1.一种软x射线光源，所述软x射线光源包括真空靶室、制冷腔和喷嘴，所述制冷腔和所述喷嘴容置于所述真空靶室内，所述喷嘴设置于所述制冷腔上，其特征在于，所述软x射线光源还包括：
支撑板，所述支撑板设置于所述真空靶室上，所述支撑板上设置有穿过所述支撑板的制冷剂入口管道、制冷剂出口管道和工作气体管道，所述制冷剂入口管道和所述制冷剂出口管道分别与所述制冷腔连通，所述工作气体管道穿过所述制冷腔并与所述喷嘴连接；
波纹管，所述波纹管设置于所述支撑板与所述真空靶室之间，所述制冷剂入口管道、制冷剂出口管道和工作气体管道均从所述波纹管内部穿过；以及
三维位移机构，所述三维位移机构设置于所述支撑板与所述真空靶室之间。
2.根据权利要求1所述的软x射线光源，其特征在于，所述三维位移机构包括依次连接的第一位移调节器、第二位移调节器以及第三位移调节器，所述第一位移调节器、第二位移调节器以及第三位移调节器均设置于所述支撑板与所述真空靶室之间并分别控制所述支撑板沿相互垂直的三个方向移动。
3.根据权利要求2所述的软x射线光源，其特征在于，所述软x射线光源还包括相互平行布置且套设于所述波纹管外侧的第一支撑板、第二支撑板以及第三支撑板，所述第一支撑板通过所述第三位移调节器可活动地固定于所述支撑板上，所述第二支撑板通过所述第二位移调节器可活动地固定于所述第一支撑板上，所述第二支撑板同时通过所述第一位移调节器可活动地固定于所述第三支撑板上，所述第三支撑板固定于所述真空靶室上。
4.根据权利要求3所述的软x射线光源，其特征在于，所述第一位移调节器包括第一支撑架、第一推进器、第一导轨以及第一导轨槽，所述第一支撑架固定于所述第三支撑板上，所述第一推进器固定于所述第一支撑架上并与所述第二支撑板对应，所述第一导轨沿第一方向固定于所述第三支撑板上，所述第一导轨槽固定于所述第二支撑板下方并与所述第一导轨滑动配合。
5.根据权利要求4所述的软x射线光源，其特征在于，所述第二位移调节器包括第二支撑架、第二推进器、第二导轨以及第二导轨槽，所述第二支撑架固定于所述第二支撑板上，所述第二推进器固定于所述第二支撑架上并与所述第一支撑板对应，所述第二导轨沿第二方向固定于所述第二支撑板上，所述第二导轨槽固定于所述第一支撑板下方并与所述第二导轨滑动配合，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。
6.根据权利要求5所述的软x射线光源，其特征在于，所述第三位移调节器包括螺杆和螺帽，所述螺杆沿第三方向均匀的固定于所述第一支撑板上，所述支撑板通过所述螺帽与所述螺杆的配合固定于所述螺杆上，所述第三方向与所述第一方向、所述第二方向相互垂直。
7.根据权利要求5所述的软x射线光源，其特征在于，所述第三位移调节器采用若干个沿第三方向设置的步进器，所述支撑板通过所述步进器固定于所述第一支撑板上，所述第三方向与所述第一方向、所述第二方向相互垂直。
8.根据权利要求5所述的软x射线光源，其特征在于，所述第一推进器或者所述第二推进器采用微分头。
9.根据权利要求1所述的软x射线光源，其特征在于，所述工作气体管道其中一段形成为横截面积增大的冷凝腔，所述冷凝腔的至少一部分位于所述制冷腔内。
10.根据权利要求1所述的软x射线光源，其特征在于，所述喷嘴处设置有金属转接件，所述金属转接件位于所述制冷腔底部。
11.根据权利要求1所述的软x射线光源，其特征在于，所述喷嘴处设置有温度传感器。