一种盖板及电子设备的制作方法

文档序号:15687238发布日期:2018-10-16 21:12阅读:160来源:国知局

本实用新型涉及电子设备技术领域,尤其涉及一种盖板及电子设备。



背景技术:

目前,很多电子产品采用透明轻质材料如玻璃代替以前使用的金属材料作为颜色盖板,但用透明度高的轻质材料作盖板时往往为了阻挡产品内部零件的可视性,经常需涂黑油墨,制作工艺复杂、成本高。



技术实现要素:

有鉴于此,本实用新型实施例公开了一种盖板,用于解决现有技术采用透明度高的轻质材料作盖板需要涂黑油墨、制作工艺复杂的问题。

具体技术方案如下:

一种盖板,包括:基板和镀膜层;

所述镀膜层覆盖于所述基板一侧表面;

所述镀膜层包括:第一薄膜层和第二薄膜层;

所述第一薄膜层和所述第二薄膜层沿背离所述基板的方向依次设置;

所述第一薄膜层和所述第二薄膜层具有不同的折射率;

所述第一薄膜层为硅薄膜。

优选的,所述第二薄膜层为多层膜结构;

所述多层膜结构包括:交叉层叠的多层第一薄膜和多层第二薄膜;

所述第一薄膜和所述第二薄膜具有不同的折射率。

优选的,所述镀膜层覆盖于所述基板背向观察一侧的表面上。

优选的,所述第一薄膜的层数与所述第二薄膜的层数相同。

优选的,所述第一薄膜为氧化铌薄膜;

所述第二薄膜为氧化硅薄膜。

优选的,沿背离所述第一薄膜层的方向上,所述多层膜结构依次包括:10~60nm厚的氧化铌薄膜、60~160nm厚的氧化硅薄膜、70~150nm厚的氧化铌薄膜、80~200nm厚的氧化硅薄膜、30~90nm厚的氧化铌薄膜和30~100nm厚的氧化硅薄膜;

所述第一薄膜层的厚度为50~300nm。

优选的,所述基板为透明基板。

优选的,所述透明基板为玻璃基板、亚克力基板和聚碳酸酯基板中的一种。

优选的,所述基板的厚度为0.1~3.0mm。

本实用新型还提供了一种电子设备,包括上述技术方案所述的盖板。

从以上技术方案可以看出,本实用新型提供了一种盖板,包括:基板和镀膜层;所述镀膜层覆盖于所述基板一侧表面;所述镀膜层包括:第一薄膜层和第二薄膜层;所述第一薄膜层和所述第二薄膜层沿背离所述基板的方向依次设置;所述第一薄膜层和所述第二薄膜层具有不同的折射率;所述第一薄膜层为硅薄膜。本实用新型中,镀膜层的第一薄膜层为硅薄膜,对可见光有很好的吸收作用,能够阻挡基板透光,第二薄膜层进一步阻挡基板透光,无需在基板表面涂黑油墨即可实现盖板阻挡电子产品内部零件的可视性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本实用新型实施例中提供的一种盖板的结构示意图;

图2为本实用新型实施例中提供的一种盖板中的镀膜层的结构示意图;

1.基板;2.镀膜层;3.硅薄膜;4.第一薄膜;5.第二薄膜。

具体实施方式

本实用新型实施例公开了一种盖板,用于解决现有技术采用透明度高的玻璃等轻质材料作盖板需要涂黑油墨、制作工艺复杂的问题。

请参阅图1和图2,分别为本实用新型实施例中提供的一种盖板的结构示意图和本实用新型实施例中提供的一种盖板中的镀膜层的结构示意图。

一种盖板,包括:基板1和镀膜层2;

镀膜层2覆盖于基板1一侧表面;

镀膜层2包括:第一薄膜层和第二薄膜层;

第一薄膜层和第二薄膜层沿背离所述基板的方向依次设置;

第一薄膜层和第二薄膜层具有不同的折射率;

第一薄膜层为硅薄膜3。

镀膜层2的第一薄膜层为硅薄膜3,对可见光有很好的吸收作用,能够阻挡基板1透光,第二薄膜层进一步阻挡基板1透光,无需在基板1表面涂黑油墨即可实现盖板阻挡电子产品内部零件的可视性。在基板1表面镀各种颜色的第二薄膜层之前镀上硅薄膜3,这样无需再涂黑油墨,可起到黑油墨的吸光作用。在颜色盖板制作过程中不再使用黑油墨,但又不会降低产品的性能,大大降低各种颜色盖板的生产成本。

本实用新型实施例中,第二薄膜层为多层膜结构;

多层膜结构包括:交叉层叠的多层第一薄膜4和多层第二薄膜5;

第一薄膜4和第二薄膜5具有不同的折射率。

本实用新型实施例中,镀膜层2覆盖于基板1背向观察一侧的表面上。

需要说明的是,镀膜层2还可覆盖于基板1朝向观察一侧的表面上。

本实用新型实施例中,第一薄膜4的层数与第二薄膜5的层数相同。

本实用新型实施例中,第一薄膜4为氧化铌薄膜;

第二薄膜5为氧化硅薄膜。

本实用新型实施例中,沿背离第一薄膜层的方向上,多层膜结构依次包括:10~60nm厚的氧化铌薄膜、60~160nm厚的氧化硅薄膜、70~150nm厚的氧化铌薄膜、80~200nm厚的氧化硅薄膜、30~90nm厚的氧化铌薄膜和30~100nm厚的氧化硅薄膜;

第一薄膜层的厚度为50~300nm。

本实用新型实施例中,基板1为透明基板。

透明基板为玻璃基板、亚克力基板和聚碳酸酯基板中的一种。

本实用新型实施例中,透明基板为玻璃基板。

本实用新型实施例中,基板1的厚度为0.1~3.0mm。

本实用新型实施例中,在镀膜层2覆盖于玻璃基板上;镀膜层2包括:第一薄膜层和第二薄膜层;第一薄膜层为硅薄膜3,沿背离第一薄膜层的方向上,多层膜结构的第二薄膜层依次包括:10~60nm厚的氧化铌薄膜、60~160nm厚的氧化硅薄膜、70~150nm厚的氧化铌薄膜、80~200nm厚的氧化硅薄膜、30~90nm厚的氧化铌薄膜和30~100nm厚的氧化硅薄膜。氧化铌薄膜与氧化硅薄膜组成的多层膜结构的第二薄膜层显红色,镀膜面为红色,一定厚度的硅薄膜3对可见光有很好的吸收作用,阻挡玻璃基板非镀膜面的光透过,镀膜面能够完全阻挡玻璃基板透光。因此,盖板为镀膜面呈红色,且盖板非镀膜面的光不能透过镀膜面。

本实用新型实施例还提供了一种电子设备,包括上述技术方案的盖板。

以上对本实用新型所提供的一种盖板进行了详细介绍,对于本领域的一般技术人员,依据本实用新型实施例的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

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