一种像素界定层、显示基板及显示装置的制作方法

1.本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种像素界定层、显示基板及显示装置。


背景技术：

2.有机发光二极管(英文：organic light
‑
emitting diode；简称：oled)像素界定层包括阳极、有机发光层和阴极等。其中，有机发光层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光材料层、电子传输层和电子注入层等，有机发光层可以使用喷墨打印技术制造而成。在使用喷墨打印技术制造有机发光层时，需要先在玻璃基板上形成像素界定层，然后将溶解有机发光层的材料的溶液喷到形成有像素界定层的玻璃基板上，以形成有机发光层。
3.目前，使用喷墨打印工艺制备有机发光层中，由于墨水在像素界定层侧壁的攀爬，很容易引起panel(面板)子像素内发光不均匀，子像素内四周发光较暗，进而引起panel发光效率较低，极大影响显示效果。


技术实现要素：

4.本发明实施例提供了一种像素界定层、显示基板及显示装置，用于解决背景技术中的问题。
5.因此，本发明实施例提供了一种像素界定层，包括依次层叠设置在基底上的至少三个子界定层，每两个相互接触的子界定层中，远离所述基底的子界定层在所述基底上的正投影位于靠近所述基底的子界定层在所述基底上的正投影内，且各所述子界定层在所述基底上的正投影的边缘不重合；其中，
6.所述至少三个子界定层限定出多个不同颜色的子像素区域，在至少一个子界定层中，不同颜色的子像素区域对应的所述子界定层的厚度不完全相同。
7.可选地，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，各所述子界定层中，不同颜色的子像素区域对应的所述子界定层的厚度各不相同。
8.可选地，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，所述子像素区域包括红色子像素区域、绿色子像素区域和蓝色子像素区域，所述像素界定层包括依次层叠设置在所述基底上的三个子界定层；其中，
9.在最靠近所述基底的子界定层中，所述绿色子像素区域、所述红色子像素区域和所述蓝色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小；
10.在最远离所述基底的子界定层中，所述蓝色子像素区域、所述红色子像素区域和所述绿色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小；
11.在中间子界定层中，所述蓝色子像素区域、所述红色子像素区域和所述绿色子像素区域对应的所述子界定层的厚度依次减小。
12.可选地，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，所述像素界定层中远离所述基底的表面上的各点到所述基底顶面的距离相同。
13.可选地，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，各所述子像素区域周围的子
界定层两两之间具有填充部；
14.所述填充部与所述子界定层为一体结构；或所述填充部与所述子界定层为独立的结构，且所述填充部的材料与所述子界定层的材料相同。
15.可选地，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，各所述子界定层在所述基底上的正投影的中心重合。
16.可选地，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，每两个相互接触的子界定层中，远离所述基底的子界定层在所述基底上的正投影面积为靠近所述基底的子界定层在所述基底上的正投影面积的60％～95％。
17.可选地，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，各所述子界定层均包括含氟材料，且沿所述基底表面指向远离所述基底表面的方向上，各所述子界定层包括的含氟材料的比例依次增大。
18.可选地，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，所述含氟材料包括以下至少之一：多氟苯类，氯氟苯类，溴氟苯类，碘氟苯类，氟硝基苯类，氟苯胺类，氟苯酚类，氟苯甲醛类，氟苯丙酮类，氟苯甲酸类，苯甲酚氯类，氟甲苯类，单三氟甲苯类，双三氟甲苯类，氟吡啶类，三氟甲基吡啶类。
19.相应地，本发明实施例还提供了一种显示基板，包括：基底以及设置在所述基底上的像素界定层，所述像素界定层为本发明实施例提供的上述像素界定层。
20.可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，还包括：设置在所述基底和所述像素界定层之间的阳极，以及设置在所述阳极远离所述基底一侧的至少三个有机功能层；所述像素界定层包括的子界定层的个数与所述有机功能层的个数相同。
21.可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，除最远离所述基底的子界定层之外，其余各所述子界定层远离所述基底的表面到所述基底顶面的高度大于或等于对应的所述有机功能层的边缘最高点到所述基底顶面的高度。
22.可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，最远离所述基底的子界定层的表面到所述基底顶面的高度大于最远离所述阳极的有机功能层的边缘最高点到所述基底顶面的高度。
23.可选地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述阳极上依次设置有三个有机功能层，最靠近所述阳极的有机功能层为空穴注入层，最远离所述阳极的有机功能层为发光层，位于所述空穴注入层和所述发光层之间的有机功能层为空穴传输层。
24.相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述任一项所述的显示基板。
25.本发明实施例的有益效果如下：
26.本发明实施例提供的上述像素界定层、显示基板及显示装置，该像素界定层包括依次层叠设置在基底上的至少三个子界定层，每两个相互接触的子界定层中，远离基底的子界定层在基底上的正投影位于靠近基底的子界定层在基底上的正投影内，且各子界定层在基底上的正投影的边缘不重合，本发明实施例提供的像素界定层的结构相当于扩大了除最靠近基底的子界定层以外的其余各子界定层的开口区域面积，在通过喷墨打印工艺形成多层有机功能层时，每层子界定层的高度对应一层有机功能层产生的攀爬，这样可以增大各有机功能层对应的有效发光区域的均匀性，进而有效地提高了墨水在子像素区域内的成
膜均一性，进而提高了像素内亮度的均匀性。并且，为了提高器件发光效率，不同颜色子像素区域对应的各有机功能层的厚度会有差异，因此相应的子界定层的厚度也应有所差异，因此，本发明实施例通过将不同颜色的子像素区域对应的子界定层的厚度设置成不完全相同，可以提高像素发光效率，进而提高面板良率。
附图说明
27.图1为本发明实施例提供的一种像素界定层的结构示意图之一；
28.图2为本发明实施例提供的一种像素界定层的结构示意图之二；
29.图3为本发明实施例提供的一种像素界定层的结构示意图之三；
30.图4为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
31.图5为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
32.为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
33.附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
34.本发明实施例提供的一种像素界定层2，如图1所示，包括依次层叠设置在基底1上的至少三个子界定层(本发明实施例以像素界定层2包括三个子界定层21、22和23为例进行说明)，每两个相互接触的子界定层中，远离基底1的子界定层在基底1上的正投影位于靠近基底1的子界定层在基底1上的正投影内，且各子界定层在基底1上的正投影的边缘不重合(如图1所示，三个子界定层21、22和23在基底1上的正投影依次减小且正投影的边缘不重合)；其中，
35.如图2所示，至少三个子界定层限定出多个不同颜色的子像素区域(本发明实施例以红色子像素区域r、绿色子像素区域g和蓝色子像素区域b为例进行说明)，在至少一个子界定层(例如子界定层21)中，不同颜色的子像素区域(r、g、b)对应的子界定层的厚度不完全相同。
36.本发明实施例提供的上述像素界定层的结构相当于扩大了除最靠近基底的子界定层以外的其余各子界定层的开口区域面积，在通过喷墨打印工艺形成多层有机功能层时，每层子界定层的高度对应一层有机功能层产生的攀爬，这样可以增大各有机功能层对应的有效发光区域的均匀性，进而有效地提高了墨水在子像素区域内的成膜均一性，进而提高了像素内亮度的均匀性。并且，为了提高器件发光效率，不同颜色子像素区域对应的各有机功能层的厚度会有差异，因此相应的子界定层的厚度也应有所差异，因此，本发明实施例通过将不同颜色的子像素区域对应的子界定层的厚度设置成不完全相同，可以提高像素发光效率，进而提高面板良率。
37.需要说明的是，上述所说的正投影的边缘不重合是指两者的边缘错开一定的距离，且通过调节两者错开的距离，以及调节子界定层的厚度，能够相应地调节墨水在像素界定层上的攀爬程度，进而提高墨水在子像素区域内的成膜均一性。
38.在具体实施时，由于不同颜色的子像素区域发光性能的差异，不同颜色子像素区域对应的各有机功能层的厚度不同，为了进一步提高发光效率，不同厚度的有机功能层对应的子界定层的厚度也应不同，因此在本发明实施例提供的上述像素界定层中，各子界定层中，不同颜色的子像素区域对应的子界定层的厚度各不相同。具体地，如图2所示，在子界定层21中，红色子像素区域r对应的子界定层21的厚度、绿色子像素区域g对应的子界定层21的厚度、蓝色子像素区域b对应的子界定层21的厚度各不相同；在子界定层22中，红色子像素区域r对应的子界定层22的厚度、绿色子像素区域g对应的子界定层22的厚度、蓝色子像素区域b对应的子界定层22的厚度各不相同；在子界定层23中，红色子像素区域r对应的子界定层23的厚度、绿色子像素区域g对应的子界定层23的厚度、蓝色子像素区域b对应的子界定层23的厚度各不相同。
39.在具体实施时，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，如图2所示，子像素区域包括红色子像素区域r、绿色子像素区域g和蓝色子像素区域b，像素界定层2包括依次层叠设置在基底1上的三个子界定层(21、22、23)；其中，
40.采用喷墨打印工艺形成的有机功能层一般为空穴注入层、空穴传输层和发光层，空穴注入层最靠近基底1，发光层最远离基底1，空穴传输层位于空穴注入层和发光层之间；由于红色子像素区域r、绿色子像素区域g和蓝色子像素区域b对应的发光性能不同，因此在实际制作时，不同颜色的子像素区域对应的空穴注入层、空穴传输层和发光层的厚度不同，因此不同颜色的子像素区域对应的各子界定的厚度也不同。
41.具体地，如图2所示，在最靠近基底1的子界定层21中，该子界定层21限定的子像素区域用于打印空穴注入层，绿色子像素区域g对应的空穴注入层的厚度、红色子像素区域r对应的空穴注入层的厚度和蓝色子像素区域b对应的空穴注入层的厚度依次减小，因此绿色子像素区域g、红色子像素区域r和蓝色子像素区域b对应的子界定层21的厚度(d1、d2、d3)依次减小；
42.在最远离基底1的子界定层23中，该子界定层23限定的子像素区域用于打印发光层，蓝色子像素区域b对应的发光层的厚度、红色子像素区域r对应的发光层的厚度和绿色子像素区域g对应的发光层的厚度依次减小，因此蓝色子像素区域b、红色子像素区域r和绿色子像素区域g对应的子界定层23的厚度(d4、d5、d6)依次减小；
43.在中间子界定层22中，该子界定层22限定的子像素区域用于打印空穴传输层，蓝色子像素区域b对应的空穴传输层的厚度、红色子像素区域r对应的空穴传输层的厚度和绿色子像素区域g对应的空穴传输层的厚度依次减小，因此蓝色子像素区域b、红色子像素区域r和绿色子像素区域g对应的子界定层22的厚度(d7、d8、d9)依次减小。
44.在具体实施时，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，如图1和图2所示，像素界定层2中远离基底1的表面24上的各点到基底1顶面11的距离相同。具体地，在理想状态下，每个子界定层在水平方向上的表面24与基底1是平行的，但是实际应用中，由于工艺误差等因素的存在，子界定层在水平方向上的表面24与基底1可能存在微小的夹角，此时，也可以将该子界定层的表面24与基底1视为平行。
45.在具体实施时，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，如图2所示，各子像素区域(r、g、b)周围的子界定层(如子界定层21)两两之间具有填充部25；
46.填充部25与子界定层(21、22、23)可以为一体结构，这样填充部25与子界定层(21、
22、23)能够由一个子界定薄膜层经过多次构图工艺后形成，或者，该填充部25与子界定层(21、22、23)能够由一个子界定薄膜层通过透光率不同的掩膜版、经过一次构图工艺后形成，且当填充部25与子界定层(21、22、23)由一个子界定薄膜层经过一次构图工艺后形成时，能够简化制造像素界定层的制造工艺。
47.当然，如图2所示，填充部25与子界定层(21、22、23)也可以为独立的结构，且填充部25的材料与子界定层(21、22、23)的材料相同，这样子界定层(21、22、23)可以由一个子界定薄膜层经过多次构图工艺后形成，然后在子界定层之间经过一次构图工艺制作填充部25；或者该子界定层(21、22、23)能够由一个子界定薄膜层通过透光率不同的掩膜版、经过一次构图工艺后形成，然后在子界定层之间经过一次构图工艺制作填充部25。
48.在具体实施时，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，如图2所示，各子界定层(21、22、23)在基底1上的正投影的中心重合。这样可以使每个子界定层的左侧与右侧对称，使得两者对子界定层左侧和右侧的像素区域内的膜层的攀爬程度几乎相同，进一步提高了溶液在子像素区域内的成膜均一性。
49.在具体实施时，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，如图2所示，每两个相互接触的子界定层(例如21和22)中，远离基底1的子界定层22在基底1上的正投影面积为靠近基底1的子界定层21在基底1上的正投影面积的60％～95％。这样扩大了子界定层22的开口区域面积，在通过喷墨打印工艺形成空穴传输层时，可以增大空穴传输层对应的有效发光区域的均匀性，进而有效地提高了空穴传输层墨水在子像素区域内的成膜均一性，进而提高了像素内亮度的均匀性。
50.同理，例如两个相互接触的子界定层(例如22和23)中，远离基底1的子界定层23在基底1上的正投影面积为靠近基底1的子界定层23在基底1上的正投影面积的60％～95％，这样扩大了子界定层23的开口区域面积，在通过喷墨打印工艺形成发光层时，可以增大发光层对应的有效发光区域的均匀性，进而有效地提高了发光层墨水在子像素区域内的成膜均一性，进而提高了像素内亮度的均匀性。
51.在具体实施时，为了进一步降低膜层边缘的攀爬效果，提高整体膜层均一性，进而提高发光均一性，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，如图3所示，各子界定层(21、22、23)均包括含氟材料10，通过调节各子界定层(21、22、23)中加入的含氟材料10的比例进行疏液性调配，使各子界定层(21、22、23)中疏液性由下至上依次升高，因此沿基底1表面11指向远离基底1表面11的方向上，各子界定层(21、22、23)包括的含氟材料10的比例依次增大，即子界定层23包括的含氟材料10的比例最大，子界定层22包括的含氟材料10的比例次之，子界定层21包括的含氟材料10的比例最小，使得形成的各子界定层的侧壁顶部表现为疏液性，可以降低子界定层边缘的攀爬效果，提高整体膜层均一性，进而提高发光均一性。
52.在具体实施时，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，如图3所示，含氟材料包括以下至少之一：多氟苯类，氯氟苯类，溴氟苯类，碘氟苯类，氟硝基苯类，氟苯胺类，氟苯酚类，氟苯甲醛类，氟苯丙酮类，氟苯甲酸类，苯甲酚氯类，氟甲苯类，单三氟甲苯类，双三氟甲苯类，氟吡啶类，三氟甲基吡啶类。
53.需要说明的是，上述含氟材料只是本发明实施例列举的一部分材料，当然本发明不限于此。
54.需要说明的是，本发明实施例是以像素界定层包括三层子界定层为例进行说明
的，当然子界定层的数量可以为4层甚至更多层，根据采用喷墨打印工艺形成的有机功能层的层数来设置子界定层的层数。
55.需要说明的是，在本发明实施例提供的上述像素界定层中，构图工艺可只包括光刻工艺，或，可以包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。在具体实施时，可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。
56.基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示基板，如图4所示，包括：基底1以及设置在基底1上的像素界定层2，像素界定层2为所述的像素界定层。
57.在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图4所示，还包括：设置在基底1和像素界定层2之间的阳极(未示出)，以及设置在阳极远离基底1一侧的至少三个有机功能层(本发明实施例以包括空穴注入层31、空穴传输层32、发光层33三层有机功能层为例)；像素界定层2包括的子界定层(21、22、23)的个数与有机功能层(31、32、33)的个数相同。
58.在具体实施时，各有机功能层采用喷墨打印、烘烤后的边缘攀爬高度不能大于对应的子界定层的高度，因此在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图4所示，除最远离基底1的子界定层23之外，其余各子界定层(例如21)远离基底1的表面24到基底1顶面11的高度h1大于或等于对应的有机功能层31的边缘最高点a到基底1顶面11的高度h2；最远离基底1的子界定层23的表面24到基底1顶面11的高度h3大于最远离阳极的有机功能层33的边缘最高点b到基底1顶面11的高度。
59.在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图4所示，阳极上依次设置有三个有机功能层(31、32、33)，最靠近阳极的有机功能层为空穴注入层31(hole inject layer，hil)，最远离阳极的有机功能层为发光层33，位于空穴注入层31和发光层33之间的有机功能层为空穴传输层32(hole transport layer，htl)。
60.具体地，本发明实施例提供的上述显示基板中，发光层32至少包括：红色发光层、绿色发光层以及蓝色发光层。除此之外，还可以包括白的发光层，根据具体的像素的排列方式而定，在此不作具体限定。
61.具体实施时，本发明实施例提供的上述显示基板中，阳极的材料包括透明导电材料或半透明导电材料。
62.在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示基板还可以包括本领域技术人员熟知的其它功能性膜层，在此不做详述。
63.下面对如图4所示的显示基板中各有机功能层(31、32、33)的制作方法进行说明：首先在制备好的基底1(包括驱动电路等结构)上通过溅射工艺形成阳极，然后通过透光率不同的掩膜版制作子界定层(21、22、23)进，接着进行空穴注入层31、空穴传输层32和发光层33的打印工艺，31、32、33为墨水打印到子像素区域内经过烘烤后成膜，由于墨水与子界定层的交互作用，膜层在边缘会有一定攀爬。
64.具体地，空穴注入层31的制作方法：采用喷墨打印工艺，按照子像素区域设计打印空穴注入层材料，待喷墨打印结束，进行vcd真空干燥，之后进行空穴注入层材料膜层烘烤，此处需调节空穴注入层材料膜层烘烤后边缘攀爬的高度与子界定层21的高度相同，或根据
空穴注入层材料膜层厚度来进行子界定层21高度的制备，以形成空穴注入层31。
65.具体地，空穴传输层32的制作方法：采用喷墨打印工艺，按照子像素区域设计打印空穴传输层材料，待喷墨打印结束，进行vcd真空干燥，之后进行空穴传输层材料膜层烘烤，此处需调节空穴传输层材料膜层烘烤后边缘攀爬的高度与子界定层22的高度相同，或根据空穴传输层材料膜层厚度来进行子界定层21高度的制备，以形成空穴传输层32。
66.空穴传输层32的材料一般为p型半导体材料，具体可以为芳胺类化合物配置而成墨水，具体可选下列之一或两者共混，并且包括以下材料取代基进行适当改变优化所得材料：
[0067][0068]
当然空穴传输层32的材料不限于上述提供的几种材料。
[0069]
之后按照子像素区域设计依次打印不同颜色的发光层33，rgb三个子像素区域的喷墨打印顺序可以进行更改，没有严格限制，待全屏喷墨打印结束，进行vcd真空干燥，此处rgb三色墨水为不同墨水，如处理条件为相同条件，可将三色全部打印结束后一起进行vcd及烘烤处理；如处理条件不同，需按照温度高低，先进行打印高烘烤温度发光膜层，打印结束后进行vcd及烘烤，之后以此打印次高烘烤温度发光膜层并进行vcd及烘烤处理，最后打印最低烘烤温度发光膜层并进行相应vcd及烘烤处理；发光膜层为采用打印工艺的最后一层膜层，只需确保不会出现溢流等问题即可，最终膜层厚度低于像素界定层2的高度。
[0070]
之后，将面板传入蒸镀腔室进行蒸镀工艺，依次蒸镀电子传输层、电子注入层与金属反射阴极；电子传输层一般为n型有机半导体材料，具体可选下列之一或两者共混，并且包括以下材料取代基进行适当改变优化所得材料；
[0071][0072]
具体地，金属反射阴极可选用al、ag或ag/mg合金等。
[0073]
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述实施例中的显示基板。由于该显示装置解决问题的原理与前述一种显示基板相似，因此该显示装置的实施可以参见前述显示基板的实施，重复之处不再赘述。
[0074]
在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示装置可以为全面屏显示装置，或者也可以为柔性显示装置等，在此不作限定。
[0075]
在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示装置可以为如图5所示的全面屏的手机。当然，本发明实施例提供的上述显示装置也可以为平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。
[0076]
本发明实施例提供的上述像素界定层、显示基板及显示装置，该像素界定层包括依次层叠设置在基底上的至少三个子界定层，每两个相互接触的子界定层中，远离基底的子界定层在基底上的正投影位于靠近基底的子界定层在基底上的正投影内，且各子界定层在基底上的正投影的边缘不重合，本发明实施例提供的像素界定层的结构相当于扩大了除最靠近基底的子界定层以外的其余各子界定层的开口区域面积，在通过喷墨打印工艺形成多层有机功能层时，每层子界定层的高度对应一层有机功能层产生的攀爬，这样可以增大各有机功能层对应的有效发光区域的均匀性，进而有效地提高了墨水在子像素区域内的成膜均一性，进而提高了像素内亮度的均匀性。并且，为了提高器件发光效率，不同颜色子像素区域对应的各有机功能层的厚度会有差异，因此相应的子界定层的厚度也应有所差异，因此，本发明实施例通过将不同颜色的子像素区域对应的子界定层的厚度设置成不完全相同，可以提高像素发光效率，进而提高面板良率。
[0077]
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。