本发明涉及带间隔件的光学用表面保护膜。
本发明的带间隔件的光学用表面保护膜作为出于保护用于液晶显示器等的玻璃、偏振板、波片、相位差板、光学补偿膜、反射片、增亮膜和透明导电性膜等光学部件表面的目的使用的光学用表面保护膜而有用。
背景技术：
以往，对于光学部件、电子部件等而言，为了防止加工、组装、检查、运输等时的表面的损伤，一般在部件的露出面贴合表面保护膜。表面保护膜由基材膜和粘合层构成，根据需要，出于保护贴合(使用)前的粘合剂层的目的，在粘合剂表面贴合间隔件(也称作脱模膜或剥离衬垫)(专利文献1)。带间隔件的表面保护膜在剥离间隔件后贴合于作为被粘物的光学部件。
被贴合的表面保护膜在不再需要的阶段从光学部件剥离后，有时还在剥离后的光学部件的表面设置具有其他功能的层(其他层)等(专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2012－224811
专利文献2：日本特开2014－208756
技术实现要素：
发明要解决的问题
然而，根据剥离表面保护膜后的光学部件(被粘物)的表面的状态，存在如下问题：由于对其他层的润湿性、粘接性变差等，导致发生其他层从光学部件剥离，产品变得不良。尤其在使用带间隔件的表面保护膜的情况下，存在如下问题：在剥离光学用表面保护膜后的设置于被粘物(例如构成光学部件的玻璃表面)的其他层(例如层间填充剂(层))容易剥离。因此，要求开发一种带间隔件的光学用表面保护膜，其在剥离表面保护膜后的玻璃表面等被粘物设置层间填充剂(层)等其他层时，能够确保其他层不易剥离的状态。
本发明的目的在于提供一种带间隔件的光学用表面保护膜，其能够保护作为被粘物的光学部件免于弄脏、损伤，能够防止在将表面保护膜从被粘物剥离后的设置于被粘物表面的层间填充剂(层)等其他层容易剥离的现象。
本发明人鉴于上述情况而进行了深入研究，探讨在带间隔件的光学用表面保护膜中，剥离间隔件后的粘合剂层在贴合于玻璃等被粘物后被剥离，由此粘合剂层成分残留于被粘物上，被粘物的表面被污染，从而可能对之后设置于被粘物上的层间填充剂(层)等其他层的易剥离性造成影响。因此，发现使用具有特定参数的带间隔件的光学用表面保护膜，结果与以往相比，能够减小在剥离光学用表面保护膜后的被粘物的表面的污染的影响，因此能够提供可防止例如层间填充剂(层)等其他层的剥离的带间隔件的光学表面保护膜。
用于解决问题的手段
即，本发明涉及一种带间隔件的光学用表面保护膜，其是在粘合剂层的一面具有聚酯膜且在上述粘合剂层的与聚酯膜相反的面具有间隔件的带间隔件的光学用表面保护膜，其中，剥离上述间隔件后的上述粘合剂层表面的在荧光x射线下的si－kα线强度为2.5kcps以下，上述间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力在拉伸速度0.3m/分钟下为0.5n/50mm以下。
本发明的带间隔件的光学用表面保护膜中，优选：上述间隔件具有脱模层和基材，上述脱模层由包含长链烷基系材料和/或脂肪族羧酸酯的脱模剂组合物形成。
本发明的带间隔件的光学用表面保护膜中，优选：上述粘合剂层由包含(甲基)丙烯酸系聚合物(a)和脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)的粘合剂组合物形成，对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)而言，至少包含含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体、和含羟基的(甲基)丙烯酸系单体作为单体成分，并且玻璃化转变温度为－50℃以下，相对于上述含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体100重量份，含有2～20重量份的上述含羟基的(甲基)丙烯酸系单体。
本发明的带间隔件的光学用表面保护膜中，优选：相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100重量份，含有1～30重量份的上述脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)。
本发明的带间隔件的光学用表面保护膜中，优选：上述粘合剂组合物还含有以铁或锡作为活性中心的催化剂(c)。
本发明的带间隔件的光学用表面保护膜中，优选：相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100重量份，含有0.002～0.5重量份的上述以铁或锡作为活性中心的催化剂(c)。
发明效果
本发明的带间隔件的光学用表面保护膜的光学用表面保护膜与间隔件的剥离性优异，并且间隔件剥离后的光学用表面保护膜对被粘物的剥离性优异，而且在剥离了光学用表面保护膜时，因粘合剂层造成的被粘物的表面的污染的影响小，因此可防止之后设置于被粘物上的层间填充剂(层)等其他层从被粘物剥离，因而有用。
附图说明
图1是表示本发明的带间隔件的光学用表面保护膜的一个构成例的示意性截面图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行详细说明。
＜带间隔件的光学用表面保护膜的整体结构＞
本发明的光学用表面保护膜是在光学部件(例如用于液晶显示器等的玻璃、偏振板、波片、相位差板、光学补偿膜、反射片、增亮膜和透明导电性膜等光学部件)的加工时和运送时对光学部件的表面进行保护的光学用表面保护膜，通常为被称作光学用粘合片、光学用粘合带、光学用粘合贴(label)、光学用粘合膜等的形态。上述光学用表面保护膜中的粘合剂层典型而言是连续地形成，但不限于该形态，也可以是形成为例如点状、条状等规则或无规的图案的粘合剂层。另外，上述光学用表面保护膜可以为卷状，也可以为单片状。
图1中示意性地表示本发明的带间隔件的光学用表面保护膜的典型构成例。该带间隔件的光学用表面保护膜3为将间隔件1与光学用表面保护膜2层叠的形态。间隔件1具备基材11和脱模层12，光学用表面保护膜2具备聚酯膜22和设置于其一面的粘合剂层21，层叠是脱模层12与粘合剂层21贴合而成的。带间隔件的光学用表面保护膜3在剥离间隔件1后，将粘合剂层21贴附于作为被粘物的光学部件(保护对象、例如用于液晶显示器等的玻璃、偏振板、波片、相位差板、光学补偿膜、反射片、增亮膜和透明导电性膜等光学部件的表面)而使用，在不再需要的阶段从光学部件剥离。另外，带间隔件的光学用表面保护膜3可以举出：在聚酯膜22的两面具有粘合剂层2的形态、在聚酯膜22的赋予了粘合剂层2的面的相反面具有抗静电层的形态。
＜光学用表面保护膜＞
本发明的光学用表面保护膜具备聚酯膜和粘合剂层。
＜聚酯膜＞
本发明的聚酯膜可以举出：以聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等具有以酯键为基础的主骨架的聚合物材料(聚酯树脂)作为主要树脂成分的聚酯膜。上述聚酯膜的光学特性、尺寸稳定性优异，但在直接使用的情况下具有容易带电的性质。
构成上述聚酯膜的树脂材料中根据需要可以配合抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、着色剂(颜料、染料等)等各种添加剂。可以对上述聚酯膜的第一面实施了例如电晕放电处理、等离子体处理、紫外线照射处理、酸处理、碱处理、底涂剂的涂布等公知或惯用的表面处理。这样的表面处理例如可以为用于提高上述聚酯膜与上述粘合剂层的密合性(粘合剂层的锚固性)的处理。可优选地采用在上述聚酯膜的表面导入羟基(－oh基)等极性基团的表面处理。另外，还可以对上述聚酯膜的第二面实施与上述同样的表面处理而设置粘合剂层、抗静电层。
本发明的光学用表面保护膜通过在上述聚酯膜的赋予了粘合剂层的面的相反面设置上述抗静电层，可以赋予抗静电功能。另外，可以使用预先进行抗静电处理而成的聚酯膜。通过使用上述聚酯膜，在剥离上述间隔件时、将上述粘合剂层从作为被粘物的光学部件剥离时，可抑制带电，因而优选。需要说明的是，赋予抗静电功能的方法没有特别限制，可以使用以往公知的方法，例如可举出：涂布包含抗静电剂和树脂成分的抗静电性树脂、导电性聚合物、含有导电性物质的导电性树脂的方法；蒸镀或镀覆导电性物质的方法；以及，混入抗静电剂等的方法；等等。
上述聚酯膜的厚度通常为5～200μm、优选为10～100μm左右。若上述聚酯膜的厚度为上述范围内，则对作为被粘物的光学部件的贴合作业性、从光学部件的剥离作业性优异，因而优选。
＜粘合剂层＞
本发明的粘合剂层由实质上不含硅酮材料的粘合剂组合物形成。上述“实质上不含硅酮材料”是指，上述粘合剂层的表面的在荧光x射线下的si－kα线强度为2.5kcps以下。上述粘合剂组合物只要是具有粘合性的物质就可以没有特别限制地使用，也可以使用例如丙烯酸系粘合剂组合物、氨基甲酸酯系粘合剂组合物、合成橡胶系粘合剂组合物、天然橡胶系粘合剂组合物等，其中可优选地使用丙烯酸系粘合剂组合物。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(a)＞
上述丙烯酸系粘合剂组合物含有(甲基)丙烯酸系聚合物(a)。需要说明的是，(甲基)丙烯酸系聚合物是指，丙烯酸系聚合物和/或甲基丙烯酸系聚合物。
＜含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体＞
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)只要是具有粘合性的(甲基)丙烯酸系聚合物就没有特别限定，单体成分的主要成分优选使用含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体。上述含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体可以使用1种或2种以上作为主要成分。需要说明的是，主要成分是指配合比例最高。
上述含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体的具体例例如可以举出：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸－2－乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等。
其中，作为合适的单体可以举出：(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸－2－乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等含碳数6～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体。通过使用上述具有碳数6～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体，易于将对被粘物的粘合力控制地较低，形成再剥离性优异的粘合剂层。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)中，相对于构成上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的单体成分总量，优选含有50～99重量％的上述含碳数为2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体，更优选为60～98重量％，进一步优选为70～97重量％，最优选为80～96重量％。通过处于该范围内，由此粘合剂组合物具有适度的润湿性，粘合剂层的凝聚力也优异，从而优选。
＜含羟基的(甲基)丙烯酸系单体＞
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)优选包含含羟基的(甲基)丙烯酸系单体作为单体成分。通过包含上述含羟基的(甲基)丙烯酸系单体，由此羟基能够容易地进行交联的控制，进而容易控制由流动造成的润湿性的改善与上述粘合剂层的凝聚力、剪切力的平衡。此外，在上述粘合剂层中添加抗静电剂的情况下，与通常可作为交联部位发挥作用的羧基、磺酸酯基等不同，羟基与作为抗静电剂的离子性化合物等具有适度的相互作用，因此从抗静电性方面考虑也可以适宜地使用。
上述含羟基的(甲基)丙烯酸系单体例如可以举出：(甲基)丙烯酸2－羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2－羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4－羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6－羟基己酯、(甲基)丙烯酸8－羟基辛酯、(甲基)丙烯酸10－羟基癸酯、(甲基)丙烯酸12－羟基月桂酯、丙烯酸(4－羟甲基环己基)甲酯、n－羟甲基(甲基)丙烯酰胺等。上述含羟基的(甲基)丙烯酸系单体可以单独使用，或者也可以混合使用2种以上。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)中使用了上述含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体、和上述含羟基的(甲基)丙烯酸系单体的情况下，上述含羟基的(甲基)丙烯酸系单体相对于上述含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体100重量份优选为2～20重量份，更优选为3～15重量份，进一步优选为4～12重量份。如果处于该范围内，则容易控制上述粘合剂组合物的润湿性与上述粘合剂层的凝聚力、剪切力的平衡，因而优选。
＜含羧基的(甲基)丙烯酸系单体＞
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)优选包含含羧基的(甲基)丙烯酸系单体作为单体成分。通过包含上述含羧基的(甲基)丙烯酸系单体，由此羧基可提高剪切力，而且可防止随着时间推移的粘合力的上升，形成再剥离性、防止粘合力上升性和作业性优异的粘合剂层。尤其，通过上述粘合剂层的剪切力提高，由此通过将上述粘合剂层贴合于被粘物可抑制基于被粘物的卷曲，可抑制上述粘合剂层与被粘物之间(界面)的滑动、错位的产生。
上述含羧基的(甲基)丙烯酸系单体例如可以举出：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基丙基六氢邻苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基马来酸酯、羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基四氢邻苯二甲酸酯等。上述含羧基的(甲基)丙烯酸系单体可以单独使用，或者也可以混合使用2种以上。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)中使用了上述含碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体、和上述含羧基的(甲基)丙烯酸系单体的情况下，上述含羧基的(甲基)丙烯酸系单体相对于上述具有碳数2～14的烷基的(甲基)丙烯酸系单体100重量份，优选为0.01～1重量份，更优选为0.01～0.8重量份，进一步优选为0.01～0.5重量份，最优选为0.02～0.2重量份。若处于该范围内，则可以抑制上述粘合剂层的随着时间推移的粘合力的上升，再剥离性、防止粘合力上升性和作业性优异，另外，上述粘合剂层的凝聚力以及剪切力也优异，因而优选。
＜其他聚合性单体＞
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)中，作为单体成分，只要是不损害本发明的特性的范围内，就可以不特别限定地使用其他聚合性单体。尤其出于容易得到粘合性能的平衡的理由，上述其他聚合性单体可以使得上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的tg为－50℃以下且－100℃以上而用于调整玻璃化转变温度、剥离性。
上述其他聚合性单体例如可适宜地使用：含氰基单体、乙烯基酯单体、芳香族乙烯基单体等提高凝聚力、耐热性的成分；含酰胺基单体、含酰亚胺基单体、含氨基单体、含环氧基单体、n－丙烯酰吗啉、乙烯基醚单体等提高粘合(粘接)力、具有发挥作为交联化基点的作用的官能团的成分。这些聚合性单体可以单独使用，或者也可以混合使用2种以上。
上述含氰基单体例如可以举出丙烯腈、甲基丙烯腈。
上述乙烯基酯单体例如可以举出乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等。
上述芳香族乙烯基单体例如可以举出：苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、α－甲基苯乙烯、其他取代苯乙烯等。
上述含酰胺基单体例如可以举出：丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、二乙基丙烯酰胺、n－乙烯基吡咯烷酮、n，n－二甲基丙烯酰胺、n，n－二甲基甲基丙烯酰胺、n，n－二乙基丙烯酰胺、n，n－二乙基甲基丙烯酰胺、n，n’－亚甲基双丙烯酰胺、n，n－二甲氨基丙基丙烯酰胺、n，n－二甲氨基丙基甲基丙烯酰胺、二丙酮丙烯酰胺等。
上述含酰亚胺基单体例如可以举出：环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺、n－环己基马来酰亚胺、衣康酰亚胺等。
上述含氨基单体例如可以举出：(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸n，n－二甲氨基乙酯、(甲基)丙烯酸n，n－二甲氨基丙酯等。
上述含环氧基单体例如可以举出：(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯、烯丙基缩水甘油醚等。
上述乙烯基醚单体例如可以举出：甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、异丁基乙烯基醚等。
其他聚合性单体相对于构成上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的单体成分总量优选为0.01～1重量％，更优选为0.05～0.5重量％。通过在该范围内使用上述其他聚合性单体，在使用例如抗静电剂的离子性化合物的情况下，能够适当调节与该化合物的良好的相互作用、良好的再剥离性。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的重均分子量(mw)为10万～500万、优选为20万～400万、进一步优选为30万～300万。若重均分子量小于10万，则有由于粘合剂组合物的凝聚力减小而导致产生残胶的倾向。另一方面，重均分子量(mw)大于500万的情况下，则有聚合物的流动性下降，对被粘物(例如作为光学部件的偏振板等)的润湿变得不充分，导致被粘物与粘合剂层之间产生隆起(フクレ)的倾向。需要说明的是，重均分子量(mw)是指通过gpc(凝胶渗透色谱)测定而得到的重均分子量。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的玻璃化转变温度(tg)优选为－50℃以下，更优选为－55℃以下，进一步优选为－60℃以下。上述(甲基)丙烯酸系聚合物的玻璃化转变温度(tg)优选为－100℃以上。玻璃化转变温度高于－50℃的情况下，聚合物不易流动，例如有对被粘物(例如作为光学部件的偏振板等)的润湿变得不充分，导致在被粘物与粘合剂层之间产生隆起的倾向。尤其通过使玻璃化转变温度为－61℃以下，由此容易得到对被粘物的润湿性和轻剥离性优异的粘合剂组合物。需要说明的是，上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的玻璃化转变温度可以通过适当改变所用单体成分、组成比而调整至上述范围内。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的聚合方法没有特别限制，可以通过溶液聚合、乳液聚合、本体聚合、悬浮聚合等公知的方法进行聚合，尤其从作业性的观点、对被粘物的低污染性等特性方面出发，溶液聚合为更优选的方案。另外，所得聚合物可以为无规共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物、接枝共聚物等中的任意种。
上述粘合剂组合物中优选含有交联剂。上述交联剂可以使用异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺系树脂、氮丙啶衍生物以及金属螯合化合物等，尤其异氰酸酯化合物的使用为优选的方案。另外，这些化合物可以单独使用，也可以混合2种以上使用。
＜脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)＞
上述异氰酸酯化合物中，粘合剂组合物中优选含有脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)。例如，上述粘合剂组合物中含有上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的情况下，通过适当调节上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的构成单元、构成比率、脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)的选择以及添加比率等并进行交联，由此可以得到耐热性更优异的粘合剂层。
上述脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)例如可以举出：三亚甲基二异氰酸酯、丁烯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(hdi)、二聚酸二异氰酸酯等脂肪族多异氰酸酯类；环戊烷二异氰酸酯、环己烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯(ipdi)等脂肪族异氰酸酯类；将上述异氰酸酯化合物利用脲基甲酸酯键、缩二脲键、异氰脲酸酯键、脲二酮键、脲键、碳二亚胺键、脲酮亚胺键、噁二嗪三酮键等进行改性后的多异氰酸酯改性物。例如市售品可以举出：商品名takenate300s、takenate500、takenated165n、takenated178n(以上为武田药品工业社制)、sumidulet80、sumidulel、desmodurn3400(以上为sumikabayerurethane公司制)、millionatemr、millionatemt、coronatel、coronatehl、coronatehx(以上为日本聚氨酯工业社制)等。脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)可以单独使用，也可以混合2种以上使用，也可以并用2官能的异氰酸酯化合物和3官能以上的异氰酸酯化合物。通过并用交联剂，能够兼顾粘合性和耐回弹性(耐反発性)(对曲面的粘接性)，可以得到粘接可靠性更优异的表面保护膜。
关于上述脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)的含量，例如相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100重量份优选含有1～30重量份，更优选含有1～20重量份，进一步优选含有2～10重量份，最优选含有3～6重量份。上述含量小于1质量份的情况下，利用交联剂的交联形成变得不充分，有时所得粘合剂层的凝聚力减小而不能得到充分的耐热性，并且有导致残胶的倾向。另一方面，含量大于30重量份的情况下，聚合物的凝聚力大，流动性下降，有对被粘物(例如用于液晶显示器等的玻璃、偏振板、波片、相位差板、光学补偿膜、反射片、增亮膜和透明导电性膜等光学部件)的润湿变得不充分而导致在被粘物与粘合剂层之间发生隆起的倾向。此外，若交联剂量多，则有剥离带电特性下降的倾向。
＜催化剂(c)＞
上述粘合剂组合物中，为了更有效地推进上述的交联反应，还可以含有催化剂(c)。催化剂(c)可以使用例如：二月桂酸二丁基锡、二月桂酸二辛基锡等锡系催化剂；三(乙酰丙酮)合铁、三(己烷－2，4－二酮(dionato))合铁、三(庚烷－2，4－二酮)合铁、三(庚烷－3，5－二酮)合铁、三(5－甲基己烷－2，4－二酮)合铁、三(辛烷－2，4－二酮)合铁、三(6－甲基庚烷－2，4－二酮)合铁、三(2，6－二甲基庚烷－3，5－二酮)合铁、三(壬烷－2，4－二酮)合铁、三(壬烷－4，6－二酮)合铁、三(2，2，6，6－四甲基庚烷－3，5－二酮)合铁、三(十三烷－6，8－二酮)合铁、三(1－苯基丁烷－1，3－二酮)合铁、三(六氟乙酰丙酮)合铁、三(乙酰乙酸乙酯)合铁、三(乙酰乙酸正丙酯)合铁、三(乙酰乙酸异丙酯)合铁、三(乙酰乙酸正丁酯)合铁、三(乙酰乙酸仲丁酯)合铁、三(乙酰乙酸叔丁酯)合铁、三(丙酰乙酸甲酯)合铁、三(丙酰乙酸乙酯)合铁、三(丙酰乙酸正丙酯)合铁、三(丙酰乙酸异丙酯)合铁、三(丙酰乙酸正丁酯)铁、三(丙酰乙酸仲丁酯)合铁、三(丙酰乙酸叔丁酯)合铁、三(乙酰乙酸苄酯)合铁、三(丙二酸二甲酯)合铁、三(丙二酸二乙酯)合铁、三甲氧基铁、三乙氧基铁、三异丙氧基铁、氯化铁等铁系催化剂。催化剂(c)可以是1种也可以并用2种以上。
另外，上述铁系催化剂可以适当使用铁螯合化合物，例如可以表示为式fe(x)(y)(z)。铁螯合化合物通过(x)(y)(z)的组合，而由fe(x)3、fe(x)2(y)、fe(x)(y)2、fe(x)(y)(z)中的任一式表示。在铁螯合化合物fe(x)(y)(z)中，(x)(y)(z)各自为对fe的配体，例如在x、y或z为β－二酮的情况下，β－二酮可以举出乙酰丙酮、己烷－2，4－二酮、庚烷－2，4－二酮、庚烷－3，5－二酮、5－甲基己烷－2，4－二酮、辛烷－2，4－二酮、6－甲基庚烷－2，4－二酮、2，6－二甲基庚烷－3，5－二酮、壬烷－2，4－二酮、壬烷－4，6－二酮、2，2，6，6－四甲基庚烷－3，5－二酮、十三烷－6，8－二酮、1－苯基丁烷－1，3－二酮、六氟乙酰丙酮、抗坏血酸等。
上述x、y或z为β－酮酯的情况下，β－酮酯可以举出：乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸正丙酯、乙酰乙酸异丙酯、乙酰乙酸正丁酯、乙酰乙酸仲丁酯、乙酰乙酸叔丁酯、丙酰乙酸甲酯、丙酰乙酸乙酯、丙酰乙酸正丙酯、丙酰乙酸异丙酯、丙酰乙酸正丁酯、丙酰乙酸仲丁酯、丙酰乙酸叔丁酯、乙酰乙酸苄酯、丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯等。
另外，还可以使用上述铁螯合化合物以外的铁系催化剂，例如也可以使用铁与烷氧基、卤原子、酰氧基的化合物。铁与烷氧基的化合物的情况下，烷氧基可以举出：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2－乙基己基、苯氧基、环己氧基、苄氧基、1－苄基萘氧基等。
上述铁与卤原子的化合物的情况下，卤原子可以举出氟、氯、溴、碘等。
上述铁与酰氧基的化合物的情况下，酰氧基可以举出：2－乙基己酸、辛酸、环烷酸、树脂酸(以松香酸、新松香酸、d－海松酸、异－d－海松酸、罗汉松酸、葡萄糖酸、富马酸、柠檬酸、天冬氨酸、α－酮谷氨酸、苹果酸、琥珀酸、甘氨酸、组氨酸等氨基酸等作为主要成分的脂肪族系有机酸；以苯甲酸、肉桂酸、对羟基肉桂酸等作为主要成分的芳香族脂肪酸)等。
上述铁系催化剂之中，从反应性、固化性的方面考虑，优选具有β－二酮作为配体的铁螯合化合物，特别优选使用三(乙酰丙酮)合铁。
上述催化剂(c)的含量(使用量)例如相对于(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100质量份优选为0.002～0.5质量份，更优选为0.005～0.3质量份，进一步优选为0.01～0.1质量份。若处于该范围内，则在形成粘合剂层时交联反应的速度快，粘合剂组合物的适用期(ポットライフ)也增长，为优选的方案。
此外，上述粘合剂组合物中可以含有发生酮－烯醇互变异构的化合物作为交联延迟剂。例如，在包含脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)的粘合剂组合物、或者可配合脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)使用的粘合剂组合物中，可以优选地采用包含上述发生酮－烯醇互变异构的化合物的方案。由此，抑制配合脂肪族多异氰酸酯系交联剂(b)后的粘合剂组合物的过度的粘度上升、凝胶化，可实现延长粘合剂组合物的适用期的效果。该技术例如可优选地适用于上述粘合剂组合物为有机溶剂溶液或无溶剂的形态的情况。
上述发生酮－烯醇互变异构的化合物可以使用各种β－二羰基化合物。具体例可以举出：乙酰丙酮、2，4－己烷二酮、3，5－庚烷二酮、2－甲基己烷－3，5－二酮、6－甲基庚烷－2，4－二酮、2，6－二甲基庚烷－3，5－二酮等β－二酮类；乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸异丙酯、乙酰乙酸叔丁酯等乙酰乙酸酯类；丙酰乙酸乙酯、丙酰乙酸乙酯、丙酰乙酸异丙酯、丙酰乙酸叔丁酯等丙酰乙酸酯类；异丁酰乙酸乙酯、异丁酰乙酸乙酯、异丁酰乙酸异丙酯、异丁酰乙酸叔丁酯等异丁酰乙酸酯类；丙二酸甲酯、丙二酸乙酯等丙二酸酯类；等等。其中，作为适宜的化合物，可以举出乙酰丙酮和乙酰乙酸酯类。发生酮－烯醇互变异构的化合物可以单独使用，也可以组合2种以上使用。
上述发生酮－烯醇互变异构的化合物的含量相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a)100重量份例如可以设为0.1～20重量份，通常设为0.5～15重量份(例如1～10重量份)是适当的。上述化合物的量过少时，有时难以发挥充分的使用效果。另一方面，若大量使用超出需要的上述化合物，则残留于粘合剂层，有时使凝聚力下降。
此外，上述粘合剂组合物中可以含有其他公知的添加剂，例如可以根据使用用途适当添加着色剂、颜料等粉体、表面活性剂、增塑剂、抗静电剂、增粘剂、低分子量聚合物、表面润滑剂、流平剂、抗氧化剂、抗腐蚀剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、硅烷偶联剂、无机或有机的填充剂、金属粉、粒子状、箔状物等。
＜光学用表面保护膜的制作＞
上述光学用表面保护膜在上述聚酯膜的一面具有由上述粘合剂组合物形成而成的粘合剂层，此时，粘合剂组合物的交联通常在粘合剂组合物的涂布后进行，也可以将包含交联后的粘合剂组合物的粘合剂层转印于基材等。
另外，在聚酯膜上形成粘合剂层的方法没有特别限制，例如可以通过如下方式制作：将上述粘合剂组合物的溶液涂布于膜，并将聚合溶剂等干燥除去，从而在膜上形成粘合剂层。之后，也可以以粘合剂层的成分迁移的调整、交联反应的调整等为目的进行熟化。另外，在将粘合剂组合物涂布于聚酯膜上制备粘合剂层时，为了能够均匀涂布于膜上，可以在上述粘合剂组合物中新加入聚合溶剂以外的一种以上的溶剂。
另外，上述粘合剂层的形成方法可以使用用于制造粘合剂层的公知的方法。具体来说，例如可以举出：辊涂、凹版涂布、反转涂布、辊刷、喷涂、气刀涂布法、利用模涂机等的挤出涂布法等。
上述粘合剂层的厚度优选制作成3～100μm，更优选为5～50μm左右。若粘合剂层的厚度处于该范围内，则容易得到适度的再剥离性与粘合(粘接)性的平衡，因而优选。
＜间隔件＞
对于本发明的光学用表面保护膜，出于保护上述粘合剂层面的目的，在粘合剂层表面贴合间隔件。间隔件具备基材和脱模层。
＜基材＞
上述基材包括纸、塑料膜，从表面平滑性优异的方面出发，优选使用塑料膜。该膜只要是可保护上述粘合剂层的膜就没有特别限定，例如可以举出：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚氨酯膜、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述基材的厚度通常为5～200μm、优选为10～100μm左右。若处于该范围内，则对粘合剂层的贴合作业性和从粘合剂层的剥离作业性优异，因而优选。
对于上述基材，根据需要可以对其表面实施电晕放电处理等各种表面处理或者实施压花加工等各种表面加工。另外，根据需要可以配合填充剂(无机填充剂、有机填充剂等)、抗老化剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、抗静电剂、润滑剂、增塑剂、着色剂(颜料、染料等)等各种添加剂。
＜脱模层＞
上述脱模层由对上述基材具有密合性且对上述粘合剂层具有剥离性而且实质上不含硅酮系材料的脱模剂组合物形成。上述“实质上不含硅酮材料”是指，上述间隔件的脱模层的表面的在荧光x射线下的si－kα线强度(a)与上述间隔件的不具有脱模层的基材的表面(未处理面)的在荧光x射线下的si－kα线强度(b)之差[(b)－(a)]为0.3kcps以下。
上述脱模剂组合物中优选包含长链烷基系材料和/或脂肪族羧酸酯。从即便仅在脱模剂组合物中少量配合也可有效地得到剥离性，可得到由上述脱模层组合物形成的涂布层具有没有不均和白化等的外观的方面考虑，优选这些化合物。这些化合物可以是1种也可以并用2种以上。
＜长链烷基系材料＞
上述长链烷基系材料是指，具有碳数6以上、优选为8以上、进一步优选为12以上的直链或支链烷基的化合物。烷基例如可以举出辛基、癸基、月桂基、十八烷基、二十二烷基等。具有烷基的化合物例如可以举出：各种含长链烷基的高分子化合物、含长链烷基的胺化合物、含长链烷基的醚化合物、含长链烷基的季铵盐等。若考虑耐热性、污染性，则优选高分子化合物。另外，从可以以较少含量有效地得到适度防水性(撥水性)的观点出发，更优选在侧链具备长链烷基的高分子化合物。
在侧链具有长链烷基的高分子化合物可以举出：使包含含碳数为6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系单体的单体成分聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物；可以使具有反应性基团的高分子与可与该反应性基团反应的具有烷基的化合物反应而得到的聚合物等。上述反应性基团例如可以举出羟基、氨基、羧基、酸酐等。具有这些反应性基团的化合物例如可以举出：聚乙烯醇、缩丁醛树脂、乙烯－乙烯醇树脂、聚亚乙基亚胺、聚乙烯胺、含反应性基团的聚酯树脂、含反应性基团的聚(甲基)丙烯酸系树脂等。这些之中，若考虑脱模性能、易操作性，则优选(甲基)丙烯酸系聚合物、聚乙烯醇、缩丁醛树脂、乙烯乙烯醇树脂。
＜含碳数为6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系聚合物＞
上述使包含含碳数为6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系单体的单体成分聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物中，相对于构成该(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分总量，优选含有10～80重量％的上述含碳数6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系单体，更优选为20～70重量％，进一步优选为30～70重量％，最优选为30～60重量％。若处于该范围内，则所得脱模层对粘合剂层的轻剥离性优异。
除上述含碳数6以上的烷基的(甲基)丙烯酸系单体以外的其他聚合性单体例如可以适当使用：含羟基的(甲基)丙烯酸系单体、含羧基的(甲基)丙烯酸系单体、含氰基单体、乙烯基酯单体、芳香族乙烯基单体、含酰胺基单体、含酰亚胺基单体、含氨基单体、含环氧基单体、n－丙烯酰吗啉、乙烯基醚单体等。这些聚合性单体可以单独使用，或者也可以混合使用2种以上。
其中，从对粘合剂层的轻剥离性与对基材的密合性优异的方面出发，优选使用含羧基的(甲基)丙烯酸系单体和含氰基单体。含羧基的(甲基)丙烯酸系单体例如可以举出：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基丙基六氢邻苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基马来酸酯、羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯、2－(甲基)丙烯酰氧基乙基四氢邻苯二甲酸酯等。可以举出丙烯腈、甲基丙烯腈。含氰基单体例如可以举出：丙烯腈、甲基丙烯腈。
＜使具有反应性基团的高分子与可与该反应性基团反应的具有烷基的化合物反应而得到的聚合物＞
另外，上述的可与反应性基团反应的具有烷基的化合物例如可以举出：辛基异氰酸酯、癸基异氰酸酯、月桂基异氰酸酯、十八烷基异氰酸酯、二十二烷基异氰酸酯等含长链烷基的异氰酸酯；辛酰氯、癸酰氯、月桂酰氯、十八烷酰氯、二十二烷酰氯等含长链烷基的酰氯；含长链烷基的胺、含长链烷基的醇等。这些之中，若考虑脱模性能、易操作性，则优选含长链烷基的异氰酸酯，特别优选十八烷基异氰酸酯。
相对于上述具有反应性基团的高分子100重量份，优选使上述可与反应性基团反应的具有烷基的化合物100～1000重量份进行反应，更优选200～800重量份，进一步优选300～700重量份。若处于该范围，则可得到对粘合剂层的轻剥离性和抑制对光学用表面保护膜的粘合剂层的污染，因而优选。
＜脂肪族羧酸酯＞
上述脂肪族羧酸酯可以使脂肪族羧酸与醇发生反应而得到。上述脂肪族羧酸成分优选碳数6～36的单或二羧酸，更优选碳数6～36的脂肪族饱和单羧酸。这样的脂肪族羧酸的具体例可列举：棕榈酸、硬脂酸、戊酸、己酸、癸酸、月桂酸、花生酸、山萮酸、木蜡酸、蜡酸、蜂花酸、三十四酸(テトラリアコンタン酸)、褐煤酸、戊二酸、己二酸、壬二酸等。
另一方面，上述醇可以列举饱和或不饱和的一元醇、饱和或不饱和的多元醇等。这些醇可以具有氟原子、芳基等取代基。这些醇之中，优选碳数30以下的一元或多元的饱和醇，进一步优选碳数30以下的脂肪族饱和一元醇或多元醇。在此，脂肪族醇也包括脂环式醇。这些醇的具体例可列举：辛醇、癸醇、十二醇、硬脂醇、山嵛醇、乙二醇、二乙二醇、甘油、季戊四醇、2，2－二羟基全氟丙醇、新戊二醇、双三羟甲基丙烷、二季戊四醇等。这些脂肪族羧酸酯可以含有脂肪族羧酸和/或醇作为杂质，也可以是多种化合物的混合物。
上述脂肪族羧酸酯的具体例可以列举：蜂蜡(以软脂酸蜂花酯作为主要成分的混合物)、硬脂酸硬脂酯、山萮酸二十二烷酯、山萮酸辛基十二烷酯、甘油单棕榈酸酯、甘油单硬脂酸酯、甘油二硬脂酸酯、甘油三硬脂酸酯、季戊四醇单棕榈酸酯、季戊四醇单硬脂酸酯、季戊四醇二硬脂酸酯、季戊四醇三硬脂酸酯、季戊四醇四硬脂酸酯。
上述羧酸酯在脱模剂组合物中优选含有70～99重量％、更优选含有80～99重量％、进一步优选含有90～99重量％。若处于该范围，则从对粘合剂层的轻剥离性优异的方面出发，是优选的。
此外，上述脱模剂组合物可以含有其他公知的添加剂，根据使用用途可以适当添加例如抗静电剂、着色剂、颜料等粉体、表面活性剂、增塑剂、增粘剂、低分子量聚合物、表面润滑剂、流平剂、抗氧化剂、抗腐蚀剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、硅烷偶联剂、无机或有机的填充剂、金属粉、粒子状等。
＜间隔件的制作＞
上述间隔件是在上述基材上使用上述脱模剂组合物形成而成的。
在基材上形成脱模层的方法没有特别限制，例如可以通过将上述脱模剂组合物的溶液涂布于基材并将聚合溶剂等干燥除去而在基材上形成脱模层由此制作。之后，也可以以脱模层的成分迁移的调整等为目的进行熟化。另外，在将脱模剂组合物涂布于基材上制造脱模层时，为了可以均匀涂布于基材上，可以在上述脱模剂组合物中新加入聚合溶剂以外的一种以上的溶剂。
另外，上述脱模层的形成方法可以使用脱模层的制造中使用的公知的方法。具体来说，例如可以举出：辊涂、凹版涂布、反转涂布、辊刷、喷涂、气刀涂布法、利用模涂机等的挤出涂布法等。
上述脱模层的厚度典型而言为1～200nm，优选为5～100nm，更优选为10～50nm。若脱模层的厚度过小，则难以剥离间隔件，因此，贴合光学用表面保护膜的作业有可能变得困难。另一方面，若过厚，则有时对光学用表面保护膜的粘合剂层的污染性造成影响。
＜光学用表面保护膜与间隔件的贴合＞
本发明的带间隔件的光学用表面保护膜是将上述光学用表面保护膜的粘合剂层与上述间隔件的脱模层贴合而成的形态。贴合可使用公知的制造方法。
＜在荧光x射线下的si－kα线强度的测定＞
对于本发明的带间隔件的光学用表面保护膜而言，根据将贴合于光学用表面保护膜的上述间隔件剥离后的粘合剂层表面的在荧光x射线下的si－kα线强度，可以测定粘合剂层表面的硅原子量。上述粘合剂层表面的在荧光x射线下的si－kα线强度为2.5kcps以下，优选为2.4以下，更优选为2.2以下，最优选为2.0以下。若处于该范围，则在将间隔件被剥离后的光学用表面保护膜贴合于被粘物(例如玻璃板)后，在将其剥离时，可以减小因粘合剂层造成的被粘物的表面的污染的影响(例如可以抑制：间隔件的脱模层中为了提高剥离性而包含的聚二甲基硅氧烷之类的有机硅酮化合物由于间隔件与光学用表面保护膜的贴合而被转印至粘合剂层的表面，该转印的有机硅酮化合物进而被转印至被粘物)，因而优选。其结果，可以防止设置于被粘物的层间填充剂(层)等其他层的剥离。
＜粘合带的剥离力之差的测定＞
上述对被粘物的表面的污染的影响可以根据粘合带的剥离力之差进行测定。粘合带的剥离力之差可以通过式(1)：粘合带的剥离力之差(n/50mm)＝f0－f(n/50mm)求出。
此处，f是如下的剥离力，即：将剥离间隔件后的光学用表面保护膜贴合于作为被粘物的玻璃板，在70℃加热48小时后，在室温放置1小时后剥离光学用表面保护膜，在曾贴合光学用表面保护膜的玻璃板的表面，使用2kg的辊贴合日东电工株式会社制单面粘合带型号“no.31b”(宽19mm)，在23℃、50％rh的条件下经过20分钟，在剥离角度180°、拉伸速度0.3m/分钟下进行了剥离，将此时该粘合带的剥离力(n/19mm)换算为50mm宽的条件下的测定值而得的剥离力(n/50mm)。
另外，f0是如下剥离力，即：不在玻璃板贴合光学用表面保护膜，使用2kg的辊在玻璃板的表面直接贴合日东电工株式会社单面粘合带型号“no.31b”，在23℃、50％rh的条件下经过20分钟，在剥离角度180°、拉伸速度0.3m/分钟下进行了剥离，将此时的该粘合带的剥离力(n/19mm)换算为50mm宽的条件下的测定值而得的剥离力(n/50mm)。
上述粘合带的剥离力之差是与设置于剥离光学用表面保护膜后的光学部件上的其他层(例如层间填充剂(层))的密合性的指标，由此可以评价被粘物的表面的污染的程度。
上述粘合带的剥离力之差优选为4.0n/50mm以下，更优选为3.6n/50mm以下，更进一步优选为3.2n/mm以下，最优选为2.8n/mm以下。若处于该范围，则剥离光学用保护膜后的因粘合剂层造成的对被粘物表面的污染的影响小，可以防止设置于被粘物的层间填充剂(层)等其他层的剥离。
＜间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力的测定＞
对于本发明的带间隔件的光学用表面保护膜而言，将光学用表面保护膜与间隔件贴合，在23℃、50％rh条件下放置20分钟后，通过剥离角度180°、剥离速度0.3m/分钟的条件进行剥离，由此可以求出间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力。间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力为0.5n/50mm以下，优选为0.4n/50mm以下，更优选为0.3n/50mm以下，更进一步优选为0.2n/50mm以下，最优选为0.1n/50mm以下。另外，优选为0.03n/50mm以上，更优选为0.05n/50mm以上，进一步优选为0.08n/50mm以上。若处于该范围，则成为对上述粘合剂层的剥离性优异，而且贴合时的作业性优异的间隔件。
＜光学用表面保护膜的对玻璃的剥离力的测定＞
对于本发明的带间隔件的光学用表面保护膜而言，利用2kg的辊将剥离间隔件后的光学用表面保护膜贴合于玻璃板的表面后，在23℃、50％rh的条件下经过20分钟，利用剥离角度180°、拉伸速度0.3m/分钟的条件进行剥离，由此可以测定光学用表面保护膜的对玻璃的剥离力。上述光学用表面保护膜的对玻璃的剥离力优选为0.08n/25mm以下，优选为0.07n/25mm以下，更优选为0.06n/25mm以下，更进一步优选为0.05n/25mm以下，最优选为0.04n/25mm以下。另外，优选为0.01n/25mm以上，更优选为0.02n/25mm以上，进一步优选为0.03n/25mm以上。若处于该范围，则成为对玻璃等被粘物的剥离性优异的粘合剂层。
＜利用x射线光电子能谱法(esca)的硅原子的元素比率的测定＞
对于本发明的带间隔件的光学用表面保护膜而言，将贴合于光学用表面保护膜的上述间隔件剥离后，对粘合剂层表面利用x射线光电子能谱法进行测定，由此可以算出粘合剂层的最外表面的硅原子(si)的元素比率(原子％(atomic％))。上述粘合剂层的最外表面的硅原子(si)的元素比率(原子％)优选为0.5以下，更优选为0.3以下，最优选为0.2以下。若处于该范围，则在将剥离间隔件后的光学用表面保护膜贴合于被粘物(例如玻璃板)后，在将其剥离时，可以减小因粘合剂层造成的被粘物的表面的污染的影响(例如可以抑制：在间隔件的脱模层中为了提高剥离性而包含的聚二甲基硅氧烷之类的有机硅酮化合物由于间隔件与光学用表面保护膜的贴合而被转印至粘合剂层的表面，该转印的有机硅酮化合物进而被转印至被粘物)，因而优选。其结果，可以防止设置于被粘物的层间填充剂(层)等其他层的剥离。
在剥离本发明的上述光学用表面保护膜后设置于被粘物的其他层例如可以举出：层间填充剂(层)。上述层间填充剂(层)是指，例如用于填充保护玻璃与液晶面板之间而提高观察性的目的的物质，具体来说，可以举出：svr7000系列、svr1120、svr1150、svr1320、svr1241h(dexerials公司制)、worldrock700系列、worldrock801、a－350系列、worldrockhrj－40、hrj－203、hrj－300、hrj－302(协立化学产业公司制)等。
以下，对具体表示本发明的构成和效果的实施例等进行说明，本发明不限于此。需要说明的是，实施例等中的评价项目如下述进行测定。
＜实施例1＞
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(a1)的制备＞
在具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷却器的四口烧瓶中投入丙烯酸2－乙基己酯(2eha、东亚合成制、丙烯酸2－乙基己酯)100重量份、丙烯酸2－羟基乙酯(hea、东亚合成制、acrycshea)4重量份、作为聚合引发剂的2，2’－偶氮二异丁腈(和光纯药制、aibn)0.2重量份、乙酸乙酯(昭和电工制、乙酸乙酯)205重量份，一边缓慢进行搅拌一边导入氮气，将烧瓶内的液温保持在63℃附近进行约4小时聚合反应，制备了(甲基)丙烯酸系聚合物(a1)溶液(约35重量％)。上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a1)的重均分子量为65万，tg为－68.3℃。
＜粘合剂组合物的制备＞
将上述(甲基)丙烯酸系聚合物(a1)溶液(约35重量％)用乙酸乙酯稀释至29重量％，相对于该溶液的(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份(固体成分)，加入六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(日本聚氨酯工业社制，coronatehx)4重量份、作为锡系催化剂的月桂酸二辛基锡(tokyofinechemicals公司制、embilizerol－1)0.015重量份、作为发生酮－烯醇互变异构的化合物的乙酰丙酮0.69重量份，保持在25℃附近进行约1分钟混合搅拌，制备了粘合剂组合物(1)。
＜间隔件a的制作＞
将使缩丁醛树脂(积水化学工业制、s－leckw－10)干燥而得到的树脂100重量份溶于二甲苯(太阳化学制、キシロール)900重量份，接着加入十八烷基异氰酸酯(oharaparagiumchemical公司制、r－nco)480重量份。进而对该溶液用甲苯(出光石油化学制)进行使得固体成分达到0.3重量％的稀释，得到了脱模剂组合物。将该脱模剂组合物涂布于厚度38μm的pet膜(三菱树脂制、diafoilt100c38)，在130℃干燥1分钟，制作了间隔件a。脱模层的干燥后的厚度为20nm。
＜带间隔件的光学用表面保护膜的制作＞
将上述粘合剂组合物(1)涂布于pet基材(三菱树脂制、diafoilt100c38、厚度38μm)的一面，在130℃加热60秒钟，形成厚度10μm的粘合剂层，制作了光学用表面保护膜。接着，用手压辊在上述粘合剂层的表面贴合间隔件a的脱模层，制作了带间隔件的光学用表面保护膜。需要说明的是，对被粘物的贴合(使用)时，除去上述间隔件后使用。
＜间隔件b的制作＞
在具备冷却器的反应容器中加入丙烯腈(昭和电工株式会社制、丙烯腈)100重量份、甲基丙烯酸硬脂酯(三菱瓦斯化学株式会社制、sma)62.5重量份、甲基丙烯酸(三菱丽阳株式会社制、甲基丙烯酸)18重量份、1－十二烷硫醇(和光纯药株式会社制、1－十二烷硫醇)1.8重量份、过氧化苯甲酰(日油株式会社制、nyperbw)0.55重量份，利用甲苯(出光石油化学制)稀释至24重量％，在氮气流下于70℃反应7小时。将所得到的液体利用甲苯稀释至0.3重量％，得到了脱模剂组合物后，与间隔件a同样地制作了间隔件b。
＜间隔件c＞
使用东洋纺制的东洋纺酯膜tn101(厚度38μm)。构成间隔件c的脱模层由包含季戊四醇脂肪酸酯的脱模剂组合物形成。
＜间隔件d的制作＞
在具备冷却器的反应容器中加入二甲苯(太阳化学制、キシロール)200重量份、十八烷基异氰酸酯(oharaparagiumchemical公司制、r－nco)600重量份，一边搅拌一边进行加热，从二甲苯开始回流的时点起，一点一点地添加聚乙烯醇(kuraray制、kuraraypoval205)100重量份，该添加在2小时内每隔10分钟添加少量。聚乙烯醇的添加结束后，进而进行2小时的回流，结束反应。将反应混合物冷却至约80℃后，加入甲醇中，结果反应产物作为白色沉淀而析出，因而重复进行几次滤取该沉淀，加入二甲苯140重量份，进行加热使之完全溶解后，再加入甲醇使之沉淀的操作，然后，将沉淀用甲醇进行洗涤，将干燥粉碎而得到的粉末用水稀释至0.3重量％。使用所得到的溶液，与间隔件a同样地进行，制作了间隔件d。
＜间隔件e＞
使用了藤森工业制、filmbyna50e－0010nsd(厚度50μm)。构成间隔件e的脱模层由包含季戊四醇脂肪酸酯的脱模剂组合物形成。
＜间隔件f＞
加入硅酮脱模剂(信越化学工业制、ks－847h)100重量份、硅酮固化催化剂(信越化学工业制、cat－pl－50t)3.3重量份，利用甲苯(出光石油化学制)、己烷(丸善石油化学制、正己烷)、甲乙酮(出光兴产制、mek)以1：2：1的重量比而成的溶剂稀释至0.3重量％，得到了脱模剂组合物。使用所得到的脱模剂组合物，与间隔件a同样地制作了间隔件f。
＜实施例2～8、比较例1～3、空白1＞
如表1和2所示，改变构成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分、上述间隔件的处理，除此以外，以与实施例1同样的方法，制作了实施例2～8和比较例1～3的带间隔件的光学用表面保护膜。作为空白1，制作了不使用间隔件的光学用表面保护膜。需要说明的是，铁催化剂使用三(乙酰丙酮)合铁(日本化学产业社制，商品名“ナーセム第二鉄”)。
＜测定·评价＞
以下，记载具体的配合量和测定评价方法，其结果记载于表1和2。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的重均分子量(mw)的测定＞
所制作的聚合物的重均分子量利用gpc(凝胶渗透色谱)进行测定。以下示出条件。
装置：东曹社制、hlc－8220gpc
样品柱：东曹社制、tskguardcolumnsuperhz－h(1根)+tskgelsuperhzm－h(2根)
参比柱；东曹社制、tskgelsuperh－rc(1根)
流量：0.6ml/min
注入量：10μl
柱温度：40℃
洗脱液：thf
注入试样浓度：0.2重量％
检测器：差示折射计
需要说明的是，重均分子量通过聚苯乙烯换算算出。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物(a)的玻璃化转变温度(tg)的测定＞
对于玻璃化转变温度(tg)(℃)而言，基于各单体的均聚物的玻璃化转变温度tgn(℃)使用下述的文献值，通过下述式求出。
式：1/(tg+273)＝σ[wn/(tgn+273)]
(式中，tg(℃)表示共聚物的玻璃化转变温度，wn(－)表示各单体的重量分率，tgn(℃)表示基于各单体的均聚物的玻璃化转变温度，n表示各单体的种类。)
丙烯酸2－乙基己酯(2eha)：－70℃
丙烯酸羟乙酯(hea)：－15℃
丙烯酸4－羟基丁酯(hba)：－32℃
丙烯酸(aa)：106℃
需要说明的是，文献值参照“丙烯酸系树脂的合成·设计和新用途开发(アクリル樹脂の合成·設計と新用途開発)”(中央经营开发中心出版部发行)。
＜si－kα线强度的测定＞
根据从所得到的带间隔件的光学用表面保护膜剥离间隔件后的、粘合剂层表面的在荧光x射线下的si－kα线强度，利用以下的条件测定粘合剂层表面的硅原子量。
装置：rigaku制xrfzsx100e
x射线源：纵型rh管
分析面积：
分析元素：si
分光结晶：rx4
输出功率：50kv，70ma
对试样
另外，对于不使用间隔件的光学用表面保护膜(空白1)的粘合剂层表面，也利用上述的条件测定了在荧光x射线下的si－kα线强度。其结果，对于上述硅原子量而言，即便粘合剂层、脱模层中不使用硅酮系材料，也会检测到聚酯膜、基材的硅原子(例如pet膜中的填料的二氧化硅(sio2)等)，因此si－kα线强度不为0kcps，在不使用间隔件的光学用表面保护膜(空白1)的粘合剂层中为1.9kcps。
剥离上述间隔件后的、粘合剂层表面的si－kα线强度优选为2.5kcps以下。若处于该范围，则将剥离间隔件后的光学用表面保护膜从玻璃板剥离后的、因粘合剂层造成的玻璃的表面的污染的影响小(例如可抑制：间隔件的脱模层中为了提高剥离性而包含的聚二甲基硅氧烷之类的有机硅酮化合物由于间隔件与光学用表面保护膜的贴合而被转印至粘合剂层的表面，该转印的有机硅酮化合物进而被转印至被粘物)，因此可以防止例如层间填充剂(层)等其他层从被粘物剥离。
＜粘合带的剥离力之差的测定＞
从所得到的带间隔件的光学用表面保护膜剥离间隔件后贴合于玻璃板(松浪硝子制、蓝板磨边品(青板縁磨品)of1”)，在烘箱中在70℃加热48小时。从烘箱取出，在室温放置1小时后，剥离光学用表面保护膜，使用2kg的辊在曾贴合光学用表面保护膜的面贴合丙烯酸系粘合带(日东电工社制、no.31b、宽19mm)，在23℃、相对湿度50％的环境放置20分钟左右。利用0.3m/分钟的速度以180°的角度撕去，测定了剥离力，换算为50mm宽的条件下的测定值，将其作为下述式(1)的f的值。
另外，不贴合光学用表面保护膜，在玻璃板上直接贴合no.31b，同样地测定剥离力，换算为50mm宽的条件下的测定值，作为下述式(1)的f0的值。该情况下，no.31b的剥离力为18.7n/50mm。
然后，将这些粘合带的剥离力之差利用下述式(1)进行计算。
式(1)：粘合带的剥离力之差(n/50mm)＝f0－f(n/50mm)
上述粘合带剥离力之差优选为4.0n/50mm以下。该值越小，则剥离光学用保护膜后的、因粘合剂层造成的玻璃的表面的污染的影响小，例如可以防止设置于玻璃表面的层间填充剂(层)等其他层的剥离。
＜间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力的测定＞
将所得到的带间隔件的光学用表面保护膜切割成50mm宽，将与附着有粘合剂层的面相反的面(聚酯膜)固定于sus板(sus304ba)。在23℃、相对湿度50％的环境中放置20分钟左右后，将间隔件利用0.3m/分钟的速度以180°的角度撕去，测定了间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力(n/50mm)。
间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力优选为0.5n/50mm以下。若处于该范围，则成为对上述粘合剂层的剥离性优异，而且贴合时的作业性优异的间隔件。
＜间隔件剥离性的评价＞
对于间隔件剥离性的评价而言，将上述间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力为0.5n/50mm以下作为良好(○)，将大于0.5n/50mm作为不良(×)。
＜光学用表面保护膜的对玻璃的剥离力的测定＞
将所得到的带间隔件的光学用表面保护膜切割为25mm的宽度，剥离间隔件，使用2kg的辊贴合于玻璃板(松浪硝子制、蓝板磨边品(青板縁磨品)、of1)，在23℃、相对湿度50％的环境下放置20分钟左右。将光学用表面保护膜利用0.3m/分钟的速度以180°的角度撕去，测定了光学用表面保护膜的对玻璃的剥离力(n/25mm)。
上述光学用表面保护膜的对玻璃的剥离力优选为0.08n/25mm以下。若处于该范围，则成为具有对玻璃等被粘物的剥离性优异的粘合剂层的光学用保护膜。
＜利用x射线光电子能谱法(esca)的硅原子的元素比率的测定＞
根据从所得到的带间隔件的光学用表面保护膜剥离间隔件后的、粘合剂层表面的利用x射线光电子能谱法的测定，利用以下的条件算出粘合剂层的最外表面的硅原子(si)的元素比率。
装置：ulvacphi制phiquanterasxm
x射线源：单色alkα
xraysetting：
光电子提取角：相对于试样表面为45°。
适当切取所得到的带间隔件的光学用表面保护膜，进行x射线光电子能谱法的测定，针对硅原子算出元素比率(原子％)。
对于上述硅原子，元素比率优选为0.5原子％以下。若处于该范围，则将剥离间隔件后的光学用表面保护膜从玻璃板剥离后的、因粘合剂层造成的玻璃的表面的污染的影响小(例如可以抑制：间隔件的脱模层中为了提高剥离性而包含的聚二甲基硅氧烷之类的有机硅酮化合物由于间隔件与光学用表面保护膜的贴合而被转印至粘合剂层的表面，该转印的有机硅酮化合物进而被转印至被粘物)，因此例如可以防止层间填充剂(层)等其他层从被粘物剥离。
＜间隔件的脱模层的表面和间隔件的基材的表面的在荧光x射线下的si－kα线强度之差的测定＞
利用上述的si－kα线强度的测定的条件，对间隔件的脱模层的表面的在荧光x射线下的si－kα线强度(a)与间隔件的不具有脱模层的基材的表面(未处理面)的在荧光x射线下的si－kα线强度(b)进行测定，求出其差[(b)－(a)]。其结果，间隔件c的上述si－kα线强度(a)为3.78kcps，间隔件c的上述si－kα线强度(b)为3.98kcps，因而其差[(b)－(a)]为0.20kcps。另外，间隔件e的上述si－kα线强度(a)为6.52kcps，间隔件e的上述si－kα线强度(b)为6.73kcps，因而其差[(b)－(a)]为0.21kcps。另外，间隔件f的上述si－kα线强度(a)为75.5kcps，间隔件f的上述si－kα线强度(b)为7.36kcps，因而其差[(b)－(a)]为68.14kcps。
【表1】
【表2】
根据上述表2的结果，确认到在全部的实施例中，si－kα线强度为2.5kcps以下，因此耐污染性优异，此外，间隔件的对光学用表面保护膜的剥离力为0.5n/50mm以下，因此贴合时的作业性优异。与此相对，在比较例1和3中，si－kα线强度大于2.5kcps，在比较例2中，间隔件的对粘合剂层的剥离力大于0.5n/50mm，确认到比较例1～3相比于实施例，这些性能差。
此外，根据上述表2的结果，确认到在全部的实施例中，粘合带的剥离力之差为4.0n/50mm以下，因此剥离了光学用保护膜时的因粘合剂层造成的玻璃的表面的污染的影响小，因此可以防止例如层间填充剂(层)等其他层的剥离，并且，表面保护膜的对玻璃的剥离力为0.08n/25mm以下，因此对玻璃的剥离性优异。另外，间隔件剥离性良好。此外，粘合剂层的最外表面的硅原子(si)的元素比率为0.5原子％以下，因此确认到耐污染性优异。与此相对，在比较例1和3中，粘合带的剥离力之差大于4.0n/50mm，此外，粘合剂层的最外表面的硅原子的元素比率为2.0原子％以上，在比较例2中，光学用表面保护膜的对玻璃的剥离力大于0.08n/25mm，并且间隔件剥离性不良，确认到比较例1～3相比于实施例，这些性能差。
符号说明
1：间隔件
2：光学用表面保护膜
3：带间隔件的光学用表面保护膜
11：基材
12：脱模层
21：粘合剂层
22：聚酯膜