具有多金属栅结构的HEMT器件及其制备方法与流程

本发明涉及半导体领域，特别涉及具有多金属栅结构的hemt器件及其制备方法。

背景技术：

gan材料因具有高电子迁移率、低导通电阻、优异的散热能力以及高击穿等特性，广泛应用于高频功率放大器与高压功率开关等场合。目前gan基hemt器件的击穿电压远远没有达到gan材料的理论极限值（3.4mv/cm）,器件往往容易在栅漏之间击穿，如何降低靠近漏极一侧的栅极边缘的高电场峰值将有益于提高器件的击穿电压。目前最常见的方法是采用栅极场板或者源极场板来调节电场分布，从而降低靠近漏极一侧的栅极边缘的高电场峰值。另一方面，由于栅极注入电子导致的虚栅效应加剧了对于器件电流崩塌的影响，使得器件在应力条件下表现出较差的性能。目前普遍采用钝化工艺来减小势垒层上的表面态，抑制电流崩塌（r.hao,etal,ieeeelectrondevicelett.,2017,38(11)）；采用场板工艺来调制电场，从而减小表面态的做法也有相关的报道（h.hanawa,etal,ieeeinternationalreliabilityphysicssymposiumproceedings.,2013）。有学者（a.k.visvkarma,etal,semicond.sci.technol.,2019，34(10)）通过改变电子束沉积的角度来实现双层栅极金属工艺，形成了ni/(al)gan与ti/(al)gan栅极双接触界面，改变了栅极边缘电场分布，提高了器件的击穿电压与动态性能。

目前沉积金属的设备一般是电子束蒸发或者磁控溅射。磁控溅射设备主要是依靠氩离子轰击靶材，将材料的原子溅射出来至晶圆表面；而电子束蒸发设备主要是依靠加热，让材料融化，到达沸点后，材料的粒子一个个的脱离材料表面到达晶圆表面。对于磁控溅射设备而言，其溅射距离短，主要涉及到粒子之间的碰撞，有一个粒子运动的平均自由程要考虑，类似于一个点光源，各个粒子间角度大，因此溅射在晶圆表面上的材料的区域会比定义的光刻窗口要大；而电子束蒸发的腔体长，类似于平行的光源，金属材料会垂直的蒸发在晶圆表面上。

综上所述，双层栅极金属工艺有助于改善器件的击穿电压和动态性能。但上述提到的改变电子束沉积的角度的方法很难精确控制，且重复性差。

技术实现要素：

本发明提出了具有多金属栅结构的hemt器件，利用磁控溅射制备的第二层金属y完全包裹住了利用电子束制备的第一层金属x，形成了yxy金属栅结构，调节了电场分布，降低了靠近漏极的栅极边缘的电场峰值，提高了器件的击穿电压；与此同时，较低的栅极边缘的电场峰值减弱了栅极注入电子以形成虚栅对于器件的电流崩塌的影响，提高了器件的动态性能。

本发明的目的至少通过如下技术方案之一实现的。

本发明提供了具有多金属栅结构的hemt器件，所述器件包括algan/gan外延，algan/gan外延上表面的两端分别连接源漏电极，所述源漏电极靠近源极侧设置栅电极，所述栅电极第一层金属x采用电子束蒸发方式沉积，所述栅电极第二层金属y采用磁控溅射方式沉积，所述栅电极第二层金属y的功函数高于第一层金属x的功函数，无需额外的光刻步骤，所述栅电极剥离后形成的与(al)gan接触的金属结构为y/x/y。

本发明采用电子束与磁控溅射相结合的方法，金属剥离后实现了多金属栅结构y/x/y，该方法不需要改变电子束沉积的角度，电子束与磁控溅射只需采用传统的沉积方式，具有可重复性，且相较于上述提到的双层栅极金属工艺，基于本发明的方法实现的是三层栅极金属工艺。

本发明提供的具有多金属栅结构的hemt器件，包括：algan/gan外延、源漏电极及栅电极；所述algan/gan外延上表面的两端分别连接源漏电极；所述栅电极与algan/gan外延上表面连接；所述栅电极包含第一层金属x和第二层金属y；所述栅电极剥离后形成的与(al)gan接触的金属结构为y/x/y。

本发明提供的具有多金属栅结构的hemt器件是一种algan/ganhemt器件。

进一步地，所述第一层金属x两侧的第二层金属y的长度为0.5-1μm。

进一步地，所述二层金属y完全包裹住了第一层金属x。

进一步地，所述栅电极到源极的距离小于栅电极到漏极的距离，即所述源漏电极靠近源极侧设置栅电极。

本发明提供一种制备所述的具有多金属栅结构的hemt器件的方法，包括如下步骤：

（1）在algan/gan外延上定义源漏电极窗口，制备源漏电极并进行退火形成欧姆接触；

（2）定义栅电极光刻窗口，制备多金属栅结构y/x/y，得到所述具有多金属栅结构的hemt器件。

进一步地，步骤（2）所述栅电极的光刻窗口设计为1-2μm。

进一步地，步骤（2）所述多金属栅结构y/x/y中，第一层金属x采用电子束蒸发方式沉积，第二层金属y采用磁控溅射方式沉积；且第二层金属y的厚度要大于第一层金属x的厚度。

进一步地，步骤（2）所述多金属栅结构y/x/y中，第一层金属x为ni、ti、tin等中的一种，第二层金属y为cu、w、ni等中的一种。

和现有技术相比，本发明具有以下有益效果和优点：

本发明利用电子束与磁控溅射制备的多金属栅极，无需额外的光刻步骤，磁控溅射制备的第二层金属y完全包裹住了电子束制备的第一层金属x，形成了多金属栅结构y/x/y；调节了电场分布，降低了靠近漏极的栅极边缘的电场峰值，提高了器件的击穿电压；与此同时，较低的栅极边缘的电场峰值减弱了栅极注入电子以形成的虚栅效应，通过进行c-v特性的测试，在10khz的测试频率下对应的w/tin/w结构的器件的饱和电容（158pf）相较于tin结构的器件（136pf）下降了13.9%，提高了器件的动态性能。

附图说明

图1为实施例的在制备源漏接触电极前gan基hemt器件的外延层的示意图；

图2为实施例的在制备完源漏接触电极并进行退火形成欧姆接触后的器件结构示意图；

图3为实施例的形成栅电极后的器件结构示意图；

图4为实施例2制备的具有多金属栅结构的hemt器件与tin结构的器件的电容数据图；

图中，algan/gan外延1，源漏电极2，栅电极3。

具体实施方式

以下结合实例对本发明的具体实施作进一步说明，但本发明的实施和保护不限于此。需指出的是，以下若有未特别详细说明之过程，均是本领域技术人员可参照现有技术实现或理解的。

实施例1

本实施例提供了具有多金属栅结构的hemt器件，如图3所示，所述器件包括algan/gan外延1，algan/gan外延上表面的两端分别连接源漏电极2，所述源漏电极2靠近源极侧设置栅电极3，所述栅电极3第一层金属ti采用电子束蒸发方式沉积，所述栅电极3第二层金属ni采用磁控溅射方式沉积，无需额外的光刻步骤，所述栅电极3剥离后形成的与(al)gan接触的金属结构为ni/ti/ni。图3中的g-1表示第一层金属，g-2表示第二层金属。

本实施例还提供了制备具有多金属栅结构的hemt器件的方法，包括以下步骤：

（1）在algan/gan外延（制备源漏接触电极前的外延层如图1所示）上1定义源漏电极窗口，制备源漏电极2并进行退火形成欧姆接触，如图2所示；

（2）定义栅电极3光刻窗口，制备多金属栅结构ni/ti/ni，如图3所示；hemt器件的栅极光刻窗口设计为1μm，栅电极剥离后形成的金属结构ni/ti/ni中，第一层金属ti两侧的第二层金属ni的长度为0.7μm，第一层金属ti的厚度为50nm，第二层金属ni的厚度为250nm，且第二层金属ni完全包裹住了第一层金属ti，得到所述具有多金属栅结构的hemt器件。

实施例1制备的具有多金属栅结构的hemt器件具有良好的动态性能及较低的饱和电容，可参照图4所示。

实施例2

本实施例提供了具有多金属栅结构的hemt器件，如图3所示，所述器件包括algan/gan外延1，algan/gan外延上表面的两端分别连接源漏电极2，所述源漏电极2靠近源极侧设置栅电极3，所述栅电极3第一层金属tin采用电子束蒸发方式沉积，所述栅电极3第二层金属w采用磁控溅射方式沉积，无需额外的光刻步骤，所述栅电极3剥离后形成的与(al)gan接触的金属结构为w/tin/w。

本实施例还提供了制备具有多金属栅结构的hemt器件的方法，包括以下步骤：

（1）在algan/gan外延上1定义源漏电极窗口，制备源漏电极2并进行退火形成欧姆接触，如图2所示；

（2）定义栅电极3光刻窗口，制备多金属栅结构w/tin/w，如图3所示；hemt器件的栅极光刻窗口设计为1μm，栅电极剥离后形成的金属结构w/tin/w中，第一层金属tin两侧的第二层金属w的长度为0.5μm，第一层金属tin的厚度为50nm，第二层金属w的厚度为200nm，且第二层金属w完全包裹住了第一层金属tin，得到所述具有多金属栅结构的hemt器件。

图4为实施例2制备的具有多金属栅结构的hemt器件（w/tin/w）的c-v特性比较图，仅展示了在测试频率为10khz时对应的电容数据，可以看出，具有w/tin/w结构的器件相较于tin结构的器件的饱和电容值更低。

以上实施例仅为本发明较优的实施方式，仅用于解释本发明，而非限制本发明，本领域技术人员在未脱离本发明精神实质下所作的改变、替换、修饰等均应属于本发明的保护范围。