微细图案形成系统的制作方法

微细图案形成系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种微细图案形成系统，本实用新型的微细图案形成系统，包括：输送部，连续输送形成有阴刻图案的衬底；和填充部，在与所述衬底接触的状态下向所述衬底供给填料，并且以垂直于所述衬底的虚拟的转轴为中心进行旋转，从而将所述填料填充到所述阴刻图案内。
【专利说明】
微细图案形成系统
技术领域
[0001] 本实用新型设及一种微细图案形成系统及微细图案形成方法，更为详细地设及一 种能够易于制作在微细线宽的阴刻图案内均匀地填充有填料形式的微细图案的微细图案 形成系统及微细图案形成方法。
【背景技术】
[0002] 最近，随着电子产品的轻量薄型及小型化趋势，共同要求W高密度、高集成形式制 作显示器或电晶体等的电子元件，随之，用于形成能够用于电极或布线（metallization lines)的微细金属图案的技术备受关注。迄今广为人知的金属的微细图案制作技术通常经 过薄膜的真空沉积和光刻工序而形成。
[0003] 上述方法为，在衬底上沉积导电材料后，为了形成微细图案电路，在导电材料表面 上涂敷干膜(Dry Film)或感光液之后，照射紫外线化V)使之固化，然后使用显影液进行显 影，接下来使用化学蚀刻液形成需要实现的微细图案的方法。
[0004] 光刻工序虽然具有能够形成高分辨率(resolution)的图案的优点，但具有设备昂 贵、生产工艺复杂、因蚀刻工序的反复进行而排出过量的化学废物的缺点。而且在最近，随 着柔性电子元件的出现，提出有在低溫下能够进行大面积化的构图工序的重要性，于是正 在蓬勃开展寻找代替W往的光刻工序的诸多研究开发。该光刻工序为典型的需要高额设备 及高额成本的工序。
[0005] 例如有喷墨印刷、凹版胶印、反向胶印和激光蚀刻构图等。运种方式的优点是其为 直接构图方式运一点，部分技术还表现出相当高的技术进步，但由于在微细线宽的实现性、 可靠性和生产工艺速度上分别具有局限性，因此还不能代替光刻工序的大多部分。
[0006] 纳米压印(nano imprint)技术是为了弥补上述直接构图方式的缺点，并解决照相 平版印刷工序的问题而提出的，该技术是在衬底上涂敷光固性树脂或热固性树脂后，将包 含纳米至微米大小凹凸的模具加压于所述被涂敷的树脂层上，并且施加紫外线或热量来使 该树脂层固化，从而将图案转印到衬底的技术。运种W往的纳米压印技术与作为形成几十 微米(μπι)线宽的线的技术来应用的直接构图方法和照相平版印刷方法相比较时，其技术水 平在制造单价和分辨率方面上为后两种技术的中间程度，其起到纳米和微米领域的桥梁作 用的同时，部分地逐步取代后两种技术。
[0007] 然而，最近虽有使用运种压印方式形成金属图案的技术，但在为了形成金属图案 而在阴刻槽中填充填料的工序中，因填充有效性的问题，需要反复填充填料的工序，因此具 有生产效率问题和高额金属原料废弃的问题。
[0008] 此外，在形成不包含规定方向或排列的复杂图案时，由于填料的填充性的下降，具 有收率及特性下降的问题，因此用于复杂而微细的电极或布线用的低电阻金属图案的形成 技术尚处于需要技术开发的状况。
[0009] 另一方面，韩国专利公开第10-2011-0100034号中公开了通过压印工序形成微槽， 并在该槽中填充金属层而形成金属微细线宽的方法，但在填料的填充效率性及实现亚微米 线宽上有问题，并且在形成低电阻电极上有局限性，因此迫切需要用于解决运种问题的对 策。 【实用新型内容】
[0010]要解决的技术问题
[0011] 因此，本实用新型是为了解决运种W往问题而提出的，其目的是提供一种微细图 案形成系统及微细图案形成方法，该系统及方法通过与衬底接触旋转的旋转体提高填料对 微细线宽阴刻图案的填充效率，从而能够易于制作微细图案。
[0012] 解决技术问题的技术方案
[0013] 上述目的通过本实用新型的微细图案形成系统来实现，该微细图案形成系统的特 征在于，包括:输送部，输送形成有阴刻图案的衬底;和填充部，在与所述衬底接触的状态下 向所述衬底供给填料，并且W垂直于所述衬底的表面的轴为中屯、进行旋转，从而将所述填 料填充到所述阴刻图案内。
[0014] 此外，所述填充部可包括:接触部，在与所述衬底接触的状态下旋转，并向所述衬 底供给填料;和转轴，用于使所述接触部旋转。
[0015] 此外，所述接触部可在与所述衬底接触的端部设置有多个喷射孔，W吐出填料，所 述转轴在内部具有用于使向所述接触部侧供给的填料流动的流道，所述填充部可进一步包 括设置在所述接触部和所述流道之间，用于暂时储存从所述流道供给的填料的储存部。
[0016] 此外，所述接触部可由多孔(porous)材料构成。
[0017] 此外，在所述接触部的与所述衬底接触的端部可设置有用于使填料沿所述衬底的 上面流动的填充路径。
[0018] 此外，在所述接触部的内部可具有从所述填充路径回收未被填充到所述阴刻图案 内的填料的回收路径。
[0019] 此外，在所述转轴的内部可形成有向所述填充路径侧供给填料的第一流道及与所 述第一流道隔离并使从所述回收路径回收的填料流动的第二流道，而且所述接触部可包 括:壳体，与所述转轴连接，在内部形成有收容空间，而且下部的边缘与所述衬底接触并旋 转;和隔壁部，W板状形成并设置在所述收容空间，而且形成有与所述第一流道连通的贯通 孔，并且在底面和所述衬底之间形成有所述填充路径，在上表面和所述壳体之间形成有所 述回收路径。
[0020] 此外，可进一步包括:振动施加部，用于使所述填充部振动。
[0021] 此外，可进一步包括:第一干燥部，沿所述衬底的输送方向设置在所述填充部的后 方，用于使填充到所述阴刻图案内的填料干燥。
[0022] 此外，可进一步包括:第一刀片，配置在所述填充部和所述第一干燥部之间，与被 输送的衬底接触，并将残留在所述衬底上的填料填充于所述阴刻图案内。
[0023] 此外，可进一步包括:蚀刻剂涂敷部，沿所述衬底的输送方向设置在所述第一干燥 部的后方，用于涂敷蚀刻剂，W使未被填充到阴刻图案内并在残留于衬底上的状态下干燥 的填料溶解;第二刀片，用于将在所述衬底上溶解的填料再次填充到阴刻图案内；和第二干 燥部，用于使通过所述第二刀片的衬底的阴刻图案内的填料干燥。
[0024] 此外，所述目的通过本实用新型的微细图案形成方法实现，该微细图案形成方法 的特征在于，包括:衬底准备步骤，准备形成有阴刻图案的衬底;旋转填充步骤，使用与所述 衬底接触状态下的填充部向衬底供给填料，并且使所述填充部W垂直于所述衬底的虚拟的 轴为中屯、进行旋转，从而将填料填充于所述阴刻图案内；和第一干燥步骤，使所述阴刻图 案内的填料干燥。
[0025] 此外，在旋转填充步骤中，所述填充部可在与所述衬底接触的状态下进行旋转，并 且沿所述衬底的长度方向或所述衬底的宽度方向振动。
[0026] 此外，可进一步包括:第一填充步骤，在所述旋转填充步骤和所述第一干燥步骤之 间执行，使刀片与衬底接触，并将在所述旋转填充步骤中未被填充而残留在衬底上的填料 填充到所述阴刻图案内。
[0027] 此外，可进一步包括:溶解步骤，在通过所述第一干燥步骤之后，在所述衬底上涂 敷蚀刻剂，从而使未被填充到阴刻图案内而在所述衬底上干燥的填料溶解;第二填充步骤， 通过使刀片与衬底接触，将所溶解的在衬底上的填料填充到阴刻图案内；和第二干燥步骤， 使填充到所述阴刻图案内的填料干燥。
[00%]实用新型的效果
[0029] 根据本实用新型，提供微细图案形成系统，在该系统中，填充部向衬底上提供填 料，并且W垂直于衬底的方向为中屯、进行旋转，从而能够将填充均匀地填充到在衬底上形 成的微细线宽的阴刻图案内。
[0030] 此外，通过将填料由多孔材料的气孔供给，从而能够均匀地供给填料。
[0031] 此外，开放填充部的下端，并使填料在衬底上流动，并且使填充部旋转，W使沿衬 底流动的填料形成满流，从而能够进一步提高向阴刻图案内的填充性能。
[0032] 此外，通过将未被填充到阴刻图案内的填料回收并且循环再使用于填充，能够最 大限度地减少填料的损失。
[0033] 此外，通过在填充部的后端使用刀片再次填充填料，从而能够提高填充效率。
[0034] 此外，通过反复进行再次溶解干燥的填料并且填充的过程，从而能够提高填充效 率。
【附图说明】
[0035] 图1为本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统的示意的立体图；
[0036] 图2为图1的微细图案形成系统中的填充部的分解立体图及剖视图；
[0037] 图3为示意地表示使用图1的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图；
[0038] 图4为本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统的示意的立体图；
[0039] 图5为示意地表示使用图4的微细图案形成系统的微细图案形成方法的旋转填充 步骤工序的图；
[0040] 图6为本实用新型的第Ξ实施例的微细图案形成系统的示意的立体图；
[0041] 图7为图6的微细图案形成系统中的填充部的分解立体图；
[0042] 图8为示意地表示使用图6的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图；
[0043] 图9为示意地表示本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统的立体图；
[0044] 图10为示意地表示使用图9的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图；
[0045] 图11为本实用新型的第五实施例的微细图案形成系统的示意的立体图；
[0046] 图12为示意地表示使用图11的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。
[0047] 附图标记说明
[004引 110:输送部 120:填充部
[0049] 130:第一干燥部240:振动施加部
[0化日]450:第一刀片 560:蚀刻剂涂敷部
[0051] 570:第二刀片 580:第二干燥部
【具体实施方式】
[0052] 在进行本实用新型的说明之前需要说明的是，在多个实施例中，对具有相同结构 的结构要素使用相同的附图标记并在第一实施例中进行代表性的说明，并且在其他实施例 中说明与第一实施例不同的结构。
[0053] 下面，参照附图对本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统进行详细的说 明。
[0054] 图1为本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统的示意的立体图。
[0055] 参照图1，本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统100设及一种用于在形成 于衬底10上的阴刻图案11的内部填充填料而最终制作微细图案P的系统，包括输送部110、 填充部120、第一干燥部130。
[0056] 所述输送部110为连续输送衬底10而构建直列系统的设备，包括多个常规的输送 漉。构成输送部110的运种输送漉为本技术领域中广为人知的结构，因此省略说明。
[0057] 另一方面，在本实施例中，连续输送形成有阴刻图案11状态的衬底10。
[0058] 在此使用的衬底为综合考虑形成阴刻图案11的方法等而决定的，可使用聚酷亚胺 (PI)、聚对苯二甲酸乙二醇醋（polyethylene terephthalate,PET)、聚糞二甲酸乙二醇醋 (polyethylenenaphthalate ,ΡΕΝ)、聚酸讽（PES)、尼龙（Nylon)、聚四氣乙締 (Polytetrafluo;roethylene,PTFE)、聚酸酸酬（PEEK)、聚碳酸盐（PC)或聚芳醋 (polya巧late，PAR)等透明衬底，也可使用表面经绝缘处理的金属制板材、不透明的塑胶胶 片、不透明的玻璃或不透明的玻璃纤维材料等不透明的衬底。
[0059] 图2为图1的微细图案形成系统中的填充部的分解立体图及剖视图。
[0060] 参照图2说明如下。所述填充部120为用于在与衬底10接触的状态下，将填料向衬 底10侧供给的同时旋转，从而将被供给的填料引导并填充至阴刻图案11内的部件，包括接 触部121、储存部122及转轴123。
[0061] 所述接触部121为起到将储存在后述的储存部122中的填料均匀地分配，并向衬底 10侧供给的同时直接与衬底10接触，并将衬底10上的填料引导至阴刻图案11内的作用的部 件。
[0062] 接触部121具有规定的厚度，W剖面为圆形的形状设置。此外，在本实施例中接触 部121由多孔材料(porous material)设置，用于使填料从多孔材料的气孔泄漏并被分配， 从而能够将填料均匀地供给到衬底10上。
[0063] 不过，上述本实施例的接触部121虽然W由多孔材料设置为例进行了说明，但接触 部121并不局限于多孔材料等自然材料，也可通过在板状材料上钻出能够使填料通过的多 个喷嘴孔的方式进行加工而设计接触部121。
[0064] 所述储存部122将上述转轴123和接触部121彼此连接，提供用于暂时储存从转轴 123的内部的流道124供给的填料的空间。
[0065] 目P，储存部122具有在内部形成有用于储存填料的空间，下端附着有上述多孔材料 的接触部121W封堵用于储存填料的空间，上端与后述的转轴123结合的结构。
[0066] 所述转轴123从储存部122向上延伸，用于使整个填充部120旋转，转轴123形成为 中空状，内部形成有能够使填料流动的流道124。
[0067] 因此，将上述结构的填充部120综合再次说明如下。在转轴123的下端设置有储存 部122,转轴123的流道124连接于储存部122的内部空间，并向该内部空间供给填料，在储存 部122的下端安装有接触部121，从而封堵储存部122的内部空间，并且将暂时储存在储存部 122的填料通过由多孔材料设置的接触部121的气孔向下方均匀地供给。
[0068] 此外，在本实施例中，W作为通过填充部120供给的填料使用具有优异的导电特性 的油墨从而使最终形成的微细图案P能够形成电极图案的情况为例进行了说明，但填料材 料并不限于此。
[0069] 目P，在本实施例中使用的填料作为导电金属组合物，为了提高向阴刻图案11的内 部的填充性，可使用能够溶解于溶剂中或者能够膨润，并且通过使用热或还原剂等的后处 理工序中容易还原的金属络合物或者金属前体。
[0070] 此外，也可将金属络合物或金属前体还原而制备金属粒子，并将其作为混合物来 使用，除了运些混合物之外，也可根据需要包含溶剂、稳定剂、分散剂、粘合剂树脂(binder resin)、离型剂、还原剂、表面活性剂（surfactant)、润湿剂（wetting agent)、触变剂 (thixotropic agent)、均化剂或增粘剂等添加剂。
[0071] 所述第一干燥部130为从填充部沿着衬底10的输送方向配置在后方，用于干燥在 通过填充部120并被填充到衬底10的阴刻图案11内的填料，从而形成最终微细图案P的设 备。
[0072] 下面，对上述微细图案形成系统的第一实施例的工作进行说明。
[0073] 图3为示意地表示使用图1的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。
[0074] 如图3所示，使用本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统的微细图案形成 方法S100包括衬底准备步骤、旋转填充步骤S110及第一干燥步骤S120。
[0075] 所述衬底准备步骤S110为在柔性(flexible)衬底10上形成微细线宽的阴刻图案 11W准备衬底10,并且通过输送部110连续输送所准备的衬底10的步骤。
[0076] 在本实施例中，在衬底10上形成槽形式的阴刻图案11可使用利用压印工序的方 法、通过激光直接蚀刻衬底10的方法、利用光刻方式的方法等，在前述方法之外，也可在本
技术领域中广为人知的工序中，优选考虑所要形成的阴刻图案11的线宽、深度等来决定。
[0077] 所述旋转填充步骤S110为通过填充部120向衬底10供给填料，并且向阴刻图案11 的内部填充填料的步骤。
[0078] 首先，在保持填充部120的底面与衬底10的上表面接触的状态下，通过转轴123的 内部的流道124向储存部122侧供给填料。
[0079] 从转轴123的内部供给的填料暂时储存在储存部122内，并通过封堵储存部122的 下端且由多孔材料构成的接触部121的气孔均匀地分配并供给到衬底10侧。
[0080] 在供给填料的同时，与衬底10接触的状态的填充部120W转轴123为中屯、进行旋 转。即，随着通过输送部110输送衬底1 ο的同时填充部120进行旋转，从而向衬底1 ο供给的填 料被引导并填充到阴刻图案11的内部。
[0081] 目Ρ，对本步骤再次说明如下。在与衬底10面接触的状态下，向衬底10的上面供给填 料，并且W与衬底10的表面垂直的轴为中屯、进行旋转，并使填料和衬底10进行摩擦，从而使 填料能够均匀地填充到阴刻图案11的内部。
[0082] 所述第一干燥步骤S130为在旋转填充步骤S110W后，使填充于阴刻图案11的填料 干燥，从而最终形成微细图案Ρ的步骤。
[0083] 在第一干燥步骤S130中的干燥优选在80°C~400°C的溫度下进行，但并不限于此。
[0084] 另一方面，最终形成的微细图案P的填料厚度不受到限制，可为lOymW下，更加优 选为0.1皿W上且如mW下。
[0085] 因此，根据本实施例，利用与被连续输送的衬底10接触的旋转体的旋转转动，能够 将涂敷于衬底10上的填料均匀而准确地引导并填充到阴刻图案11的内部，从而形成微细图 案P。
[0086] 接下来，说明本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统。
[0087] 图4为本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统的示意的立体图。
[0088] 参照图4,本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统200设及一种向形成在衬 底10上的阴刻图案内填充填料，从而最终形成微细图案P的系统，包括输送部110、填充部 120、第一干燥部130和振动施加部240。
[0089] 不过，所述输送部110、所述供给部120、所述旋转填充部130和所述第一干燥部140 的结构与在第一实施例中所述的结构相同，因此省略重复说明。
[0090] 所述振动施加部240为用于施加驱动力，W使与衬底10接触的填充部120能够沿规 定的方向振动。此时，填充部120可沿衬底10的长度方向或宽度方向中的任一方向振动，也 可沿长度方向及宽度方向复合振动。
[0091] 下面，对使用本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统的微细图案形成方法 S200进行说明。
[0092] 使用本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统200的微细图案形成方法S200 包括衬底准备步骤、旋转填充步骤S210和第一干燥步骤S120,衬底准备步骤和第一干燥步 骤S120与在第一实施例中所述的工序相同，因此省略重复说明。
[0093] 图5为示意地表示利用图4的微细图案形成系统的微细图案形成方法的旋转填充 步骤工序的图。
[0094] 如图5所示，在本实施例的旋转填充步骤S120中，与第一实施例同样地使填充部 120供给填料的同时进行旋转W使衬底10及填料进行摩擦，从而将供给到衬底10上的填料 向阴刻图案11内填充。与此同时，为了提高填料向阴刻图案11内的填充效率，在本实施例 中振动施加部240施加驱动力，W使填充部120能够振动。
[00M]此时，填充部120可在与衬底10接触的状态下W前后方向、左右方向或将运些方向 复合的形式振动，至于振动方向、振幅、振动次数等，则综合考虑在衬底10上形成的阴刻图 案11的深度、线宽和衬底10的输送速度等决定。
[0096]因此，根据本实施例，填充部120被设计为通过旋转来产生摩擦，并且沿规定的方 向振动，因此能够进一步提高填料向阴刻图案11内的填充效率。
[0097] 接下来，说明本实用新型的第Ξ实施例的微细图案形成系统。
[0098] 图6为本实用新型的第Ξ实施例的微细图案形成系统的示意的立体图。
[0099] 参照图6,本实用新型的第Ξ实施例的微细图案形成系统300设及一种向形成于衬 底10上的阴刻图案11内填充填料，从而最终形成微细图案的系统，包括输送部110、填充部 320及第一干燥部130。
[0100] 不过，所述输送部110和所述第一干燥部130与在第一实施例中所述的结构相同， 因此省略重复说明。
[0101 ]图7为图6的微细图案形成系统的填充部的分解立体图。
[0102] 如图7所示，所述填充部320为用于在与衬底10接触的状态下，向衬底10侧供给填 料，并且进行旋转而将所供给的填料引导并填充到阴刻图案11内的部件，包括接触部321和 转轴327。
[0103] 所述接触部321为与衬底10直接接触的部件，包括壳体322和隔壁部323。
[0104] 所述壳体322使从形成在后述的转轴327内部的第一流道L1接收的填料，通过在底 面形成的填充路径325进行移动，并且回收在沿填充路径325输送的过程中未被填充到阴刻 图案11内的填料后，再次向转轴327传递。
[0105] 壳体322设置为具有规定厚度的圆形气缸的形状，底面向内侧凹陷而形成收容空 间，在壳体322的收容空间内部安装有后述的隔壁部323,并形成有填充路径325及回收路径 326。
[0106] 另外，与衬底10接触的壳体322的部分、即壳体322的下端边缘部分安装有额外的 密封部件，从而能够将壳体322内部的收容空间与外部隔离，W防止填料向壳体322的外部 泄漏。
[0107] 所述隔壁部323为安装在壳体322的收容空间的板状部件，用于形成填充路径325 及回收路径326。
[0108] 隔壁部323为圆形的板状，具有小于收容空间深度的厚度，从而能够设置在收容空 间内并且与壳体322的内侧壁面隔开地安装，且在中央形成有贯通孔324。另外，隔壁部323 与后述的转轴327的内部的第一流道L1连接固定。
[0109] 此外，随着在收容空间设置隔壁部323,在从连接壳体322的最下端的虚拟的平面 至隔壁部323的空间中形成有用于使填料在衬底10上流动的通道即填充路径325,在从收容 空间的上侧壁面至隔壁部323的空间中形成有回收路径326,所述回收路径326为用于回收 在填充路径325中流动后未被填充到阴刻图案11的填料的通道。
[0110] 所述转轴327为从接触部321向上侧延伸，用于使整个填充部327旋转的管状部件。 转轴327的内部形成有第一流道L1和第二流道L2，W使填料能够流动，而且通过设置在转轴 327内部的区划部件328分割第一流道L1和第二流道L2。此外，上述隔壁部323与用于分割转 轴327内部的流动空间的区划部件328连接而固定。
[0111] 所述第一流道L1为与填充路径325连通而供给填料的路径，第一流道L1通过形成 在隔壁部323的贯通孔324与填充路径325连通。
[0112] 所述第二流道L2为通过区划部件328与第一流道L1隔离的空间，与回收路径326连 通。
[0113] 接下来，对使用本实用新型的第Ξ实施例的微细图案形成系统的微细图案形成方 法进行说明。
[0114] 图8为示意地表示使用图6的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。
[0115] 参照图8,使用本实用新型的第Ξ实施例的微细图案形成系统300的微细图案形成 方法S300包括衬底准备步骤、旋转填充步骤S310及第一干燥步骤S120,衬底准备步骤和第 一干燥步骤S120与在第一实施例中所述的工序相同，因此省略重复说明。
[0116] 在本实施例中，所述旋转填充步骤S310首先在接触部321的下端与衬底10接触的 状态下通过转轴327内部的第一流道L1供给填料。填料通过贯通孔324后在隔壁部323和衬 底10之间的空间即填充路径325内流动。此时，流动在填充路径325内的填料沿衬底10流动 并且填充到阴刻图案11内。
[0117] 此外，填充部320供给填料的同时W转轴327为中屯、旋转，随之在填充路径325内流 动的填料产生旋流，从而进一步提高向阴刻图案11内部的填充效率。
[0118] 在填充路径的内部流动的过程中，部分填料填充到阴刻图案11，而部分填料残留 在衬底10上，剩余填料沿壳体322的内壁面流动而到达收容空间和隔壁部323之间的空间即 回收路径326。
[0119] 到达回收路径326的填料反复进行如下的循环过程来填充到阴刻图案11的内部： 即填料通过与回收路径326连接的第二流道L2排出到外部后向第一流道L1供给，或者直接 通过第一流道L1再供给，从而被供给到衬底10上。
[0120] 因此，根据本实施例，使填料在与衬底10的上表面直接接触的状态下进行流动，从 而能够进一步提高填料向阴刻图案11内的填充效率。
[0121] 下面，说明本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统。
[0122] 图9为示意地表示本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统的立体图。
[0123] 参照图9,本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统400用于向形成在衬底10 上的阴刻图案11内填充填料，从而最终形成微细图案P的系统，包括输送部110、填充部120、 第一刀片450及第一干燥部130,输送部110、填充部120及第一干燥部130与在第一实施例中 所述的结构相同，因此省略重复说明。
[0124] 所述第一刀片450配置在填充部120和第一干燥部130之间，沿衬底10的宽度方向 较长地安装，用于将通过填充部120后仍在衬底10上未被填充于阴刻图案11内而残留的填 料向阴刻图案11内填充的部件。
[0125] 目P，使用第一刀片450將未被填充部120处理好的衬底10上的填料再次填充于阴刻 图案11內。
[0126] 下面，对使用本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统的微细图案的形成方 法进行说明。
[0127] 图10为示意地表示使用图9的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。
[0128] 如图10所示，使用本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统400的微细图案 形成方法S400包括衬底准备步骤、旋转填充步骤S110、第一填充步骤S430及第一干燥步骤 S120,衬底准备步骤、旋转填充步骤S110及第一干燥步骤S120与在第一实施例中所述的工 序相同，因此省略重复说明。
[0129] 在所述第一填充步骤S430中，使用第一刀片450将在旋转填充步骤S110中未被完 全处理而残留在衬底10上的填料再次填充于阴刻图案11内。因此在本实施例中，通过填充 部120的旋转旋动，并且通过固定状态的第一刀片450反复进行填充工序，从而能够进一步 提高填充效率。
[0130] 接下来，对本实用新型的第五实施例的微细图案形成系统进行说明。
[0131] 图11为本实用新型的第五实施例的微细图案形成系统的示意的立体图。
[0132] 如图11所示，本实用新型的第五实施例的微细图案形成系统500设及一种用于在 衬底10上形成的阴刻图案11内填充填料，从而最终形成微细图案P的系统，包括输送部110、 填充部120、第一刀片450、第一干燥部130、蚀刻剂涂敷部560、第二刀片570及第二干燥部 580,输送部110、填充部120、第一刀片450及第一干燥部130与在第一实施例及第四实施例 中所述的结构相同，因此省略重复说明。
[0133] 所述蚀刻剂涂敷部560设置在第一干燥部130的后方，所述蚀刻剂涂敷部560是为 了执行通过前述的填充部120和第一刀片450后仍然残留在衬底10上的填料的最终填充工 序，涂敷蚀刻剂，从而使W干燥状态残留在衬底10上的填料溶解的结构。
[0134] 在本实用新型中使用的蚀刻剂根据填充到阴刻图案11內的填料种类来决定，但优 选使用能够溶解氧化剂和金属化合物的氨基甲酸锭系、碳酸锭系、碳酸氨锭系、簇酸系、内 醋系、内酷胺（马营）系、环状酸酢系化合物、酸-碱盐复合物、酸-碱-醇系复合物或琉基系 化合物等蚀刻剂。
[0135] 此外，为了有效地溶解衬底10表面上的未填充金属层，并且提高金属向微细的阴 刻图案11的再填充性，优选对上述蚀刻剂赋予亲水特性。优选调节蚀刻液化合物成分的碳 原子数来调节亲水特性的程度。
[0136] 所述第二刀片570为设置在蚀刻剂涂敷部560的后端，用于将通过由蚀刻剂涂敷部 560涂敷的蚀刻剂而溶解的填料最终填充于阴刻图案11内的结构。
[0137] 所述第二干燥部580为设置在第二刀片570的后端，用于使通过第二刀片570最终 填充到阴刻图案11内的填料干燥，从而最终形成微细图案P的结构。
[0138] 下面，对使用本实用新型的第五实施例的微细图案形成系统的微细图案形成方法 进行说明。
[0139] 图12为示意地表示利用图11的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。
[0140] 如图12所示，使用本实用新型的第五实施例的微细图案形成系统500的微细图案 形成方法S500包括衬底准备步骤、旋转填充步骤S110、第一填充步骤S430、第一干燥步骤 S120、溶解步骤S540、第二填充步骤S550及第二干燥步骤S560，衬底准备步骤、旋转填充步 骤S110、第一填充步骤S430及第一干燥步骤S120与在第一实施例及第四实施例中所述的工 序相同，因此省略重复说明。
[0141] 所述溶解步骤S540为通过蚀刻剂涂敷部560在衬底10上涂敷蚀刻剂，从而使未被 填充到阴刻图案11内并且通过第一干燥部130干燥的在衬底10上的填料再次溶解的步骤。
[0142] 即在本步骤中，使通过第一干燥部130干燥从而失去流动性的在衬底10上的残留 填料再次溶解，从而对该残留填料重新赋予流动性，使之能够通过后述的第二填充步骤 S550最终填充到阴刻图案11内。
[0143] 所述第二填充步骤S560为使用第二刀片570将在溶解步骤S540中溶解的状态的在 衬底10上的填料再次填充到阴刻图案11内的步骤。
[0144] 在所述第二干燥步骤S570中，使在第二填充步骤S560中最终填充的阴刻图案11内 的填料最终干燥，w形成微细图案p。
[0145] 因此，根据本实施例，通过反复执行使用第二刀片570的填料填充工序，从而能够 提高填充效率及性能。
[0146] 本实用新型的权利范围并不局限于上述实施例，而在所附的权利要求书中记载的 范围内可实现为各种形式的实施例。在不脱离权利要求书所要求保护的本实用新型精神的 范围内，本领域技术人员均能变形的各种范围也应属于本实用新型的保护范围。
[0147] 工业应用可行性
[0148] 提供一种微细图案形成系统及微细图案形成方法，该系统及方法通过与衬底接触 旋转的旋转体提高填料对微细线宽阴刻图案的填充效率，从而能够易于制作微细图案。
【主权项】
1. 一种微细图案形成系统，其特征在于，包括： 输送部，用于使用多个输送辊输送形成有阴刻图案的衬底;和 填充部，形成于所述衬底的上部，包括:接触部，用于在与所述衬底接触的状态下向所 述衬底供给填料;转轴，用于使所述接触部旋转，从而将被供给到所述衬底的填料填充到所 述阴刻图案内。2. 根据权利要求1所述的微细图案形成系统，其特征在于， 所述接触部在与所述衬底接触的端部设置有多个喷射孔，以吐出填料，所述转轴在内 部具有用于使向所述接触部侧供给的填料流动的流道， 所述填充部进一步包括设置在所述接触部和所述流道之间，用于暂时储存从所述流道 供给的填料的储存部。3. 根据权利要求2所述的微细图案形成系统，其特征在于， 所述接触部由多孔材料构成。4. 根据权利要求1所述的微细图案形成系统，其特征在于， 在所述接触部的与所述衬底接触的端部设置有用于使填料沿所述衬底的上表面流动 的填充路径。5. 根据权利要求4所述的微细图案形成系统，其特征在于， 在所述接触部的内部具有从所述填充路径回收未被填充到所述阴刻图案内的填料的 回收路径。6. 根据权利要求5所述的微细图案形成系统，其特征在于， 在所述转轴的内部形成有向所述填充路径侧供给填料的第一流道及与所述第一流道 隔离并使从所述回收路径回收的填料流动的第二流道， 所述接触部包括:壳体，与所述转轴连接，在内部形成有收容空间，而且下部的边缘与 所述衬底接触并旋转;和隔壁部，以板状形成并设置在所述收容空间，而且形成有与所述第 一流道连通的贯通孔，并且在底面和所述衬底之间形成有所述填充路径，在上表面和所述 壳体之间形成有所述回收路径。7. 根据权利要求1至6中的任一项所述的微细图案形成系统，其特征在于，进一步包括： 振动施加部，用于使所述填充部振动。8. 根据权利要求7所述的微细图案形成系统，其特征在于，进一步包括： 第一干燥部，沿所述衬底的输送方向设置在所述填充部的后方，用于使填充到所述阴 刻图案内的填料干燥。9. 根据权利要求8所述的微细图案形成系统，其特征在于，进一步包括： 第一刀片，配置在所述填充部和所述第一干燥部之间，与被输送的衬底接触，并将残留 在所述衬底上的填料填充于所述阴刻图案内。10. 根据权利要求9所述的微细图案形成系统，其特征在于，进一步包括： 蚀刻剂涂敷部，沿所述衬底的输送方向设置在所述第一干燥部的后方，用于涂敷蚀刻 剂，以使未被填充到阴刻图案内并在残留于衬底上的状态下干燥的填料溶解； 第二刀片，用于将在所述衬底上溶解的填料再次填充到阴刻图案内；和 第二干燥部，用于使通过所述第二刀片的衬底的阴刻图案内的填料干燥。11. 根据权利要求7所述的微细图案形成系统，其特征在于， 所述振动施加部使所述旋转填充部沿所述衬底的长度方向或沿所述衬底的宽度方向 振动。
【文档编号】H01L21/027GK205428873SQ201490000733
【公开日】2016年8月3日
【申请日】2014年3月20日
【发明人】郑光春, 柳志勋, 成俊基, 韩孝珍
【申请人】印可得株式会社