一种散热膜的制备方法及显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种散热膜的制备方法及显示装置。

背景技术：

随着显示技术的发展，具有优越色彩和性能表现的oled(organiclight-emittingdiode，有机发光二极管)和microled(微发光二极管)一直被认为是取代lcd(liquidcrystaldisplay，液晶显示器)的下一代显示技术，但是这两种技术都为主动发光，随着解析度的增高，则单位面积的rgb发光基元的需求就越多，从而导致单位面积产生的热量则越多，为了不影响显示装置的正常使用和使用寿命，则需要及时的将产生的热量扩散出去，而目前microled和oled普遍采用玻璃为基板，玻璃的导热系数一般都小于1w/(mk)，因此，导致显示装置的耐热性能差，影响显示装置的正常使用和使用寿命。

因此，急需寻求一种散热膜的制备方法和显示装置，解决现有技术中存在的由于基板的导热系数不高导致的影响显示装置正常使用和其使用寿命低的技术问题。

技术实现要素：

本发明实施例提供一种散热膜的制备方法和显示装置，通过制备一种散热膜，将散热膜应用至显示装置中，提高显示装置基板的导热系数，从而解决现有技术中存在的由于基板的导热系数不高导致的影响显示装置正常使用和其使用寿命低的技术问题。

本申请提供一种散热膜的制备方法，该方法包括：

制备第一溶液；

提供一基板，将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长，以在所述基板表面得到一层有机膜；

将清洗后的所述基板吹干；

在所述有机膜上涂布第二溶液；

将涂布有所述第二溶液的所述有机膜在预设温度下烘烤第二预设时长，得到散热膜。

在本申请的一些实施例中，所述第一溶液的溶质为乙醇，溶剂为去离子水。

在本申请的一些实施例中，在将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长的同时，还通过极紫外光照射所述基板。

在本申请的一些实施例中，所述第二溶液的溶质为有机硅烷，溶剂为甲苯、二甲苯、戊烷、己烷、辛烷、环己烷、环己酮、乙醚、环氧丙烷、氯苯、二氯苯、二氯甲烷、异丙醇、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、乙腈、吡啶中的一种或多种。

在本申请的一些实施例中，所述第二溶液中的溶质和溶剂的体积比为1:1～1:4。

在本申请的一些实施例中，所述有机硅烷的结构式为：

其中，n代表不同长度的碳链，r为含有酯基的链状物、f取代烷烃衍生物、通过烷氧基以及酯基相连接的共轭结构、含有杂环化合物的共轭结构中的一种。

在本申请的一些实施例中，所述杂环化合物为五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物中的一种。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括:

一基板；

一散热膜，设置于所述基板上；

一功能层，设置在所述散热膜上；

其中，所述散热膜采用如上述任一实施例中所述的散热膜的制备方法制备。

在本申请的一些实施例中，所述功能层包括：

一薄膜晶体管层，设置在所述散热膜上；

一发光层，设置在所述薄膜晶体管层上；

多个像素电极，设置在所述发光层内。

在本申请的一些实施例中，所述功能层包括：

一n型氮化镓层，设置在所述散热膜上；

多个发光单元，设置在所述n型氮化镓层上；

多个像素电极，设置在所述多个发光单元上；每一所述电极与每一所述发光单元一一对应。

本发明实施例中通过制备一种散热膜，将散热膜应用至显示装置中，提高显示装置基板的导热系数，从而解决了现有技术中存在的由于基板的导热系数不高导致的影响显示装置正常使用和其使用寿命低的技术问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例一提供的一种散热膜制备方法的流程图；

图2为本发明实施例一提供的散热膜制备方法制备出的散热膜的结构示意图；

图3为本发明实施例二提供的一种oled显示装置的结构示意图；

图4为本发明实施例二提供的一种microled显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本发明，给出了以下描述。在以下描述中，为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本发明。在其它实例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本发明的描述变得晦涩。因此，本发明并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。

本发明实施例提供一种散热膜的制备方法及显示装置。以下分别进行详细说明。

实施例一

图1为本发明实施例一提供的一种显示模组的结构示意图；如图1所示，该方法包括：

步骤s101、制备第一溶液；

具体地，步骤s101包括提供一容器，将第一溶液的溶质和溶剂均置于该容器中，混合均匀得到第一溶液，其中，第一溶液的溶质为乙醇，溶剂为去离子水。

步骤s102、提供一基板，将基板在第一溶液中第一预设时长，以在基板表面得到一层有机膜；

具体地，提供的基板为玻璃、pet(polyethyleneterephthalate，涤纶树脂)、cpi(colorlesspolyimide，无色聚酰亚胺)、pen(poly(ethylenenaphthalate)，聚萘二甲酸乙二醇酯)中的一种。

具体地，基板在第一溶液中的清洗方式为超声清洗，超声清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速作用及直进流作用对液体和待清洗物体直接、间接作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。

进一步地，在将基板在第一溶液中清洗第一预设时长的同时，还通过极紫外光照射基板，具体地，极紫外光(extremeultra-violet，euv)清洗是指提供一光源，通过这一光源对待清洗的基板进行清洗的技术，具体地：光源发射10纳米-14纳米的光波，当光波作用到被清洗物体表面时，由于大多数碳氢化合物对这一波长的紫外光具有较强的吸收能力，并在吸收光波能量后，提高在基板表面形成的羧基的数量，从而在基板表面得到一层有机膜。

其中，第一预设时长为2分钟-10分钟，需要说明的是，第一预设时常可根据实际清洗程度进行设定，优选地，在本申请的一些实施例中，第一预设时常为5分钟。

步骤s103、将清洗后的基板吹干；

具体地，将清洗后的基板吹干包括通过惰性气体将清洗后的基板吹干。

为了降低制备成本，在本申请的一些实施例中，惰性气体为氮气。

步骤s104、在有机膜上涂布第二溶液；

在本申请的一些实施例中，第二溶液的溶质为有机硅烷，溶剂为甲苯、二甲苯、戊烷、己烷、辛烷、环己烷、环己酮、乙醚、环氧丙烷、氯苯、二氯苯、二氯甲烷、异丙醇、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、乙腈、吡啶中的一种或多种。

其中，第二溶液中的溶质和溶剂的体积比为1:1～1:4。

具体地，在本申请的一些实施例中，有机硅烷的结构式为：

其中，n代表不同长度的碳链，r为含有酯基的链状物、f取代烷烃衍生物、通过烷氧基以及酯基相连接的共轭结构、含有杂环化合物的共轭结构中的一种。

在本申请的一些实施例中，杂环化合物为五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物中的一种。其中，五元杂环化合物：呋喃、噻吩、吡咯、噻唑、咪唑等；六元杂环化合物：吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪等和稠环杂环化合物：吲哚、喹啉、蝶啶、吖啶等。

步骤s105、将涂布有第二溶液的有机膜在预设温度下烘烤第二预设时长，得到散热膜。

第二预设时长为25分钟-60分钟，预设温度为100℃-140℃，应当理解的是，预设温度和第二预设时长均可根据实际情况进行调整，在本申请的一些实施例中，预设温度为120℃，第二预设时长为30分钟。

如图2所示，通过上述步骤后，有机硅烷可与基板表面的有机膜通过si-o共价键作用，形成高度有序的紧密自组装结构，这一紧密自组装结构即为散热膜，经测试，这一散热膜的导热系数可为40w/(mk)-120w/(mk)，其最高可达120w/(mk)，传热效果接近金属材料的热传导效果，可大大提高基板的传热能力。

实施例二

本申请实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括:

一基板；一散热膜，设置于基板上；一功能层，设置在散热膜上；其中，散热膜采用上述实施例中的散热膜的制备方法制备。

具体地，本申请实施例提供了一种oled显示装置，如图3所示，该显示装置包括：

一基板310；

一散热膜320，设置在基板310上，散热膜310为由实施例一中的制备方法制备的散热膜；

一薄膜晶体管层(tft)330，设置在散热膜320上；

一发光层340，设置在薄膜晶体管层330上；具体地：发光层340包括多个发光单元，在本申请的一些实施例中，发光层包括三个发光单元，分别为用于发红光的红色发光单元341，用于发绿光的绿色发光单元342，用于发蓝光的蓝色发光单元343；

多个像素电极350，多个像素电极350与多个发光单元一一对应。

应当理解的是，oled显示装置还可包括偏光层、保护层等其他常规结构，再次不做赘述。

其中，基板310为玻璃、pet、cpi、pen中的一种。

本发明实施例通过将oled显示装置中的基板设置为带有散热膜的基板，大大提高了基板的散热能力，从而提高了oled显示装置的耐热性，增强了其用户体验度和使用寿命。

实施例三

本申请实施例提供了一种microled显示装置，具体地，如图4所示，microled显示面板400包括：

一基板410；

一散热膜420，设置在基板410上，散热膜410为由实施例一中的制备方法制备的散热膜；

一n型氮化镓层(n-gan)430，设置在散热膜420上；

多个发光单元440，设置在n型氮化镓层430上；具体地，在本申请的一些实施例中，microled显示装置包括三个发光单元，分别为用于发红光的红色发光单元432，用于发绿光的绿色发光单元432，用于发蓝光的蓝色发光单元433；

多个像素电极450，设置在多个发光单元440上；每一像素电极450与每一发光单元440一一对应。

应当理解的是，本申请中的microled显示装置还可包括封装基板及其他结构，通过设置封装基板可对microled显示装置进行进一步地保护。

本发明实施例通过将microled显示装置中的基板设置为带有散热膜的基板，大大提高了基板的散热能力，从而提高了microled显示装置的耐热性，增强了其用户体验度和使用寿命。

需要说明的是，显示装置并不限于上述两种实施例提出的显示装置。

本发明实施例中通过制备一种散热膜，将散热膜应用至显示装置中，提高显示装置基板的导热系数，从而解决了现有技术中存在的由于基板的导热系数不高导致的影响显示装置正常使用和其使用寿命低的技术问题。

以上对本发明所提供一种散热膜的制备方法及显示装置进行了详细介绍。应理解，本文所述的示例性实施方式应仅被认为是描述性的，用于帮助理解本发明的核心思想，而并不用于限制本发明。在每个示例性实施方式中对特征或方面的描述通常应被视作适用于其他示例性实施例中的类似特征或方面。尽管参考示例性实施例描述了本发明，但可建议所属领域的技术人员进行各种变化和更改。本发明意图涵盖所附权利要求书的范围内的这些变化和更改，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。