导电薄膜的制作方法

文档序号:27561447发布日期:2021-11-25 09:28阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种导电薄膜(100),其特征在于,包括:薄膜基体(1)和两层外覆层,两层所述外覆层分别叠置于所述薄膜基体(1)的两侧,且所述外覆层包括朝远离所述薄膜基体(1)的方向依次叠置的低折射树脂硬化层(2)、高折射树脂层(3)、sio2层(4)、透明导电层(5),所述高折射树脂层(3)构造为厚度为h1且折射率为n1;其中,满足:30nm≤h1≤200nm,1.6≤n1≤1.8。2.根据权利要求1所述的导电薄膜(100),其特征在于,满足:70nm≤h1≤100nm,1.62≤n1≤1.65。3.根据权利要求1

2任一项所述的导电薄膜(100),其特征在于,所述低折射树脂硬化层(2)构造为厚度为h2且折射率为n2,满足:0.05μm≤h2≤2μm,0<n2≤1.6。4.根据权利要求3所述的导电薄膜(100),其特征在于,满足:0.8μm≤h2≤1.2μm,1.53<n2≤1.57。5.根据权利要求1

2任一项所述的导电薄膜(100),其特征在于,所述薄膜基体(1)的材料包括聚环烯烃pet,且所述薄膜基体(1)的折射率为n3,满足:0<n3≤1.6。6.根据权利要求5所述的导电薄膜(100),其特征在于,满足:1.55≤n3≤1.58。7.根据权利要求1

2任一项所述的导电薄膜(100),其特征在于,所述sio2层(4)的折射率为n4,厚度为h3,满足:0nm<h3≤35nm,1.4<n4≤1.6。8.根据权利要求1

2任一项所述的导电薄膜(100),其特征在于,所述透明导电层(5)的厚度为h4,满足:10nm<h4≤100nm。9.根据权利要求1

2任一项所述的导电薄膜(100),其特征在于,所述外覆层还包括金属层(6),所述金属层(6)叠置于所述透明导电层(5)背离所述薄膜基体(1)的一侧。10.根据权利要求9所述的导电薄膜(100),其特征在于,所述金属层(6)的厚度为h5,满足:20nm<h5≤500nm。

技术总结
本实用新型公开了一种导电薄膜,所述导电薄膜包括:薄膜基体和两层外覆层,两层所述外覆层分别叠置于所述薄膜基体的两侧,且所述外覆层包括朝远离所述薄膜基体的方向依次叠置的低折射树脂硬化层、高折射树脂层、SiO2层、透明导电层,所述高折射树脂层构造为厚度为h1且折射率为n1;其中,满足:30nm≤h1≤200nm,1.6≤n1≤1.8。本实用新型的导电薄膜,通过重新设计多层膜系结构,且调整膜系的厚度以及折射率,有效地解决了导电薄膜材料发蓝的问题,提升了导电薄膜的光学性能,利于提升用户的使用舒适性。舒适性。舒适性。


技术研发人员:谢峰
受保护的技术使用者:南昌欧菲显示科技有限公司
技术研发日:2020.09.25
技术公布日:2021/11/24
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