[0031]此外，在屏蔽材料为铅时，轴线方向屏蔽厚度大于等于250_，垂直轴线方向屏蔽厚度大于等于214_，相对轴线方向45度角屏蔽厚度大于等于255_。
[0032]此外，通过在靶射线屏蔽的内部装有活块结构例如图3中所示出的射线出口缝活块，从而能够以通过更换活块的方式来实现X射线出口缝的宽度的更改。
[0033]此外，管射线屏蔽的结构为圆柱形并且加速器的加速管能够配置在其内部，用于屏蔽加速管内产生的X射线和靶产生的部分X射线。进而，管射线屏蔽包括与靶射线屏蔽相接配置的加速管前半段屏蔽、与加速管前半段屏蔽相接配置的加速管后半段屏蔽以及与加速管后半段屏蔽嵌合配置的尾部屏蔽。X射线出口屏蔽、靶射线屏蔽以及管射线屏蔽依次配置为整体，能够将6MeV电子直线加速器配置在由它们所包围的空间中。
[0034]根据上述的基于三维剂量蒙卡计算得到的三维剂量分布结果，使加速管前半段屏蔽是垂直轴线方向厚度大于等于84_的妈屏蔽或垂直轴线方向厚度大于等于120_的铅屏蔽，加速管后半段屏蔽是垂直轴线方向厚度大于等于100_的铅屏蔽，尾部屏蔽是厚度大于等于130mm的妈屏蔽或厚度大于等于180mm的铅屏蔽。
[0035]此外，X射线出口屏蔽主体为铅材料，用于屏蔽加速器X射线出口散射的X射线。主体结构的水平截面为梯形，底部宽度为大于等于75mm，顶部宽度为大于等于35mm，长度大于120mm，并且，出口开口大小比上述的X射线出口缝大7mm以上。
[0036]此外，功率源入口屏蔽主体为铅材料，用于屏蔽来自功率源入口的直射和散射的X射线。功率源入口屏蔽安装在管射线屏蔽的与功率源对应的位置，其侧面为厚度大于等于15mm的铅，S卩，除了必要的开口，四侧面都是厚度大于等于15mm的铅，顶部的铅的总厚度大于等于40mm。此外，为了方便安装和达到更好的屏蔽效果，如图3所示那样，根据功率源的结构特点将顶部的屏蔽分为三层，第一层紧贴管射线屏蔽的用于将功率源引入到其内部的开口，第二层根据需要确定位置，第三层为功率源入口迷宫。
[0037]如图2?4所示，X射线出口屏蔽、靶射线屏蔽、功率源入口屏蔽、管射线屏蔽以及尾部屏蔽依次配置为整体，能够将6MeV电子直线加速器配置在由它们所包围的空间中，从而很好地屏蔽来自6MeV电子直线加速器的X射线。
[0038]如上所述，根据本申请实用新型，加速器主体屏蔽结构得到优化，避免局部屏蔽过于偏厚或偏薄的情况；加速器屏蔽结构内活块的使用，方便加速器射线出口缝宽的更改，避免了整个加速器屏蔽结构的更换；X射线出口屏蔽结构的优化，有效地屏蔽出口散射射线对整系统的辐射水平的影响；功率源入口屏蔽的使用，对整个加速器屏蔽的薄弱环节进行了加强，能有效减少、甚至取消额外附加屏蔽的应用。
[0039]此外，本实用新型不限于6MeV电子直线加速器，也可以用于其它能量或其他类型的加速器，只要能够利用蒙卡方法得到加速器X射线在屏蔽体内的三维剂量分布，就可以应用本实用新型，并且得到相应的屏蔽装置。
[0040]以上对6MeV电子直线加速器的屏蔽装置的结构以及各部分的具体数据进行了说明，但是，并不限于此，能够根据需要来设定屏蔽装置的各部分的屏蔽厚度。此外，屏蔽装置的各部分的形状和材料也不限于以上所说明的形状，只要能够符合对X射线进行屏蔽的要求，也可以是其它形状和其他材料。
【主权项】
1.一种电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于， 具备:靶射线屏蔽，用于屏蔽所述加速器的靶所产生的X射线，外形为圆柱形并且所述加速器的前端能够配置在其内部，并且，在内部装有具有使来自所述加速器的X射线出射的X射线出口缝的活块。2.如权利要求1所述的电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于，还具备: 管射线屏蔽，用于屏蔽所述加速器的加速管内产生的X射线以及靶所产生的部分X射线，外形为圆柱形并且所述加速器的加速管能够配置在其内部； X射线出口屏蔽，配置在所述靶射线屏蔽的前端，具有比所述X射线出口缝大的出口开P ;以及 功率源入口屏蔽，安装在所述管射线屏蔽的与功率源对应的位置，用于屏蔽来自功率源入口的直射和散射的X射线， 所述X射线出口屏蔽、所述靶射线屏蔽以及所述管射线屏蔽依次配置为整体，能够将所述电子直线加速器配置在由它们所包围的空间中。3.如权利要求1或2所述的电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于， 所述活块是以能够拆卸的方式安装在所述靶射线屏蔽内部的。4.如权利要求3所述的电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于， 所述管射线屏蔽包括:加速管前半段屏蔽，与所述靶射线屏蔽相接配置；加速管后半段屏蔽，与所述加速管前半段屏蔽相接配置；尾部屏蔽，与所述加速管后半段屏蔽嵌合配置。5.如权利要求4所述的电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于， 所述革G射线屏蔽的材料为妈，其轴线方向屏蔽厚度大于等于160_，垂直轴线方向屏蔽厚度大于等于140_，相对轴线方向45度角屏蔽厚度大于等于170_。6.如权利要求4所述的电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于， 所述革G射线屏蔽的材料为铅，其轴线方向屏蔽厚度大于等于250_，垂直轴线方向屏蔽厚度大于等于214_，相对轴线方向45度角屏蔽厚度大于等于255_。7.如权利要求4?6的任意一项所述的电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于， 所述加速管前半段屏蔽是垂直轴线方向厚度大于等于84_的钨屏蔽或者垂直轴线方向厚度大于等于120_的铅屏蔽， 所述加速管后半段屏蔽是垂直轴线方向厚度大于等于100_的铅屏蔽， 所述尾部屏蔽是厚度大于等于130_的妈屏蔽或者厚度大于等于180_的铅屏蔽。8.如权利要求4?6的任意一项所述的电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于， 所述X射线出口屏蔽的材料为铅，并且，其主体结构截面为梯形，底部宽度大于等于75mm，顶部大于等于35mm，长度大于等于120mm， 所述出口开口比所述X射线出口缝大7mm以上。9.如权利要求4?6的任意一项所述的电子直线加速器的屏蔽装置，其特征在于， 所述功率源入口屏蔽的材料为铅，侧面的厚度大于等于15mm，顶部总厚度大于等于40mm ο
【专利摘要】本实用新型提供电子直线加速器的屏蔽装置，电子直线加速器的屏蔽装置具备：靶射线屏蔽，所述加速器的前端能配置在其内部，在内部装有具有X射线出口缝的活块。还具备：管射线屏蔽，所述加速器的加速管能配置在其内部；X射线出口屏蔽，配置在所述靶射线屏蔽的前端，具有比所述X射线出口缝大的出口开口；功率源入口屏蔽，安装在所述管射线屏蔽的与功率源对应的位置，所述X射线出口屏蔽、所述靶射线屏蔽及所述管射线屏蔽依次配置为整体，能将所述电子直线加速器配置在由它们包围的空间。本实用新型能避免局部屏蔽偏厚或偏薄，有效减少甚至取消额外附加屏蔽。
【IPC分类】G21F1/00, G21F7/00
【公开号】CN204884593
【申请号】CN201420802798
【发明人】邓艳丽, 苗齐田, 李君利, 朱国平, 胡玉新, 明申金, 黄铭
【申请人】清华大学, 同方威视技术股份有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2014年12月18日