显示面板、显示面板的制作方法及显示装置与流程

本发明涉及显示领域，具体涉及一种显示面板、显示面板的制作方法及显示装置。
背景技术：
：显示面板在制作过程中，通常在其显示面的外侧设置有圆偏光片，用于减少环境光进入显示面板内光通量，进而缓解显示面板内反射环境光引起的色偏或对比度问题。圆偏光片通常厚度较大，不利于显示面板的轻薄化。发明人发现，可以通过黑矩阵和滤光片结构代替圆偏光片，降低环境光进入显示面板的光通量。然而黑矩阵和滤光片结构自身仍然存在一定的反射率，影响显示面板的观感。技术实现要素：本发明提供一种显示面板、显示面板的制作方法及显示装置，进一步改善显示面板的观感。第一方面，本发明实施例提供一种显示面板，其包括：衬底；发光元件层，位于衬底上，发光元件层包括多个发光元件；光调整层，位于发光元件层的出光侧，光调整层具有相对的两个表面，光调整层包括黑矩阵以及多个滤光单元，黑矩阵包括多个开口，每个滤光单元的至少部分设置于开口内，多个滤光单元分别与多个发光元件位置对应；以及薄膜增透层，覆盖光调整层的至少一个表面。根据本发明实施例的一个方面，薄膜增透层包括至少一层无机增透层和/或至少一层有机增透层。根据本发明实施例的一个方面，无机增透层包括二氧化硅与二氧化钛的叠层、氟化锂层或氟化镁层中的至少一种。根据本发明实施例的一个方面，有机增透层包括硅基有机光学膜、二氧化钛基有机光学膜、聚合物光学膜、镓基有机光学膜或碳基有机光学膜中的至少一种。根据本发明实施例的一个方面，碳基有机光学膜包括具有表面多孔结构的聚苯乙烯层、聚乙烯吡咯烷酮层、羧基化聚苯乙烯层或氨基化聚甲基丙烯酸甲酯层中的至少一种。根据本发明实施例的一个方面，薄膜增透层为单层无机增透层或者两层以上无机增透层的叠层，薄膜增透层的厚度为20纳米至100纳米。根据本发明实施例的一个方面，显示面板还包括：薄膜封装层，位于发光元件层上，光调整层位于薄膜封装层上，薄膜增透层覆盖光调整层的背向发光元件层的表面，和/或，薄膜增透层覆盖光调整层的朝向发光元件层的表面。根据本发明实施例的一个方面，多个发光元件包括颜色不同的多种，多个滤光单元包括颜色不同的多种，其中，位置对应的滤光单元与发光元件之间颜色相同。根据本发明实施例的一个方面，发光元件为有机发光二极管发光元件，包括第一电极、位于第一电极上的发光结构以及第二电极，其中，第一电极或第二电极中的至少一个为反射电极。第二方面，本发明实施例提供一种显示装置，其包括前述任一实施方式的显示面板。第三方面，本发明实施例提供一种显示面板的制作方法，其包括：提供衬底；在衬底上形成发光元件层，发光元件层包括多个发光元件；在发光元件层的出光侧形成光调整层，包括形成图案化的黑矩阵以及形成多个滤光单元，黑矩阵包括多个开口，每个滤光单元的至少部分设置于开口内，多个滤光单元分别与多个发光元件位置对应；以及形成薄膜增透层，其中薄膜增透层形成于光调整层的至少一个表面。根据本发明实施例的一个方面，形成薄膜增透层包括：形成至少一层无机增透层；和/或，形成至少一层有机增透层，其中，形成至少一层无机增透层包括通过真空蒸镀工艺、等离子体增强化学气相沉积工艺或原子层沉积工艺中的至少一种形成至少一层无机增透层；形成至少一层有机增透层包括通过涂布工艺、喷墨打印工艺中的至少一种形成至少一层有机增透层。根据本发明实施例的显示面板及显示装置，通过设置光调整层，减少环境光照射至发光元件层的光通量，进而也就减少了发光元件所能反射的环境光，降低环境光对显示面板色准、对比度等方面的不利影响。通过在光调整层的至少一个表面增设增透层，使得光调整层自身对环境光的反射率进一步降低，使得显示面板对环境光的减反射效果更加显著。本发明实施例的增透层为薄膜增透层，是在显示面板的制作过程中通过涂覆、沉积等工艺形成的薄膜结构，相对贴附式的增透结构，与显示面板其它层结构的应力更匹配，显示面板弯折时不易分层，且制造成本更低。附图说明通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征，附图并未按照实际的比例绘制。图1示出根据本发明一种实施例的显示面板的俯视示意图；图2示出根据本发明一种实施例的显示面板沿图1中a-a向的剖面示意图；图3示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿图1中a-a向的剖面示意图；图4示出根据本发明又一种替代实施例的显示面板沿图1中a-a向的剖面示意图；图5示出根据本发明一种实施例的显示面板的制作方法的流程图。图中：1000-显示面板；100-衬底；200-发光元件层；210-发光元件；211-第一电极；212-发光结构；213-第二电极；220-像素定义层；300-光调整层；310-黑矩阵；320-滤光单元；400-器件层；500-薄膜封装层；600-薄膜增透层。具体实施方式下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明，并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。本发明实施例提供一种显示面板，该显示面板可以是有机发光二极管(organiclightemittingdiode，oled)显示面板。以下将结合附图对本发明实施例的显示面板进行具体说明。图1示出根据本发明一种实施例的显示面板的俯视示意图，图2示出根据本发明一种实施例的显示面板沿图1中a-a向的剖面示意图。显示面板1000包括衬底100、发光元件层200、光调整层300以及薄膜增透层600。衬底100可以是玻璃制成的衬底，在一些实施例中，也可以是聚酰亚胺(polyimide，pi)材料或者包含pi的材料制成的衬底，使得衬底100可弯折。发光元件层200位于衬底100上。发光元件层200包括多个发光元件210，多个发光元件210可以阵列排布。在一些实施例中，发光元件层200包括像素定义层220，像素定义层220上具有多个像素开口，多个发光元件210分别对应多个像素开口设置。本文中，以发光元件210为oled发光元件为例说明。发光元件210包括第一电极211、位于第一电极211上的发光结构212以及位于发光结构212上的第二电极213。在一些实施例中，第一电极211为发光元件210的阳极，第二电极213为发光元件210的阴极，多个发光元件210的第二电极213可以互连为公共电极。在一些实施例中，第一电极211或第二电极213中的至少一个为反射电极。在一个示例中，第一电极211为包括反射层的电极结构，例如是包括两层透光导电层以及夹设在两层透光导电层之间的反射层，其中透光导电层可以是氧化铟锡(indiumtinoxide，ito)、氧化铟锌等，反射层可以是金属层，例如是银材质制成。第二电极213可以是透光导电层或半透半反射导电层，例如是镁银合金制成。在一些实施例中，第二电极213与第一电极211之间能够形成光学微腔。光调整层300位于发光元件层200的出光侧。光调整层300包括黑矩阵(blackmatrix，bm)310以及多个滤光单元320。滤光单元320即彩色滤光片(colorfilter，cf)。黑矩阵310包括多个开口311，每个滤光单元320的至少部分设置于开口311内，多个滤光单元320分别与多个发光元件210位置对应。当显示面板1000受到环境光照射时，黑矩阵310能够吸收一部分环境光，滤光单元320能够过滤一部分环境光，从而减少环境光照射至发光元件层200的光通量，进而也就减少了发光元件210所能反射的环境光，降低环境光对显示面板色准、对比度等方面的不利影响。包括黑矩阵310和滤光单元320的光调整层300由于能够降低显示面板1000对外界环境光的反射，从而能够代替圆偏光片，并且其厚度相对圆偏光片更低，便于实现显示面板1000的轻薄化。当光调整层300应用于oled显示面板中时，由于oled显示面板在制作过程中oled发光元件无法承受过高温度的工艺，因此需要采用低温材料制作光调整层300的黑矩阵310以及滤光单元320。相关技术中，低温材料制作得到的黑矩阵310以及滤光单元320本身仍然存在大约5％的反射率，仍然会影响显示效果。光调整层300具有相对的两个表面。薄膜增透层600即减反射膜层，薄膜增透层600覆盖光调整层300的至少一个表面。根据本发明实施例的显示面板1000，通过在光调整层300的至少一个表面增设增透层，使得光调整层300自身对环境光的反射率进一步降低，使得显示面板1000对环境光的减反射效果更加显著。本发明实施例的增透层为薄膜增透层600，是在显示面板1000的制作过程中通过涂覆、沉积等工艺形成的薄膜结构，相对贴附式的增透结构，与显示面板1000其它层结构的应力更匹配，显示面板1000弯折时不易分层，且制造成本更低。在一些实施例中，显示面板1000还包括器件层400以及薄膜封装层500。器件层400位于衬底100与发光元件层200之间。器件层400可以包括像素电路，像素电路与发光元件层200的发光元件210电连接，用于驱动发光元件210显示。薄膜封装层500位于发光元件层200的背离衬底100的一侧。在本实施例中，显示面板1000为顶发光显示面板，即发光元件层200的朝向薄膜封装层500的一侧为出光侧。本实施例的光调整层300位于薄膜封装层500的背离衬底100的一侧。在一些实施例中，薄膜封装层500为叠层结构，可以包括第一无机层、位于第一无机层上的有机层以及位于有机层上的第二无机层。第一无机层例如是氧化硅或氮化硅；有机层例如是聚合物有机层；第二无机层例如是氧化硅或氮化硅。在其它一些实施例中，显示面板1000为底发光显示面板，即发光元件层200的朝向衬底100的一侧为出光侧。光调节层300可以设置在发光元件层200的朝向衬底100的一侧，光调节层300可以与发光元件层200接触，也可以在两者直接隔设有其它层。例如在一些实施例中，发光元件层200与光调节层300之间隔设有器件层400以及衬底100。在一些实施例中，多个发光元件210包括颜色不同的多种；多个滤光单元320包括颜色不同的多种。其中，位置对应的滤光单元320与发光元件210之间颜色相同。具体地，多个发光元件210可以包括红色发光元件、绿色发光元件以及蓝色发光元件，多个发光元件210可以呈预定规律阵列排布。在一个示例中，图2中位于左侧的发光元件210为红色发光元件、中部的发光元件210为绿色发光元件、右侧的发光元件210为蓝色发光元件。多个滤光单元320包括红色滤光单元、绿色滤光单元以及蓝色滤光单元，多个滤光单元320的排布规律与多个发光元件210的排布规律相对应匹配。在一个示例中，图2中位于左侧的滤光单元320为红色滤光单元、中部的滤光单元320为绿色滤光单元、右侧的滤光单元320为蓝色滤光单元，使得位置对应的滤光单元320与发光元件210之间颜色相同。如图2，在一些实施例中，薄膜增透层600覆盖光调整层300的背向发光元件层200的表面。然而，薄膜增透层600与光调整层300的位置关系可以不限于上述示例。图3示出根据本发明一种替代实施例的显示面板沿图1中a-a向的剖面示意图。在该替代实施例中，薄膜增透层600覆盖光调整层300的朝向发光元件层200的表面。图4示出根据本发明又一种替代实施例的显示面板沿图1中a-a向的剖面示意图。在该实施例中，光调整层300的两侧均设置有薄膜增透层600。薄膜增透层600覆盖光调整层300的朝向发光元件层200的表面，并且覆盖光调整层300的背向发光元件层200的表面。薄膜增透层600覆盖光调整层300的背向发光元件层200的表面的实施方式相对于薄膜增透层600覆盖光调整层300的朝向发光元件层200的表面的实施方式，对降低光调整层300的反射率的效果更加显著。在一些实施例中，薄膜增透层600包括至少一层无机增透层和/或至少一层有机增透层。无机增透层包括二氧化硅与二氧化钛的叠层(sio2/tio2叠层)、氟化锂(lif)层或氟化镁(mgf2)层中的至少一种。对于无机增透层，可选择真空蒸镀工艺、等离子体增强化学气相沉积(plasmaenhancedchemicalvapordeposition，pecvd)工艺、原子层沉积(atomiclayerdeposition，ald)工艺等工艺形成无机增透层的薄膜。有机增透层包括硅基有机光学膜、二氧化钛基有机光学膜、聚合物光学膜、镓基有机光学膜或碳基有机光学膜中的至少一种。其中，碳基有机光学膜包括具有表面多孔结构的聚苯乙烯(ps)层、聚乙烯吡咯烷酮(pvp)层、羧基化聚苯乙烯(ps-cooh)层或氨基化聚甲基丙烯酸甲酯(pmma-nh2)层中的至少一种。对于有机增透层，可选择涂布工艺、喷墨打印工艺等工艺实现有机增透层薄膜的形成。下表示例出根据本发明一种实施例的显示面板的显示区域的光学透过率。作为对比，下表同时引入第一对比例的显示面板和第二对比例的显示面板的光学透过率数据。其中，第一对比例的显示面板为玻璃封装结构，且未设置薄膜增透层；第二对比例的显示面板为薄膜封装结构，且未设置薄膜增透层；下表中本发明的一种实施例的显示面板为与第二对比例相同的薄膜封装结构，且设有薄膜增透层。其中薄膜增透层为设置在薄膜封装层上的单层lif层。第一对比例、第二对比例、本发明的一种实施例的显示面板的其它结构相同。下表数据可以通过光谱反射仪测试得到。根据上表数据，可见，当薄膜封装层上增加薄膜增透层后，显示面板显示区域的整体透过率平均增长大致5.4％。由于测试光源光强度＝反射光+透射光+材料吸收光，在材料吸收光不变的情况下，光学透过率增加可表明反射率是降低的，即增加薄膜增透层，可有效降低显示面板显示区域的反射率。在一些实施例中，薄膜增透层600为单层无机增透层或者两层以上无机增透层的叠层，该薄膜增透层600的厚度为20纳米至100纳米。在一些实施例中，薄膜增透层600的厚度为80纳米至100纳米，例如是80纳米，从而保证显示面板1000具有较低反射率的同时能够控制薄膜增透层600的厚度在较低的范围内。下表示例出根据本发明一种实施例的显示面板的黑矩阵表面的反射率随薄膜增透层厚度变化的关系。下表中本发明的一种实施例的显示面板中，薄膜增透层为设置在黑矩阵上的单层lif层。薄膜增透层厚度(纳米)020406080100120平均反射率(％)3.952.722.392.202.042.022.14可见，薄膜增透层600为单层无机增透层或者两层以上无机增透层的叠层时，薄膜增透层600的厚度为20纳米至100纳米，尤其在80纳米至100纳米时，能够保证显示面板1000具有尤其低的反射率。本发明实施例还提供一种显示装置，其包括上述任一实施方式的显示面板1000。根据本发明实施例的显示装置，通过在显示面板1000内增设光调整层300，减少环境光照射至发光元件层200的光通量，进而也就减少了发光元件210所能反射的环境光，降低环境光对显示面板1000色准、对比度等方面的不利影响。通过在光调整层300的至少一个表面增设增透层，使得光调整层300自身对环境光的反射率进一步降低，使得显示面板1000对环境光的减反射效果更加显著。本发明实施例的增透层为薄膜增透层600，是在显示面板1000的制作过程中通过涂覆、沉积等工艺形成的薄膜结构，相对贴附式的增透结构，与显示面板1000其它层结构的应力更匹配，显示面板1000弯折时不易分层，且制造成本更低。本发明实施例还提供一种显示面板的制作方法，图5示出根据本发明一种实施例的显示面板的制作方法的流程图，该制作方法包括步骤s110至步骤150。在步骤s110中，提供衬底。在步骤s120中，在衬底上形成器件层以及发光元件层，其中发光元件层位于器件层的背离衬底的一侧。器件层可以包括多个像素电路，发光元件层可以包括多个发光元件，多个发光元件与多个像素电路分别对应电连接，使得像素电路能够驱动对应的发光元件显示。在一些实施例中，发光元件为顶发光器件，发光元件层的背离衬底的一侧为出光侧。在步骤s130中，在所述发光元件层背离衬底的一侧形成薄膜封装层。在一些实施例中，薄膜封装层为叠层结构，可以包括第一无机层、位于第一无机层上的有机层以及位于有机层上的第二无机层。第一无机层例如是氧化硅或氮化硅；有机层例如是聚合物有机层；第二无机层例如是氧化硅或氮化硅。在步骤s140中，在发光元件层的出光侧形成光调整层，本步骤具体可以包括形成图案化的黑矩阵以及形成多个滤光单元，黑矩阵包括多个开口，每个滤光单元的至少部分设置于开口内，多个滤光单元分别与多个发光元件位置对应。在步骤s150中，形成薄膜增透层，其中薄膜增透层形成于光调整层的至少一个表面。需要说明的是，本实施例中，步骤s150可以位于步骤s140之后，使得形成的薄膜增透层位于光调整层的远离衬底的一侧。在其它一些实施例中，步骤s150也可以位于步骤s140之前，使得形成的薄膜增透层位于光调整层的朝向衬底的一侧；还可以在步骤s140之前、之后均进行步骤s150，使得光调整层两侧表面均具有薄膜增透层。在一些实施例中。形成薄膜增透层包括：形成至少一层无机增透层；和/或，形成至少一层有机增透层。其中，形成至少一层无机增透层包括通过真空蒸镀工艺、等离子体增强化学气相沉积工艺或原子层沉积工艺中的至少一种形成至少一层无机增透层；形成至少一层有机增透层包括通过涂布工艺、喷墨打印工艺中的至少一种形成至少一层有机增透层。根据本发明实施例的显示面板的制作方法，在光调整层的至少一个表面形成增透层，使得光调整层自身对环境光的反射率进一步降低，使得显示面板对环境光的减反射效果更加显著。本发明实施例通过涂覆、沉积等工艺形成的薄膜结构的薄膜增透层，相对贴附式的增透结构，与显示面板其它层结构的应力更匹配，显示面板弯折时不易分层，且制造成本更低。依照本发明如上文所述的实施例，这些实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然，根据以上描述，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属
技术领域：
技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。当前第1页12