光电转换装置、光电转换系统、移动体和半导体基板的制作方法

文档序号:30583726发布日期:2022-06-29 14:07阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种装置,包括:像素阵列,包括第一像素、第二像素和第三像素的多个像素被布置在所述像素阵列中,其中,在像素阵列的俯视平面图中,第一像素和第二像素沿着第一方向布置,并且第一像素在第一方向的正方向上被定位为远离第二像素,其中,第一像素和第三像素沿着第二方向布置,其中,第一像素和第三像素连接到第一线,其中,第二像素连接到第二线,其中,第一线连接到第一处理电路,其中,第二线连接到第二处理电路,其中,第一处理电路和第二处理电路沿着第一方向布置,并且第一处理电路在具有第一方向的负方向上的分量的方向上被定位为远离第二处理电路,并且其中,对来自第一线的输出和来自第二线的输出执行计算处理。2.根据权利要求1所述的装置,其中,第一处理电路包括第一比较器,其中,第二处理电路包括第二比较器,并且其中,第一比较器在第一方向的负方向上被定位为远离第二比较器。3.根据权利要求1所述的装置,其中,在像素阵列的俯视平面图中,所述装置包括从第一线延伸到第一处理电路的第三线与第二线相交的部分。4.一种装置,包括:像素阵列,包括第一像素和第二像素的多个像素被布置在所述像素阵列中,其中,第一像素经由第一线连接到第一处理电路,其中,第二像素经由第二线连接到第二处理电路,并且其中,在像素阵列的俯视平面图中,所述装置包括从第一线延伸到第一处理电路的第三线与第二线相交的部分。5.根据权利要求4所述的装置,其中,在所述俯视平面图中,所述装置包括从第二线延伸到第二处理电路的第四线与第一线相交的部分。6.根据权利要求4所述的装置,其中,像素阵列、第一线和第二线设置在第一基板上,其中,第一处理电路和第二处理电路设置在第二基板上,其中,第一线和第一处理电路经由第一接合部连接在一起,其中,第二线和第二处理电路经由第二接合部连接在一起,并且其中,在所述俯视平面图中,第一接合部和第一处理电路之间的第三线与第二线相交。7.根据权利要求4所述的装置,其中,像素阵列、第一线和第二线设置在第一基板上,其中,第一处理电路和第二处理电路设置在第二基板上,其中,第一线和第一处理电路经由第一接合部连接在一起,其中,第二线和第二处理电路经由第二接合部连接在一起,其中,在所述俯视平面图中,第一接合部和第一处理电路之间的第三线与第二线相交,并且
其中,在所述俯视平面图中,第二接合部和第二处理电路之间的第四线与第一线相交。8.根据权利要求6所述的装置,其中,在布置有第一像素和第二像素的方向是第一方向的正方向的情况下,从布置有第一接合部的位置和布置有第二接合部的位置中的一个位置到另一个位置的方向包括第一方向的负方向上的分量。9.根据权利要求8所述的装置,其中,布置有第一处理电路和第二处理电路的方向包括与第一方向正交的第二方向上的分量。10.根据权利要求6所述的装置,其中,第一接合部和第二接合部中的每个被形成为包括穿过第一基板和第二基板的电极。11.根据权利要求6所述的装置,其中,第一基板的绝缘体和第二基板的绝缘体在接合表面处接合在一起,并且其中,第一接合部和第二接合部中的每个通过在接合表面处使第一基板的金属和第二基板的金属接合而形成。12.根据权利要求4所述的装置,其中,对来自第一线的输出和来自第二线的输出执行计算处理。13.根据权利要求12所述的装置,其中,所述计算处理是相加处理。14.根据权利要求4所述的装置,其中,覆盖第一像素的第一过滤器和覆盖第二像素的第二过滤器对应于不同的颜色。15.一种系统,包括:根据权利要求1至14中任一项所述的装置;以及处理单元,被配置为通过使用来自所述装置的输出来生成图像。16.一种主体,包括:根据权利要求1至14中任一项所述的装置;以及控制单元,被配置为通过使用来自所述装置的输出来控制所述主体的移动。17.一种基板,所述基板层叠在另一基板上,所述基板包括布置有包括第一像素的多个像素的像素阵列以及连接到第一像素的第一线,所述基板包括:第一处理电路;以及第二线,其中,第一像素经由第一线和第二线连接到第一处理电路,并且其中,在像素阵列的俯视平面图中,第一线和第二线彼此相交。

技术总结
公开了光电转换装置、光电转换系统、移动体和半导体基板。一种装置包括像素阵列,包括第一像素、第二像素和第三像素的多个像素被布置在像素阵列中。在像素阵列的俯视平面图中,第一像素和第二像素沿着第一方向布置,并且第一像素在第一方向的正方向上远离第二像素。第一像素和第三像素沿着第二方向布置并且连接到第一线。第二像素连接到第二线。第一线和第二线分别连接到第一处理电路和第二处理电路。第一处理电路和第二处理电路沿着第一方向布置,并且第一处理电路在第一方向的负方向上远离第二处理电路。对来自第一线和第二线的输出执行计算处理。执行计算处理。执行计算处理。


技术研发人员:小林秀央 铃木隆典
受保护的技术使用者:佳能株式会社
技术研发日:2021.12.21
技术公布日:2022/6/28
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