一种微米绒面料的制作方法

文档序号:16235299发布日期:2018-12-11 21:53阅读:2106来源:国知局
一种微米绒面料的制作方法

本实用新型涉及面料技术领域,具体涉及一种微米绒面料。



背景技术:

随着科学发展和社会进步,服装面料的科技含量越来越高,新型的服装面料应运而生;与此同时,人们穿着习惯也在不断改变,对面料要求更加柔软舒适有触感。

莫代尔纤维是一种纤维素纤维,与人棉一样同属纤维素纤维,是纯正的人造纤维。由产自欧洲的灌木林制成木质浆液后经过专门的纺丝工艺制作而成,莫代尔产品因为它本身具有的很好的柔软性和优良的吸湿性但其织物挺括性差的特点,现在基本大多用在内衣的生产。

但是夏天天气炎热,时间跨度长,普通莫代尔面料没有凉爽排汗功能,而且夏天很容易出汗,容易造成人体不适感,降低面料体验度。



技术实现要素:

为了克服现有技术中存在的缺点和不足,本实用新型的目的在于提供一种手感柔软舒适有触感、吸湿排汗效果好的微米绒面料。

本实用新型的目的通过下述技术方案实现:

一种微米绒面料,包括面料本体,所述面料本体由若干个最小花型循环编织组成,所述最小花型循环包括至少1个横路,所述横路穿棉盖丝,所述棉盖丝由涤纶纱和设在涤纶丝外侧的莫代尔棉,所述面料本体的正面通过蚀毛处理产生绒毛。

其中,所述莫代尔纱为40S/1莫代尔纱。

其中,所述涤纶纱为75D/36F涤纶纱。

其中,每个所述横路包括4个编织位,所述横路的编织位均为成圈单元。

其中,所述面料本体的上表面还依次复合有粘合剂层、纳米负离子粉层和防水涂层。

其中,所述粘合剂层为有机硅改性丙烯酸酯共聚物粘合剂层。

其中,所述负离子粉层为纳米电气石粉层,所述纳米电气石粉层中的纳米电气石粉的粒径为20-40nm。

其中,所述防水涂层为超支化聚氨酯防水涂层,所述超支化聚氨酯防水涂层的厚度为1.4-5.8μm。

本实用新型的有益效果在于:本实用新型利用莫代尔纱盖住涤纶纱形成棉盖丝,莫代尔纱构成面料本体的正面,并且通过蚀毛处理产生绒毛,使本实用新型的面料本体既具有绒毛的良好触感,涤纶纱构成面料本体的反面,使面料本体具有良好的吸湿排汗和亲肌凉肤性。

附图说明

图1是本实用新型的第一横路和第二横路的编织图;

图2是本实用新型的分层结构示意图;

附图标记为:1-面料本体、2-粘合剂层、3-纳米负离子粉层、4-防水涂层。

具体实施方式

为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例及附图1-2对本实用新型作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。

实施例1

如图1所示,一种微米绒面料,包括面料本体1,所述面料本体1由若干个最小花型循环编织组成,所述最小花型循环包括至少1个横路,所述横路穿棉盖丝,所述棉盖丝由涤纶纱和设在涤纶丝外侧的莫代尔棉,所述面料本体1的正面通过蚀毛处理产生绒毛。

本实用新型利用莫代尔纱盖住涤纶纱的外侧(即面料本体1的正面方向)形成棉盖丝,莫代尔纱构成面料本体1的正面,并且通过蚀毛处理产生绒毛,使本实用新型的面料本体1既具有绒毛的良好触感,涤纶纱构成面料本体1的反面,使面料本体1具有良好的吸湿排汗和亲肌凉肤性。

其中,所述莫代尔纱为40S/1莫代尔纱。

其中,所述涤纶纱为75D/36F涤纶纱。

通过限定使用的莫代尔纱和涤纶纱的规格参数,可以有效提高面料的弹性、透气性和抗断裂性等性能,也可以有效降低生产成本。

其中,每个所述横路包括4个编织位,所述横路的编织位均为成圈单元。

通过具体的编织结构设计可以提高面料结构的稳定性,纱线不易脱线或断裂。

其中,如图2所示,为了使本实用新型的面料还具有负离子发射功效,所述面料本体1的上表面还依次复合有粘合剂层2、纳米负离子粉层3和用于保护纳米负离子粉的防水涂层4。

其中,所述粘合剂层2为有机硅改性丙烯酸酯共聚物粘合剂层2。使用具有优良耐水性、耐磨性、耐候性和与织物粘结性好的有机硅改性丙烯酸酯共聚物粘合剂将负离子粉粘合在面料本体1上,负离子粉在面料本体1上分布均匀,不易脱落。

其中,所述负离子粉层为纳米电气石粉层,所述纳米电气石粉层中的纳米电气石粉的粒径为20-40nm。纳米电气石粉的粒径小于20nm,加工难度较大,粒径大于40nm,比表面积较少,负离子发射功效相对弱,为了使本实用新型达到最佳的使用效果:纳米电气石粉的粒径为30nm。

其中,所述防水涂层4为超支化聚氨酯防水涂层4,所述超支化聚氨酯防水涂层4的厚度为1.4-5.8μm。若厚度低于1.4μm,生成的涂层容易发生断裂,保护性较差,厚度高于5.8μm,过于影响织物的柔顺感和触感。为了使本实用新型达到最佳的使用效果:所述超支化聚氨酯防水涂层435的厚度为3.6μm。

上述实施例为本实用新型较佳的实现方案,除此之外,本实用新型还可以其它方式实现,在不脱离本实用新型构思的前提下任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。

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