)利用匀胶机将caztsse前驱体旋涂到清洁干净的柔性mo衬底上,然后在热台上350℃退火处理1min,反复旋涂9次;

(3)待旋涂完毕后将样品置于rtp硒化炉中480℃硒化20min,升温速率为8℃/s,自然降温,在退火过程中,持续通保护气体n2,流量为80sccm,即可得到厚度约为2μm的掺杂5%ag的caztsse薄膜;

(4)在65℃条件下化学浴沉积cds缓冲层(~30nm);

(5)射频磁控溅射制备本征氧化锌窗口层(~50nm);

(6)直流磁控溅射ito透明导电层(~200nm);

(7)热蒸发制备金属银电极(~500nm)。

按照上述步骤制备的caztsse薄膜太阳电池结构为:mo/caztsse/cds/i-zno/ito/ag。通过此方法制备的太阳电池效率为6.0%,开路电压为353mv,短路电流密度为32.65ma/cm2,填充因子为52.06%(如附图2所示)。

实施例5

(1)将单质铜0.0657g、银0.0071g、锌0.0494g、锡0.0859g、硫0.0857g、硒0.0234g加入至5.5ml的乙二胺和乙二硫醇混合溶液中,加热搅拌1.5h至完全溶解,加入稳定剂1ml(乙醇胺、巯基乙酸、乙二醇甲醚的混合溶液)加热搅拌0.5h,形成金黄色的caztsse前驱体溶液;

(2)利用匀胶机将caztsse前驱体旋涂到清洁干净的柔性mo衬底上,然后在热台上350℃退火处理1min,反复旋涂9次;

(3)待旋涂完毕后将样品置于rtp硒化炉中480℃硒化20min,升温速率为8℃/s,自然降温,在退火过程中,持续通保护气体n2,流量为80sccm,即可得到厚度约为2μm的掺杂6%的caztsse薄膜;

(4)在65℃条件下化学浴沉积cds缓冲层(~30nm);

(5)射频磁控溅射制备本征氧化锌窗口层(~50nm);

(6)直流磁控溅射ito透明导电层(~200nm);

(7)热蒸发制备金属银电极(~500nm)。

按照上述步骤制备的caztsse薄膜太阳电池结构为:mo/caztsse/cds/i-zno/ito/ag。通过此方法制备的太阳电池效率为4.6%,开路电压为332mv,短路电流密度为36.00ma/cm2,填充因子为38.58%(如附图2所示)。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。

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