全背场扩散n型硅基电池及其制备方法

文档序号:9889994阅读:330来源:国知局
全背场扩散n型硅基电池及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及太阳电池领域,尤其是一种全背场扩散N型娃基电池及其制备方法。
【背景技术】
[0002] 目前,在太阳电池效率市场要求越来越高的形势下,N型电池作为高效电池的重要 解决切入点,越来越受到重视和普及。
[0003] N型电池较常规电池主要优势是可W大幅提高电池体寿命,由于没有B-0复合的影 响,光致衰减可W忽略不计。目前国内普遍采用BBr3液态源管式扩散方法,由于液态源管式 扩散法有如下通病:1,由于管式气流基本为炉尾进气,因此各个溫区的方阻情况容易产生 差异,影响产线质量管控;2,管式扩散的片间距的问题,导致娃片中屯、和边缘的棚源沉积量 有较大差异,从而导致片内均匀性无法达到较好的一致性,减少金属化工艺窗口; 3,管式 BBr3棚扩散在常规的单面扩散中背面经常会由于气态扩散的原因,产生了B扩散结区,在后 道很难去除,影响后道憐扩散,W及电池的效率和漏电情况。旋涂+推进的棚扩散方式则没 有相关问题。

【发明内容】

[0004] 本发明要解决的技术问题是:提出一种全背场扩散N型娃基电池及其制备方法,具 有较高的转化效率,在不增加了生产成本条件下,充分使用原有的P型电池生产设备,产出 了较低漏电,并且高效的电池。
[0005] 本发明所采用的技术方案为:一种全背场扩散N型娃基电池,包括N型娃基本体,所 述的N型娃基本体的正面自下而上依次设置有正面憐扩散n+层、正面氧纯化层、W及正面减 反射层;正面银电极穿透设置在正面憐扩散n+层、正面氧纯化层、W及正面减反射层之间; 所述的N型娃基本体的背面自上而下依次设置有棚扩散P+层、背面氧纯化层、背面保护层W 及侣背场;所述的棚扩散P+层上具有由于激光开槽和侣厂烧结造成的P+层扩大区域;N型娃 基电池的PN结设置于N型娃基本体的背面;所述的侣背场上设置有背面银电极W及激光开 孔部分的侣背场填充区域。
[0006] 进一步的说,本发明所述的背面保护层为Si化保护层。
[0007] 同时,本发明还提出一种全背场扩散N型娃基电池的制备方法,包括W下步骤:
[000引1)双面抛光:选择N型单晶原娃片,用过氧化氨和氨水按照体积比6:1组成的混合 液经稀释后在50~80°C中处理3~lOmin,去除娃片表面机械损伤层;将上述处理后娃片用 质量浓度为1.6~2.0%、溫度在50~70°C的碱性溶液及抛光液进行腐蚀反应,然后用氨氣 酸稀释液清洗,最后得到表面光洁,显微镜下可W看到晶格在15ymW上的抛光面;
[0009] 2)背面制结:在经过抛光处理的娃片的背面,通过旋涂含有棚源的液体,并烘干; 并在有氧条件下,在800-110(TC的溫度下进行推进,渗杂形成n+扩散层,扩散后方阻在30~ 140ohm/sq;
[0010] 3)正面结和边缘处理:在链式氨氣酸和硝酸混合液上方,将扩散后的正面向下漂 浮经过,处理干净正面氧化层,w及边缘可能造成漏电的结区;链式氨氣酸和硝酸的体积比 为 1:4 ~1:6;
[0011] 4)正面制绒:用过氧化氨和氨水按照体积比6:1组成的混合液经稀释后在60~80 C中预处理3~lOmin,去除娃片表面机械损伤层;将上述处理后娃片用质量浓度为1.6~ 2.0%、溫度在70~90°C的TMHA有机碱溶液及制绒添加剂进行腐蚀反应,最后得到金字塔形 状的绒面结构;然后用盐酸和水稀释液清洗;
[0012] 5)憐扩散:使用管式P0C13憐扩散,扩散溫度在700-820°C之间,推进溫度在820- 850°C之间,方阻在60-140ohm/sq之间;
[0013] 6)去BSG和PSG:使用氨氣酸稀释液去除BSG和PSG,氨氣酸质量浓度为1-10%,清洗 时间为2-lOmin;
[0014] 7)纯化:使用AlOx或热生长氧化娃完成正反面纯化;
[0015] 8)背面锻膜:使用Si化在背面80-300nm的厚度进行保护背面纯化层;
[0016] 9)正面锻减反射膜:采用PECV的受备沉积优化后的氮化娃和氮氧化娃减反射层;
[0017] 10)背面激光开膜:使用激光在背面开出宽为20-200um的线图形,或点图形,或线 段图形。
[0018] 本发明采用了旋涂和背面酸洗技术的结合,避免了采用液态B扩散技术存在着扩 散溫度过高(950~ΙΟΟΟΓ),扩散均匀性差,表面渗杂浓度低不易形成很好的电极接触等诸 多问题。棚旋涂扩散,结合硝酸和氨氣酸的单面酸洗,极大的降低了正面棚憐共渗杂的风 险,因此制备好的电池漏电情况较常规Ν型电池小1-2个数量级。另外Α1烧结技术在Ρ型晶体 娃电池中被广泛应用于形成侣背场,是产业化中非常成熟的技术。丝网印刷机和高溫烧结 炉都是目前Ρ型晶体娃电池生产所采用的设备,因此和目前生产线具有完全的兼容性。常规 的丝网印刷优化技术,W及诸如高数量主栅图形,W及二次印刷等相关技术等完全可W兼 容。
[0019] 本发明的有益效果是:ρη结靠近背面,金属电极和纯化层有较高的光电转化效率; Ν型电池片开路电压和短路电流均较常规Ν型电池高出较多,电池转换效率高,完全符合市 场大功率组件的要求;同时由于其制备工艺简单易行,和原有的Ρ型晶娃电池流程兼容,并 不用造成设备浪费,适合大规模工业生产。
【附图说明】
[0020] 下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
[0021 ]图1是本发明的优选实施例的结构示意图;
[0022] 图中:1.正面银电极,2.正面减反射层,3.正面氧纯化层,4.正面憐扩散η+层,5. η 型娃基,6.棚扩散Ρ+层,7.背面氧纯化层,8.背面SiNx保护层,9.侣背场,10.激光开孔部分 的侣背场填充区域,11.背面银电极,12.由于激光开槽和侣厂烧结造成的P+层扩大区域。
【具体实施方式】
[0023] 现在结合附图和优选实施例对本发明作进一步详细的说明。运些附图均为简化的 示意图,仅W示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成。
[0024] 如图1所示,一种全背场扩散N型娃基电池,包括N型娃基本体,N型娃基本体的正面 自下而上依次设置有正面憐扩散n+层、正面氧纯化层、W及正面减反射层;正面银电极穿透 设置在正面憐扩散n+层、正面氧纯化层、W及正面减反射层之间;N型娃基本体的背面自上 而下依次设置有棚扩散P+层、背面氧纯化层、背面Si化保护层W及侣背场;棚扩散P+层上具 有由于激光开槽和侣厂烧结造成的P+层扩大区域;N型娃基电池的PN结设置于N型娃基本体 的背面;侣背场上设置有背面银电极W及激光开孔部分的侣背场填充区域。
[0025]具体的制备方法包括W下步骤:
[00%] 1)双面抛光:将原始娃片预处理抛光,采用K0H抛光;选择N型单晶原娃片,用过氧 化氨和氨水按照体积比6
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