一种航天工程吸收气味和水分贴纸的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及航天工程配件技术领域，尤其是涉及一种航天工程吸收气味和水分贴纸。
【背景技术】
[0002]一直以来，航天工程的的飞行器必须保持绝对的密封环境，这就造成了在这个狭小的空间里各种电器、仪器等散发出的有害气体累积，而且人也会飘落出各种碎肩和小水珠，这些物质虽然很小但也会危害航天器的安全，并且人长期生活在这样的环境，很容易影响身体健康，所以设计一种简单方便可以经常更换的能够吸收航天飞行器有害气体、碎肩和小水珠的贴纸，就显得十分必要。
【发明内容】
[0003]针对上述现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种航天工程吸收气味和水分贴纸，利用表面的粘胶层能够粘附航天器空气中的各种碎肩，利用硅藻泥的有效吸附能力吸收有害气体和水分，同时利用活性碳的吸附性，可以有效吸收航天器密闭空间空气中的水珠和其它气体。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是:
[0005]一种航天工程吸收气味和水分贴纸，其特征在于:包括粘胶顶层、第一活性碳层、硅藻泥层、第二活性碳层、粘胶底层，所述粘胶顶层位于整个贴纸的最上面的第一层，所述第一活性碳层位于粘胶顶层下方，所述硅藻泥层位于第一活性碳层和第二活性碳层之间，所述第二活性碳层位于硅藻泥层下方，所述粘胶底层位于第二活性碳层下方，也就是整个贴纸的底层。
[0006]进一步的，所述粘胶顶层为不干胶材质组成。
[0007]进一步的，所述第一活性碳层为纤维状活性碳滤棉材质。
[0008]进一步的，所述硅藻泥层为原生态硅藻泥材质。
[0009]进一步的，所述第二活性碳层为纤维状活性碳滤棉材质。
[0010]进一步的，所述粘胶底层为不干胶材质组成。
[0011]采用上述技术方案后，本实用新型和现有技术相比所具有的优点是:
[0012]本实用新型设计的一种航天工程吸收气味和水分贴纸，其结构简单合理，成本低廉。能够有效吸收航天器密闭空间空气中的水珠和其它有害气体，使用一段时间后可以方便地撕拉下来更换新的贴纸。
【附图说明】
[0013]下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:
[0014]图1:本实用新型的结构示意图。
[0015]图中，1:粘胶顶层；2:第一活性碳层；3:硅藻泥层；4:第二活性碳层；5:粘胶底层。
【具体实施方式】
[0016]为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。下面参考图1详细描述本实用新型，见图1所示，一种航天工程吸收气味和水分贴纸，包括粘胶顶层1、第一活性碳层2、硅藻泥层3、第二活性碳层4、粘胶底层5，所述粘胶顶层I位于整个贴纸的最上面的第一层，所述第一活性碳层2位于粘胶顶层I下方，所述硅藻泥层3位于第一活性碳层2和第二活性碳层4之间，所述第二活性碳层4位于硅藻泥层3下方，所述粘胶底层5位于第二活性碳层4下方，也就是整个贴纸的底层。
[0017]首先航天工程吸收气味和水分贴纸可以在航天器还在地球的地面上没有发射航天器之前，也可以在航天器发射进入太空之后，安装在宇航员密闭空间的墙壁上。在安装航天工程吸收气味和水分贴纸前，先将要安装的航天器内表面清洁干净，然后对比相应粘贴部位的大小剪切下相应大小的航天工程吸收气味和水分贴纸，然后撕下粘胶底层的不干胶保护膜，将对应大小的航天工程吸收气味和水分贴纸粘贴在相应部位上，然后在粘胶顶层上施加压力使其粘贴牢固，最后撕下粘胶顶层的不干胶保护膜。当使用一段时间后，要更换航天工程吸收气味和水分贴纸时，可以用手将其一侧角边轻轻掀起，然后将其顺势全部撕下，清洁表面后则可以进行下一次粘贴过程。
【主权项】
1.一种航天工程吸收气味和水分贴纸，其特征在于:包括粘胶顶层、第一活性碳层、硅藻泥层、第二活性碳层、粘胶底层，所述粘胶顶层位于整个贴纸的最上面的第一层，所述第一活性碳层位于粘胶顶层下方，所述硅藻泥层位于第一活性碳层和第二活性碳层之间，所述第二活性碳层位于硅藻泥层下方，所述粘胶底层位于第二活性碳层下方，也就是整个贴纸的底层。
【专利摘要】本实用新型公开了一种航天工程吸收气味和水分贴纸，包括粘胶顶层、第一活性碳层、硅藻泥层、第二活性碳层、粘胶底层，所述粘胶顶层位于整个贴纸的最上面的第一层，所述第一活性碳层位于粘胶顶层下方，所述硅藻泥层位于第一活性碳层和第二活性碳层之间，所述第二活性碳层位于硅藻泥层下方，所述粘胶底层位于第二活性碳层下方，也就是整个贴纸的底层。本实用新型结构简单合理，成本低廉。能够有效吸收航天器密闭空间空气中的水珠和其它有害气体，使用一段时间后可以方便地撕拉下来更换新的贴纸。
【IPC分类】B01D53-26, B01D53-04, B32B9-04
【公开号】CN204547225
【申请号】CN201520192359
【发明人】李军
【申请人】李军
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年4月1日