度oA?600A。在一个特别的实施例中，第一低折射率层 20的厚度为0人，也就是说，第一低折射率层20可以省略。
[0043] 第一高折射率层30的材料为Nb205。Nb2O5的折射率为2. 3。采用Nb 205作为第一 高折射率层30的材料，使得第一高折射率层30的透过率相对较低。
[0044] 第一高折射率层30的厚度可以为OA?1500A。在一个特别的实施例中，第一高 折射率层30的厚度为0A,也就是说，第一高折射率层30可以省略。
[0045] 第二低折射率层40的材料为Si02。SiO2的折射率为1. 48。采用SiO2作为第二低 折射率层40的材料，使得第二低折射率层40的透过率相对较高。
[0046] 第二低折射率层40的厚度为300A?2500A。
[0047] 第二高折射率层50的材料为Nb205。Nb2O 5的折射率为2. 3。采用Nb 205作为第二 高折射率层50的材料，使得第二高折射率层50的透过率相对较低。
[0048] 第二高折射率层50的厚度可以为20A?800A。
[0049] 第三低折射率层60的材料为Si02。SiO2的折射率为1. 48。采用SiO2作为第三低 折射率层60的材料，使得第三低折射率层60的透过率相对较高。
[0050] 第三低折射率层60的厚度为400A?1500A。
[0051] 第三高折射率层70的材料为Nb205。Nb2O 5的折射率为2. 3。采用Nb 205作为第三 高折射率层70的材料，使得第三高折射率层70的透过率相对较低。
[0052] 第三高折射率层70的厚度为OA?800A。在一个特别的实施例中，第三高折射率 层70的厚度为〇A，也就是说，第三高折射率层70可以省略。
[0053] 第四高硬度折射率层80的材料为Si3N4。Si 3N4的折射率为2. 0。采用Si 3N4作为 第四高硬度折射率层80的材料，使得第四高硬度折射率层80的反射率相对较高。
[0054] 第四高硬度折射率层8〇的厚度为50A?ioooA。
[0055] 这种半反半透玻璃，包括第一低折射率层20、第一高折射率层30、第二低折射率 层40、第二高折射率层50、第三低折射率层60、第三高折射率层70及第四高硬度折射率层 80,透过率高低结合的合适厚度的膜层结构，使得半反半透玻璃自身具有半反半透的性能， 在应用于盖板玻璃时，不需要额外粘贴半反半透光学膜，相对于传统的需要粘贴半反半透 光学膜的盖板玻璃，避免了 PET膜层的光吸收，在使用时视觉效果较好；第四高硬度折射率 层80的材料为氮化硅，氮化硅的维氏硬度为1720HV，且既不同酸反应、也不同碱反应，使得 在耐久性、耐摩擦性等方面更具有优势。
[0056] 具体的，这种半反半透玻璃应用到手机、平板电脑上时，可以做为OGS的触控面、 或GFF或GlF结构的保护盖板的触控面而用于手机、平板电脑。在手机、平板电脑待机时可 以作为镜子用，而点亮时背光源也无需太亮就可以对手机、平板电脑进行操作；也可以用于 手机、平板电脑后盖，可以用作镜子使用。同时，此类产品也可用于汽车后视镜，即可以在白 天观察后面交通情况、也可以避免夜间后面车辆远视灯照射过来的强光反射入驾驶者眼内 而造成强光干扰，避免交通事故的发生。
[0057] 上述半反半透玻璃的制备方法，包括如下步骤：
[0058] S10、提供玻璃基板10。
[0059] 玻璃基板10可以选择浮法玻璃或者其他本领域常规的玻璃。
[0060] 优选的，玻璃基板10的厚度为0. 3?3. 0mm，更优选为0. 55?I. 1mm。
[0061] 优选的，玻璃基板10的折射率为I. 52。
[0062] 优选的，先对玻璃基板10进行清洗并干燥。
[0063] S20、将清洗后的玻璃基板10表面依次磁控溅射沉积第一低折射率层20、第一高 折射率层30、第二低折射率层40、第二高折射率层50、第三低折射率层60、第三高折射率层 70及第四高硬度折射率层80,得到半反半透玻璃。
[0064] 第一低折射率层20的材料为Si02。SiO2的折射率为1. 48。采用SiO2作为第一低 折射率层20的材料，使得第一低折射率层20的透过率相对较高。
[0065] 第一低折射率层20的厚度OA?600A。在一个特别的实施例中，第一低折射率层 20的厚度为0A,也就是说，第一低折射率层20可以省略。
[0066] 具体在本实施方式中，磁控溅射制备第一低折射率层20的参数为：本底真空度为 0· 1?0· 005Pa，镀膜腔的真空度为0· IPa?0· 5Pa，功率为0?30Kw。
[0067] 第一高折射率层30的材料为Nb205。Nb2O 5的折射率为2. 3。采用Nb 205作为第一 高折射率层30的材料，使得第一高折射率层30的透过率相对较低。
[0068] 第一高折射率层30的厚度可以为OA?1500A。在一个特别的实施例中，第一高 折射率层30的厚度为〇A,也就是说，第一高折射率层30可以省略。
[0069] 具体在本实施方式中，磁控溅射制备第一高折射率层30的参数为：本底真空度为 0· 1?0· 005Pa，镀膜腔的真空度为0· IPa?0· 5Pa，功率为0?60Kw。
[0070] 第二低折射率层40的材料为Si02。SiO2的折射率为1. 48。采用SiO2作为第二低 折射率层40的材料，使得第二低折射率层40的透过率相对较高。
[0071] 第二低折射率层40的厚度为300A?2500A。
[0072] 具体在本实施方式中，磁控溅射制备第二低折射率层40的参数为：本底真空度为 0· 1?(λ 005Pa，镀膜腔的真空度为(λ IPa?(λ 5Pa，功率为15?60Kw。
[0073] 第二高折射率层50的材料为Nb205。Nb2O 5的折射率为2. 3。采用Nb 205作为第二 高折射率层50的材料，使得第二高折射率层50的透过率相对较低。
[0074] 第二高折射率层50的厚度可以为20人?800A。
[0075] 具体在本实施方式中，磁控溅射制备第二高折射率层50的参数为：本底真空度为 0· 1?0· 005Pa，镀膜腔的真空度为0· IPa?0· 5Pa，功率为2?30Kw。
[0076] 第三低折射率层60的材料为Si02。SiO2的折射率为1. 48。采用SiO2作为第三低 折射率层60的材料，使得第三低折射率层60的透过率相对较高。
[0077] 第三低折射率层60的厚度为400A?1500A。
[0078] 具体在本实施方式中，磁控溅射制备第三低折射率层60的参数为：本底真空度为 0· 1?0· 005Pa，镀膜腔的真空度为0· IPa?0· 5Pa，功率为20?60Kw。
[0079] 第三高折射率层70的材料为Nb205。Nb2O 5的折射率为2. 3。采用Nb 205作为第三 高折射率层70的材料，使得第三高折射率层70的透过率相对较低。
[0080] 第三高折射率层70的厚度为OA?800A。。在一个特别的实施例中，第三高折射率 层70的厚度为〇A，也就是说，第三高折射率层70可以省略。
[0081] 具体在本实施方式中，磁控溅射制备第三高折射率层70的参数为：本底真空度为 0· 1?0· 005Pa，镀膜腔的真空度为0· IPa?0· 5Pa，功率为0?30Kw。
[0082] 第四高硬度折射率层80的材料为Si3N4。Si 3N4的折射率为2. 0。采用Si 3N4作为 第四高硬度折射率层80的材料，使得第四高硬度折射率层80的透过率相对较高。
[0083] 第四高硬度折射率层80的厚度为50A?1000A。
[0084] 具体在本实施方式中，磁控溅射制备第四高硬度折射率层80的参数为：本底真空 度为0. 1?0. 005Pa，镀膜腔的真空度为0. IPa?0. 5Pa，功率为2?50Kw。
[0085] 上述半反半透玻璃的制备方法，工艺相对较简单，In-Line磁控派射设备或Batch Coater均可以批量量产。制备的半反半透玻璃，包括第一低折射率层、第一高折射率层、 第二低折射率层、第二高折射率层、第三低折射率层、第三高折射率层及第四高硬度折射率 层，透过率高低结合的合适厚度的膜层结构，使得半反半透玻璃自身具有半反半透的性能， 在应用于盖板玻璃时，不需要额外粘贴半反半透光学膜，相对于传统的需要粘贴半反半透 光学膜的盖板玻璃，避免了 PET膜层的光吸收，在使用时视觉效果较好，同时第四高硬度折 射率层的材料为Si3N4，使得半反半透玻璃在耐刮花、耐酸碱腐蚀、耐久性、耐摩擦性等方面 更具有优势。
[0086] 具