专利名称：透明电容触摸板的电磁屏蔽结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，尤其指一种利用透明的导电性材料薄层形成电磁屏蔽的电容触摸板结构。
背景技术：
电容式触摸板是由使用者的手指或导体碰触在面板上的瞬间产生一个电容效应，然后可由电容值的变化确定手指或导体的位置，据此达到讯号输入的目的；目前电容式触摸板已被广泛使用在通讯、计算机以及消费类电子产品等方面，通常都是使用透明触控面板，将它配置在电器的显示屏上使用，让使用者可进行交互式输入操作，以达改善人与机器之间沟通接口的亲善性并提升输入操作效率的目的；一般电容式传感器的结构都具有二层绝缘设置的透明导电薄膜，例如是氧化铟锡(ITO)材料，并在各层导电薄膜上设置所需的电极图形，例如是多个X轴感应线迹(X-Trace)与Y轴感应线迹(Y-Trace)，利用蚀刻制 程以去除导电薄膜上不要的部分，以形成所需的X、Y轴感应线迹，并使各个感应线迹之间彼此保持适当宽度的间隙；如所知的，电容式触摸板使用时容易遭受到外界的电磁波干扰(EMI)或电线电波干扰(RFI)，产生误讯号，甚至严重的干扰会导致整个电容触控传感器都无法使用，所以如何屏除EMI、RFI的干扰已成为电容式触摸板在应用上的重要课题。目前已知有一种可屏除EMI干扰的电容式触摸板结构设计被公开使用，其电容触控传感器是设置在一基板上，该基板具有形成于其任一侧面上的行及列迹线，特别是，其利用将各列迹线尽量地加宽设置，使得相邻列迹线之间甚至仅存大约30微米的间距，因此由各列迹线共同排列组成一面状的电磁遮蔽屏，以阻挡电磁波噪声的干扰；然而，相邻列迹线之间的微小间距，会导致产品在产制加工方面的困难，降低产品良率、倍增成本。
发明内容本实用新型主要提供一种透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，主要是可在不用额外的增加触摸板生产工序及不增加成本的情况下，使电容触摸板的面对电磁干扰来源的一侧面可形成一电磁屏蔽层，以屏除EMI、RFI的干扰；本实用新型相较于已知的电容式触摸板结构设计，至少具备如下优点a、本实用新型的电磁屏蔽层是全面的、没有缝隙的，因此电磁遮蔽效果更佳；b、本实用新型的电磁遮蔽效果与电容触控传感器的行、列迹线设置形状或宽度无关，因此其行、列迹线的设置图案具有任意性，设计的局限性小，电容感应效能佳；C、本实用新型的各列之间的间隙可加大，避免产生干扰，且可简化加工技术，提高产品良率,降低生产成本。为了达成上述实用新型目的，本实用新型所提供的透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其包含一电容触控传感器、多个绝缘叠层以及至少一导电性材料薄层，该电容触控传感器被设置在二绝缘叠层之间，特别是，该导电性材料薄层被设置在该电容触控传感器的面对电磁干扰来源的一侧面，其呈接地设置且可遮蔽该电容触控传感器的全部面积范围，该导电性材料薄层为面电阻在12，000Ω. cm_2以下最好，面电阻是在10至10，000 Ω . cm_2之间；该导电性材料薄层可为导电性光学胶(OCA)，该导电性光学胶材料在应用上可以是呈可黏贴的片状薄膜层，或是呈溶液状可利用涂布或印刷手段铺设到触摸板上，而前述导电性光学胶可以选用含有 PEDOT:PSS [Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrenesulfonate)]材料的导电性光学胶，或是采用含抗静电剂(antistatic agent)材料,例如离子性界面活性剂(Ionic surfactant)或非离子性界面活性剂(Nonionic Surfactant)的导电性光学胶，但实施的材料范围不以前述为限；另外，该导电性材料薄层可为使用氧化铟锡、氧化铟锌、氧化锌铝或聚乙撑二氧噻吩之一材料制成的透明导电薄膜；该导电性材料薄层也可选用金属网状结构薄膜、纳米银粒蒸镀膜或一以表面硬化处理手段设置在该保护层上的透明导性薄膜。在一实施例中，本实用新型所提供的透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其将一透明电容触摸板配置在一液晶显示模块上使用，利用一导电性光学胶层设置于该透明电容触摸板与液晶显示模块之间使二者黏合成一体，特别是，该导电性光学胶层呈接地设置且可遮蔽该透明电容触摸板的全部面积范围，该导电性光学胶层含有PED0T:PSS或抗静电剂材料，且其面电阻在10至ΙΟ,ΟΟΟΩ. cm-2之间。此将于下文中进一步阐明本实用新型的其他功能及技术特征，熟习本技术者熟读文中的说明后即可据以实现本实用新型。
图I为本实用新型第一实施例的构件分离立体示意图；图2为本实用新型第一实施例的侧面剖示图；图3为本实用新型第二实施例的侧面剖示图；图4为本实用新型第三实施例的侧面剖示图；图5为本实用新型第四实施例的侧面剖示图；图6为本实用新型第五实施例的侧面剖示图；图7为本实用新型第六实施例的侧面剖示图；以及图8为本实用新型第七实施例的侧面剖示图。图中1，上方保护层；2，X轴感应层；22，X轴感应线迹；3，基板；4，Y轴感应层；42，Y轴感应线迹；5，绝缘层；51，绝缘黏胶层；6，导电性光学胶层61，导电体；7，下方保护层；8，导电性材料薄层；9，感应电极层；100，触摸板；200，液晶显示模块；
具体实施方式
如图I、图2所示是本实用新型的第一实施例，其主要包含一上方保护层I、一 X轴感应层2、一基板3、一 Y轴感应层4、一绝缘层5、一导电性光学胶层6以及一下方保护层7，上述各层被依序叠接组合成一电容触摸板；在这个实施例中，该上方保护层I为电容触摸板的表面层或上盖，通常它与下方保护层7都是选用高透光率的绝缘薄层，其材料是选自于玻璃、聚酯(PET)或聚碳酸酯(PC)等，但实施的材料范围不以前述材料为限；该基板3为一坚硬材质的透明绝缘性薄板，其材料是选自于玻璃或聚碳酸酯(PC)、聚酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或环烯烃共聚合物(COC)等，但实施的材料范围不以前述材料为限；该绝缘层5为一高透光率的绝缘薄膜，其材料是选自于聚酯、油墨、光硬化树脂(UV胶)或绝缘性光学胶(OCA)等，但实施的材料范围不以前述材料为限；该导电性光学胶层6为一趋近透明的薄层，特别是一种基于导电聚合物PED0T:PSS(聚3，4_乙撑二氧噻吩聚苯乙烯磺酸盐)的高透明度导电性光学胶，但实施的材料范围不以前述材料为限，例如，也可采用含有离子性界面活性剂或非离子性界面活性剂等的抗静电剂材料的导电性光学胶；而该光学胶材料在应用上可以是呈片状薄膜层，或是呈溶液状可利用涂布或印刷手段铺设到该触摸板上；特别地是，该导电性光学胶层6面电阻是在10至10000 Ω. cm-2之间，而层厚度O. 01至300 μ m之间；前述X轴感应层2与Y轴感应层4是使用具有良好导电特性的氧化铟锡(ITO)透明导电膜，其中，在X轴感应层2的透明导电膜上具有数道彼此平行排列的X轴感应线迹22，而在Y轴感应层4的透明导电膜上具有数道彼此平行排列的Y轴感应线迹 42。将前述各层被依序叠接组合成一透明板体，其中，X轴感应层2设置在表面层I的底表面，Y轴感应层4隔着基板3与X轴感应层2叠置黏合成一体，并使Y轴感应线迹42与X轴线迹22之间呈正交设置；而该导电性光学胶层6使该绝缘层5与该下方保护层7之间全面地平整黏贴在一起，且在该导电性光学胶层6的一侧边缘以一导电体61接地，而该导电体61可以选用铜箔片或软性电路板(FPT)。如前述结构的触摸板，在X轴感应层2与Y轴感应层4形成一电容式触控感应回路，因此当手指或导体碰触或轻滑过表面层I时即可触发电容讯号，通过对电容讯号变化的侦测追踪，即可判断导体或手指的碰触位置；而在本实用新型实施例中，该接地的导电性光学胶层6可将外界的EMI、RFI等干扰屏蔽，避免前述电容式触控感应回路运作受到影响，产生误讯号。再请参阅图3所示，在本实用新型的第二实施例中该电容触摸板是由下列各层被依序叠接组合成一透明板体，其包含一上方保护层I、一 X轴感应层2、一基板3、一 Y轴感应层4、一下方保护层7及一导电性材料薄层8 ;前述触摸板各组合叠层1、2、3、4以及7的特征与前述第一实施例的相同，故不再重复叙述；而该导电性材料薄层8为一趋近透明的薄层，令其面电阻是在10至10000 Ω. cm2之间，且在该导电性材料薄层8的一侧边缘以一导电体接地；该导电性薄层的可选用一种金属网状结构薄膜，例如由日商富士公司、日商东丽公司或是日商郡士公司所生产的金属网状结构薄膜，也可采用一种纳米银粒蒸镀膜，例如由美商Cima NanoTech或日商东丽公司所生产的纳米银粒蒸镀膜；另外，一些常见而具有良好导电特性的透明导电薄膜也可适用，例如是氧化铟锡(Indium Tin Oxide, ITO)、氧化铟锋(Indium Zinc Oxide, IZO)、氧化锋招(Aluminum Zinc Oxide, ΑΖ0)或聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)等材质的薄膜，但实施的范围不以前述材料为限；可以理解的，熟习此项技艺的人士，也可以在前述下方保护层7的外侧表面，利用表面硬化处理(Hard Coating)手段将一符合前述面电阻特性的导电性材料，例如是含有PED0T:PSS或抗静电剂的材料，直接设置在该下方保护层7面上。本实用新型实施例，由该接地的导电性材料薄层8的设置即可有效屏蔽外界的EMI、RFI，以确保电容触摸板的正常运作。再如图4的本实用新型第三实施例，显示将一触摸板配置在一液晶显示模块(LCM, Liquid Crystal Display Module)上使用的组合结构；该触摸板100包含一上方保护层I、一 X轴感应层2、一基板3、一 Y轴感应层4及一下方保护层7，上述各层被依序叠接组合成一电容触摸板，再使用一导电性光学胶层6将该触摸板100全面地贴合在该液晶显示模块200上，且在该导电性光学胶层6的一侧边缘以一导电体接地(未显示于图面)；上述触摸板100的各层1、2、3、4、7以及该导电性光学胶层6的特征与前述第一实施例相同，故不再重复叙述；而在本实施例中，该接地的导电性光学胶层6可屏蔽该液晶显示模块200的EMI、RFI等干扰，避免前述触摸板100运作受到影响，产生误讯号，因此在不增加制造工序与成本的情况下，又可使触摸板兼具电磁屏蔽的效能。另于图5至图8中再显示了四种不同结构的触摸板100配置在一液晶显示模块200上使用的态样；图5的该触摸板100包含一上方保护层I、一 X轴感应层2、一绝缘黏胶层51、一 Y轴感应层4及一基板3，上述各层被依序叠接组合成一电容触摸板；图6的电容触摸板是由一上方保护层I、一 X轴感应层2、一绝缘黏胶层51、一基板3、一 Y轴感应层4·及一绝缘层5等叠层被依序叠接组合成；图7的触摸板100是由一基板3、一感应电极层9及一下方保护层7共同组成；图8的触摸板100是由一上方保护层I、一感应电极层9及一基板3共同组成；特别是，前述感应电极层9是一种可将X轴感应电极与Y轴感应电极设置在同一层的感应电极结构；该等触摸板100藉由一导电性光学胶层6使该触摸板底表面被全面地贴合在该液晶显示模块200上，且在该导电性光学胶层6的一侧边缘以一导电体接地(未显示于图面)；与前述第三实施例相同的，该接地的导电性光学胶层6具有屏蔽EMI、RFI的效能。尽管已参考附图并结合具体实施例完整说明本发明，应注意熟习此项技术人士会明白各种变化及修改。此类变化及修改应理解为包括于由随附申请专利范围所定义的本发明的范畴内。
权利要求1.一种透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其包含一电容触控传感器、多个绝缘叠层以及至少一导电性材料薄层，该电容触控传感器被设置在二绝缘叠层之间，其特征为该导电性材料薄层被设置在该电容触控传感器之面对电磁干扰来源的一侧面，其呈接地设置且可遮蔽该电容触控传感器的全部面积范围，该导电性材料薄层的面电阻在10至10，OOOQ .Cnf2之间。
2.如权利要求I所述的透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其特征在于，其中所述导电性材料薄层为导电性光学胶。
3.如权利要求I所述的透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其特征在于，其中所述导电性材料薄层为金属网状结构薄膜。
4.如权利要求I所述的透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其特征在于，其中所述导电性材料薄层为纳米银粒蒸镀膜。
5.如权利要求I所述的透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其特征在于，其中所述导电性材料薄层为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化锌铝或聚乙撑二氧噻吩之一材料制成的透明导电薄膜。
6.如权利要求I所述的透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其特征在于，其中所述导电性材料薄层为一以表面硬化处理手段设置在一保护层上的透明导电膜。
7.一种透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其将一透明电容触摸板配置在一液晶显不模块上使用，利用一导电性光学胶层设置于该透明电容触摸板与液晶显示模块之间使二者黏合成一体，其特征为该导电性光学胶层呈接地设置且可遮蔽该透明电容触摸板的全部面积范围，该导电性光学胶层面电阻在10至10，000 Q . CHf2之间。
专利摘要一种透明电容触摸板的电磁屏蔽结构，其包含一电容触控传感器、多绝缘叠层以及至少一导电性材料薄层，该电容触控传感器被设置在二绝缘叠层之间，特别是，该导电性材料薄层被设置在该电容触控传感器之面对电磁干扰来源的一侧面，其呈接地设置且可遮蔽该电容触控传感器的全部面积范围，该导电性材料薄层的面电阻在10至10,000Ω.cm-2之间；该导电性材料薄层可为含有PEDOT:PSS或抗静电剂材料的导电性光学胶、金属网状结构薄膜、纳米银粒蒸镀膜或一以表面硬化处理手段设置在该保护层上的透明导性薄膜；该导电性材料薄层也可为一设置在该透明电容触摸板与液晶显示模块之间的导电性光学胶层。
文档编号H05K9/00GK202649985SQ20122004964
公开日2013年1月2日 申请日期2012年2月16日 优先权日2012年2月16日
发明者杨恺悌 申请人:洋华光电股份有限公司