1.一种激光退火装置，其是将激光束向被处理基板的表面照射来对被处理基板进行退火处理的激光退火装置，其中，
所述激光退火装置具备：
光源部，其具备射出激光的半导体激光器；
均匀化元件，其具有光入射面和与该光入射面对置的光出射面，从所述半导体激光器直接射出的激光向所述光入射面入射，从所述光出射面射出均匀化了的激光束；以及
出射侧成像系统，其将从所述光出射面射出的激光束向被处理基板的表面投影。
2.根据权利要求1所述的激光退火装置，其中，
在所述光源部与所述均匀化元件之间具备入射侧成像系统，所述入射侧成像系统使从所述半导体激光器直接射出的激光的光束整体仅向所述光入射面的区域内入射。
3.根据权利要求1或2所述的激光退火装置，其中，
所述光源部具备多个所述半导体激光器。
4.根据权利要求2所述的激光退火装置，其中，
所述光源部具备单一的所述半导体激光器，
在所述光源部与所述入射侧成像系统之间具备分散元件，所述分散元件使从所述半导体激光器直接射出的激光的光束分散为多束。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的激光退火装置，其中，
从所述出射侧成像系统射出的激光束以矩形形状的光束点的形式投影到所述被处理基板的表面。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的激光退火装置，其中，
所述均匀化元件从所述光出射面射出作为平行光的激光束。
7.根据权利要求1～5中任一项所述的激光退火装置，其中，
所述均匀化元件从柱形积分器、柱阵列、复眼透镜中选择。
8.根据权利要求2或4所述的激光退火装置，其中，
所述入射侧成像系统是配置在所述半导体激光器的活性层的激光出射端面上的片上透镜。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的激光退火装置，其中，
所述光源连续振荡出激光。