免IR-Cut切换器的日夜两用型镜头的摄像方法及装置的制造方法_4

文档序号:8343024阅读:来源:国知局
2.2-74.2nm ;第10层,MgF2膜层,厚度为145.5-148.4nm ;第11层,Τ?02膜层,厚度为72.7-74.2nm ;第12层,MgF2膜层,厚度为144.2-147.1nm ;第13层,Τ?02膜层,厚度为71.7-73.1nm ;第14层,MgF2膜层,厚度为145.2-148.1nm ;第15层,Τ?02膜层,厚度为75.8-77.3nm ;第16层,MgF2膜层,厚度为148.3-151.3nm ;第17层,Τ?02膜层,厚度为88.2-90nm ;第18层,MgF2膜层,厚度为201.8-205.9nm ;第19层,Τ?02膜层,厚度为18.5-18.9nm ;第20层,MgF2膜层,厚度为37.1-37.9nm ;第21层,Τ?02膜层,厚度为118.8-121.2nm ;第22层,MgF2膜层,厚度为18.6-18.9nm ;第23层,Τ?02膜层,厚度为116.7-119nm ;第24层,MgF2膜层,厚度为52.8-53.8nm ;第25层,Τ?02膜层,厚度为16.9-17.2nm ;第26层,MgF2膜层,厚度为59.4-60.6nm ;第27层,Τ?02膜层,厚度为23.1-23.6nm ;第28层,MgF2膜层,厚度为185.8-189.6nm ;第29层,Τ?02膜层,厚度为86.2-88nm ;第 30 层,MgF2 膜层,厚度为 74.5-76.1nm0
[0056]优选地,所述30层膜层的厚度依次为:第I层,Τ?02膜层,厚度为15nm ;第2层,MgF2膜层,厚度为28.8nm ;第3层,Τ?02膜层,厚度为114.3nm ;第4层,MgF2膜层,厚度为21.9nm ;第5层,Ti02膜层,厚度为104.1nm ;第6层,MgF2膜层,厚度为157.1nm ;第7层,Τ?02膜层,厚度为TL 9nm ;第8层,MgF2膜层,厚度为148.1xm ;第9层,Τ?02膜层,厚度为73nm ;第10层,MgF2膜层,厚度为147nm ;第11层,Τ?02膜层,厚度为73.4nm ;第12层,MgF2膜层,厚度为145.1xm ;第13层,Τ?02膜层,厚度为72.4nm ;第14层,MgF2膜层,厚度为146.6nm ;第15层,Ti02膜层,厚度为76.5nm ;第16层,MgF2膜层,厚度为149.8nm ;第17层,Ti02膜层,厚度为89.1nm ;第18层,MgF2膜层,厚度为203.9nm ;第19层,Ti02膜层,厚度为18.1xm ;第20层,MgF2膜层,厚度为37.5nm ;第21层,Ti02膜层,厚度为120nm ;第22层,MgF2膜层,厚度为18.8nm;第23层,Ti02膜层,厚度为117.9nm;第24层,MgF2膜层,厚度为53.3nm ;第25层,Τ?02膜层,厚度为17nm ;第26层,MgF2膜层,厚度为60nm ;第27层,Τ?02膜层,厚度为23.3nm ;第28层,MgF2膜层,厚度为187.1xm ;第29层,Τ?02膜层,厚度为87.1nm ;第30层,MgF2膜层,厚度为75.3nm0
[0057]一种摄像装置,如图1 一图7所示,它包括镜头1、设置于镜头I后方的图像传感器3以及与图像传感器3连接的图像信号处理器,在镜头I前、镜头I中间或镜头I后的某个光学透光元件上镀设有滤光膜,或者在镜头前、镜头中间或镜头后增设有带滤光膜的光学透光元件,所述滤光膜对波长400nm-630nm、940-970nm的光增透且平均透过率大于98%,对波长为670-880nm的光截止且平均透过率小于0.5% ;并且,所述图像信号处理器中增设有具有分离和去除图像信号中红外分量信号功能的颜色校正单元,所述颜色校正单元能在白天开启,在夜间或低噪环境关闭。所述图像传感器采用RGBIR图像传感器。滤光膜2或带滤光膜2的光学透光元件可设置在任何可以设置的位置,如图1所示,为在镜头I与图像传感器3之间安装设有带滤光膜2的滤光片;如图2所示,滤光膜2镀设在镜头I中任一镜片的表面上;如图3所示,滤光膜2镀设在图像传感器3的保护玻璃上;如图4所示,在镜头I的前端设有带滤光膜2的滤光片;如图5所示,在镜头I的后端设有带滤光膜2的滤光片;如图6所示,带滤光膜2的滤光片设置在镜头I前摄像机外壳或保护罩的玻璃上;如图7所示,带滤光膜2的滤光片设置在镜头I中任意两镜片的空隙中。
[0058]所述滤光膜由30层膜层组成,该30层膜层由高折射率介质材料Ti02膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成,该30层膜层从内至外依次为:第I层,Τ?02膜层,厚度为14.9-15.2nm ;第2层,MgF2膜层,厚度为28.5_29nm ;第3层,Τ?02膜层,厚度为113.2-115.4nm;第4层,MgF2膜层,厚度为21.7-22.1nm ;第5层,Τ?02膜层,厚度为103.1-105.2nm ;第6层,MgF2膜层,厚度为155.5-158.7nm ;第7层,Τ?02膜层,厚度为77.1-78.7nm;第8层,MgF2膜层,厚度为147.3-150.2nm ;第9层,Τ?02膜层,厚度为72.2-74.2nm ;第10层,MgF2膜层,厚度为145.5-148.4nm ;第11层,Τ?02膜层,厚度为72.7-74.2nm ;第12层,MgF2膜层,厚度为144.2-147.1nm ;第13层,Τ?02膜层,厚度为71.7-73.1nm ;第14层,MgF2膜层,厚度为145.2-148.1nm ;第15层,Τ?02膜层,厚度为75.8-77.3nm ;第16层,MgF2膜层,厚度为148.3-151.3nm ;第17层,Τ?02膜层,厚度为88.2-90nm ;第18层,MgF2膜层,厚度为201.8-205.9nm ;第19层,Τ?02膜层,厚度为18.5-18.9nm ;第20层,MgF2膜层,厚度为37.1-37.9nm ;第21层,Τ?02膜层,厚度为118.8-121.2nm ;第22层,MgF2膜层,厚度为18.6-18.9nm ;第23层,Τ?02膜层,厚度为116.7-119nm ;第24层,MgF2膜层,厚度为52.8-53.8nm ;第25层,Τ?02膜层,厚度为16.9-17.2nm ;第26层,MgF2膜层,厚度为59.4-60.6nm ;第27层,Τ?02膜层,厚度为23.1-23.6nm ;第28层,MgF2膜层,厚度为185.8-189.6nm ;第29层,Τ?02膜层,厚度为86.2-88nm ;第 30 层,MgF2 膜层,厚度为 74.5-76.1nm0
[0059]优选地,所述30层膜层的厚度依次为:第I层,Τ?02膜层,厚度为15nm ;第2层,MgF2膜层,厚度为28.8nm ;第3层,Τ?02膜层,厚度为114.3nm ;第4层,MgF2膜层,厚度为21.9nm ;第5层,Ti02膜层,厚度为104.1nm ;第6层,MgF2膜层,厚度为157.1nm ;第7层,Τ?02膜层,厚度为TL 9nm ;第8层,MgF2膜层,厚度为148.1xm ;第9层,Τ?02膜层,厚度为73nm ;第10层,MgF2膜层,厚度为147nm ;第11层,Τ?02膜层,厚度为73.4nm ;第12层,MgF2膜层,厚度为145.1xm ;第13层,Τ?02膜层,厚度为72.4nm ;第14层,MgF2膜层,厚度为146.6nm ;第15层,Ti02膜层,厚度为76.5nm ;第16层,MgF2膜层,厚度为149.8nm ;第17层,Ti02膜层,厚度为89.1nm ;第18层,MgF2膜层,厚度为203.9nm ;第19层,Ti02膜层,厚度为18.1xm ;第20层,MgF2膜层,厚度为37.5nm ;第21层,Ti02膜层,厚度为120nm ;第22层,MgF2膜层,厚度为18.8nm;第23层,Ti02膜层,厚度为117.9nm;第24层,MgF2膜层,厚度为53.3nm ;第25层,Τ?02膜层,厚度为17nm ;第26层,MgF2膜层,厚度为60nm ;第27层,Τ?02膜层,厚度为23.3nm ;第28层,MgF2膜层,厚度为187.1xm ;第29层,Τ?02膜层,厚度为87.1nm ;第30层,MgF2膜层,厚度为75.3nm0
[0060]如图9所示,为Ti02_MgF2滤光膜的透过率特性图,从图中可以看出,该滤光膜对波长为400-630nm和940_970nm的光增透,平均透过率大于98%,对波长为670_880nm的光截止,平均透过率小于0.5%,能广泛应用于数码相机、数码摄像机、手机摄像、可视对讲、电子玩具、安全监控、生物医药等CXD或CMOS成像系统领域,保证白天可分别获得抗强光和抗杂光干扰能力强,色彩失真少的彩色图像,而夜晚也可获得同样清晰的黑白图像。能有效避免成像偏色问题,能满足无红爆红外LED发射管(使用波长为940nm)的补光应用要求,甚至是增强激光(使用波长为950nm)夜视效果等要求。
[0061]上述【具体实施方式】只是对本发明的技术方案进行详细解释,本发明并不只仅仅局限于上述实施例,凡是依据本发明原理的任何改进或替换,均应在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种免IR-Cut切换器的日夜两用型镜头的摄像方法,其特征在于:在镜头前、镜头中间或镜头后的某个光学透光元件上镀设滤光膜,或者在镜头前、镜头中间或镜头后增设带滤光膜的光学透光元件;所述滤光膜对波长400nm-640nm、840-970nm的光增透且平均透过率大于98%,对波长为670-800nm的光截止且平均透过率小于0.4% ;并且,在与图像传感器连接的图像信号处理器中增设具有分离和去除图像信号中红外分量信号功能的颜色校正单元,白天时,开启颜色校正单元,通过颜色校正单元将图像传感器拍摄获得的图像信号中的红外分量信号分离和去除;夜间或低噪环境时,开启波长位于840-970nm之间的红外补光灯,关闭颜色校正单元,图像信号处理器不对图像传感器拍摄获得的图像信号做分离和去除红外分量信号的颜色校正处理。
2.根据权利要求1所述的免IR-Cut切换器的日夜两用型镜头的摄像方法,其特征在于:所述红外补光灯的波长为850nm或940nm。
3.根据权利要求1所述的免IR-Cut切换器的日夜两用型镜头的摄像方法,其特征在于:所述滤光膜由32层膜层组成,该32层膜层由高折射率介质材料Nb205膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成,该32层膜层从内至外依次为:第I层,Nb205 膜层,厚度为 99-101nm,第 2 层,MgF2 膜层,厚度为 181.2-184.8nm,第 3 层,Nb205膜层,厚度为27.7-28.3nm,第4层,MgF2膜层,厚度为33.7-34.3nm,第5层,Nb205膜层,厚度为28.7-29.3nm,第6层,MgF2膜层,厚度为30.7-31.3nm,第7层,Nb205膜层,厚度为99-101nm,第8层,MgF2膜层,厚度为148.5-151.5nm,第9层,Nb205膜层,厚度为 80.2-81.8nm,第 10 层,MgF2 膜层,厚度为 144.5-147.5nm,第 11 层,Nb205 膜层,厚度为95-97nm,第12层,MgF2膜层,厚度为40.6-41.4nm,第13层,Nb205膜层,厚度为30.7-31.3nm,第14层,MgF2膜层,厚度为20.8-21.2nm,第15层,Nb205膜层,厚度为 48.5-49.5nm,第 16 层,MgF2 膜层,厚度为 156.4-159.6nm,第 17 层,Nb205 膜层,厚度为 79.2-80.8
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