专利名称：一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水及其制备方法
技术领域：
本发明涉及杀菌消毒领域，特别涉及一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水及其制备方法。
背景技术：
消毒领域中引入氧化还原电位的概念是源于日本20世纪80年代研制生产的酸性氧化电位水生成机及由生成机产生的酸性氧化电位水。酸性氧化电位水(简称E0W)是指具有高氧化还原电位(ORP)、低pH值特性和低浓度有效氯(ACC)的水。酸性氧化电位水杀菌的机理如下首先，自然界中大多数种类的微生物生活在pH 4-9的环境中，而酸性氧化电位水的PH值可影响微生物生物膜上的电荷以及养料的吸收、酶的活性，并改变环境中养料的可给性或有害物质的毒性，从而快速杀灭微生物。其次，由于氢离子、钾离子、钠离子等在微生物生物膜内外的分布不同，使得膜内、外电位达到动态平衡时有一定的电位差，一般约为-700 +900mV。需氧细菌的生物膜内外的电位差一般为+200 +800mV,而厌氧细菌的生物膜内外的电位差一般为-700 +200mV。酸性氧化电位水中的氧化、还原物质和pH等因素，使其ORP高于IlOOmV,超出了微生物的生存范围。具有高ORP (即ORP > IlOOmV)的EOW接触微生物后迅速夺取电子，干扰生物膜平衡，改变生物膜内外电位差、膜内外的渗透压，导致生物膜通透性增强、细胞肿胀及细胞代谢酶的破坏，使胞内物质溢出、溶解，从而快速杀灭微生物。最后，有效氯能使细胞的通透性发生改变，或使生物膜发生机械性破裂，促使细胞内溶物向外渗出，致使细菌死亡。并且，次氯酸为中性小分子物质，易侵入细胞内与蛋白质发生氧化作用或破坏其磷酸脱氢酶，使糖代谢失调致使细菌死亡，从而快速杀灭微生物。EOW系统的杀菌能力是以ACC为主导，低pH值及高ORP为重要促进的三者协同作用的结果。该系统协同效果远高于单一的ACC、低pH值及高ORP作用的简单加和，其ACC越高、PH值越低、ORP越高，系统综合灭菌效果就越好。但是，现有的酸性氧化电位杀菌水具有普遍的金属腐蚀性。
发明内容
本发明的第一目的在于提供一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，以解决现有技术中的酸性氧化电位杀菌水具有普遍的金属腐蚀性的技术性问题。本发明的第二目的在于提供一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水，以解决现有技术中的酸性氧化电位杀菌水具有普遍的金属腐蚀性的技术性问题。本发明目的通过以下技术方案实现一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，包括以下步骤(I)提供pH调节剂A单元；(2)提供有效氯提供单元B单元；
(3)将所述A单元与所述B单元混合，得到强氧化性溶液，所述强氧化性溶液的pH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3_5000mg/L，其总铜的含量不高于 2000mg/L。优选地，所述强氧化性溶液中的总铜主要包括二价铜、一价铜和零价铜中的一种或者几种。优选地，在步骤(I)中还包括对所述A单元进行去除部分铜的预处理。优选地，在步骤⑵中还包括对所述B单元进行去除部分铜的预处理。优选地，在步骤(3)中还包括对所述A单元与所述B单元混合后的混合液进行去除部分铜的后处理。 优选地，对所述A单元进行去除部分铜的预处理的方法可选自加入失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种。优选地，对所述B单元进行去除部分铜的预处理的方法可选自加入失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种。优选地，所述对A单元与B单元混合后的混合液进行去除部分铜的后处理的方法可选自加入失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种。优选地，所述去除部分铜的处理方式为快速处理方式，或低温条件下处理，或将B单元离子型有效氯转为分子型有效氯；或将离子铜转为非离子性衍生物，使之与离子型有效成分区分，去除目的性杂质铜后，再恢复至有效氯的稳定形态。优选地，所述A单元为酸性或弱碱性。优选地，所述B单元含有液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质中的一种或几种，所述有效氯前体物质是指与酸或者水反应可以生成有效氯的含氯物质。优选地，所述B单元为中性或者碱性。一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水，包括使用前独立分装的A单元和B单元，所述A单元为PH调节剂；所述B单元为有效氯提供单元，所述A单元与所述B单元混合后得到强氧化性溶液，所述强氧化性溶液的PH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3-5000mg/L，其总铜的含量不高于2000mg/L。优选地，所述强氧化性溶液中的总铜主要包括二价铜、一价铜和零价铜中的一种或者几种。优选地，所述B单元含有液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质中的一种或几种，所述有效氯前体物质是指与酸或者水反应可以生成有效氯的含氯物质。优选地,所述B单元为中性或者碱性。一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水，所述杀菌水的pH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3-5000mg/L，其总铜的含量不高于2000mg/L。优选地，所述杀菌水中的总铜主要包括二价铜、一价铜和零价铜中的一种或者几种。优选地，所述杀菌水中含有无机酸、有机酸、无机碱、有机碱、强酸弱碱盐、强碱弱酸盐、弱酸弱碱盐或者强酸强碱盐的一种或者几种。
优选地，所述杀菌水中的有效氯由液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质的一种或几种生成，所述有效氯前体物质是指与酸或者水反应可以生成有效氯的含氯物质。与现有的酸性氧化电位杀菌水相比，本发明有以下优点1、本发明的氧化电位杀菌水可降低对金属的腐蚀性，从而扩大了应用范围；2、在使用前，本发明的氧化电位杀菌水的A单元和B单元单独存放，当要使用时，再将A单元和B单元混合，解决了氧化电位杀菌水的储藏问题，使用非常方便；3、在制备本发明的氧化电位杀菌水的过程中，增强了人为可调节性，可根据实际需求调节杀菌水的PH值、有效氯含量及氧化还原电位。
图1为PH = 2. 0-8. O的环境中，pH/ 二价铜对铜的腐蚀效果示意图；图2-3为pH = 2. 0-8. O的氧化性环境中，有效氯与二价铜协同作用对铜的腐蚀效果的不意图；图4-5为pH = 2. 0-8. O的氧化性环境中，pH与二价铜协同作用对铜的腐蚀效果的不意图；图6-9为pH = 2. 0-8. O的氧化性环境中，不同价态的铜对铜的腐蚀效果的示意图；图10-13为pH = 2. 0-8. O的氧化性环境中，不同组成的总铜对铜的腐蚀效果的示意图；图14为pH = 2. 0-8. O的氧化性环境中，不同的A、B单元的混合方式对铜的腐蚀性的关系示意图。
具体实施例方式以下对本发明进行详细描述。目前，针对酸性氧化电位杀菌水对金属的腐蚀性已经展开了初步研究，已公布的结果显示酸性氧化电位水具有普遍的金属腐蚀性。但是对其腐蚀的机理的研究并没有进行，其腐蚀性通常被认为是过酸酸性(PH2-3)引起的，甚至认为近中性氧化电位水可以避免金属腐蚀。已公布的结果显示酸性氧化电位水，对不锈钢基本无腐蚀至轻度腐蚀，对碳钢、铜、铝中度至严重腐蚀，其结论的差异很大。酸性氧化电位水对金属的腐蚀主要是三方面因素造成，一是体系酸性，氢离子与活泼金属(铁、镁、锌等)的置换氢气反应；二是体系的氧化性(有效氯)；三是体系中其它离子的影响。但是酸性与氧化性是酸性氧化电位水的理化特质，也是杀菌性能的决定因素，因此，在一定意义上，杀菌性能与金属的腐蚀性是共存的矛盾体。与电解法相比，化学法制备氧化电位溶液，通过计算即可控制溶液中的组分含量，其A、B单元的物质来源范围更广泛。但是也造成了溶液中引入的杂质的来源更为复杂。以下重点讨论总铜及二价铜在pH = 2-8的氧化性环境中的腐蚀性。所述二价铜是指化学价态为正2价的所有形态的铜的总和。所述总铜是指各种化学价态的所有形态的铜的总和。
化学法制备氧化电位溶液，体系中铜的引入主要有三种途径，其一，所使用的酸碱调节剂及有效氯中本身含有或者产生铜元素，如氯化铜或者次氯酸铜或者氢氧化铜等；其二，所使用原料中夹带含铜杂质；其三，含铜的其他作用的组份，如增稠剂、稳定剂、强化剂
坐寸ο二价铜对铜的腐蚀通过如下基本方式进行，Cu2++Cu = 2 Cu+-1Cu++[O] = Cu2++e-2
在常温、中性及非氧化性溶液中，反应2的进行是缓慢的，上述系列反应可以理解为单纯二价铜的腐蚀效果取决于二价铜的初始含量(反应I)，当二价铜消耗尽时，腐蚀过程结束。二价铜的含量相对稳定时，其腐蚀效果变化不大，或者随着反应2的缓慢进行腐蚀效果缓慢增强。在氧化电位水中，有效氯的引入及低pH的环境，加速了反应2的进行，促进了金属与二价铜的直接产物一价铜重新转变为二价铜，减少了二价铜的降低，从而使体系中二价铜的含量在对铜腐蚀的过程中保持持续增加状态，进而加剧了反应I进行。由上可知，含二价铜的氧化电位水，二价铜与氢离子及有效氯相互作用，极大的影响了体系对金属的腐蚀性。同时可知，一价铜或者零价铜(或者总铜中的一价铜、零价铜)在稳定的环境中是没有腐蚀性的，但是在PH = 2-8的氧化性环境中，一价铜不断转变为二价铜(反应2)，并与二价铜形成动态的、平衡的共存体；零价铜也同时存在被氧化为二价铜的趋势。因此，一价铜及零价铜的腐蚀性实际取决于生成二价铜的量，即转变的速率及转化的量。由此也可以知道，总铜的腐蚀性实际为二价铜所决定。所以在总铜含量相同的情况下，总铜的腐蚀活性从大到小顺序为，100% 二价铜组成的总铜 > 不同比例的零价铜、一价铜、二价铜组成的总铜；又由于一价铜转化为二价铜的趋势远远大于零价铜的转化趋势，所以100%二价铜组成的总铜> 100%—价铜组成的总铜> 100%零价铜组成的总铜；100%—价铜组成的总铜>不同比例的一价铜与零价铜组成的总铜> 100%零价铜组成的总铜。由于一价铜、零价铜本身并不具有腐蚀性，且一价铜在氧化性环境中不断衰减，因此以二价铜的含量或者总铜的含量表示具有催化腐蚀性的铜更为方便与准确。请参阅图1，图中显示pH = 2-8的体系中，氢离子浓度的上升，使体系对金属的腐蚀性有所上升。同时可见，二价铜的加入及含量上升，增加了体系对金属的腐蚀性。同时可见，氢离子与二价铜协同作用，增强了体系对金属的腐蚀性。请参阅图2-图3，图中显示pH = 2-8的氧化性(含ACC)体系中，二价铜与有效氯协同作用，影响了体系对金属的腐蚀性，使体系对金属腐蚀性产生突跃。其中，不同的有效氯含量(3-5000ppm), 二价铜的浓度> 2000ppm时,均会产生对金属腐蚀性的突跃。同时可知，有效氯的降低，降低了体系对金属的腐蚀，而且降低了突跃显著性。请参阅图4-图5，图中显示pH = 2-8的氧化性(含ACC)体系中，二价铜与氢离子协同作用，影响了体系对金属的腐蚀性，使体系对金属腐蚀性产生突跃。其中，PH2-8的范围内，二价铜的浓度> 2000ppm时，均会产生对金属腐蚀性的突跃。同时可知，酸性的降低，降低了体系对金属的腐蚀，而且降低了突跃显著性。比较图1-图5可得出结论，在pH = 2-8的范围内，控制二价铜含量在0_2000ppm及有效氯含量在3-5000ppm，可以控制或者降低氧化电位杀菌水的金属腐蚀性。化学法配制氧化电位杀菌水，涉及铜的形态及价态有多种，如以形态分类，则包括氧化铜、游离铜离子、难溶性铜盐，以化合价分类，则包括零价铜、一价铜、二价铜。请参阅图6-图9，图中显示pH = 2-8的氧化性(含ACC)体系中，有效氯(3-5000ppm)与不同价态的铜协同作用，对金属的腐蚀活性产生相似的特性。铜含量的增大，使体系对金属腐蚀性产生突跃。其腐蚀活性从大至小的顺序为二价铜>一价铜>零价铜。其中，二价铜的腐蚀活性最强，其产生腐蚀性突跃的浓度最低(2000ppm)。其它价态的铜，随着活性降低，腐蚀活性降低或者突跃所需的浓度增大(> 2000ppm)。
请参阅图10-图13，图中显示pH = 2-8的氧化性(含ACC)体系中，有效氯(3-5000ppm)与不同组成的总铜协同作用，对金属的腐蚀活性产生相似的特性。总铜含量的增大，使体系对金属腐蚀性产生突跃。不同组成的总铜具有不同的腐蚀活性，其中，二价铜的腐蚀活性最强，因此完全由二价铜组成的总铜的腐蚀性突跃的浓度最低(2000ppm)，相同含量下，其腐蚀性大于含有其他价态的铜的总铜。比较图1-图5可知，当控制二价铜含量(0-2000ppm)及有效氯含量(3-5000ppm)可以控制或降低氧化电位杀菌水的金属腐蚀性时，那么比较图6-图13，控制总铜含量在
0-2000ppm及有效氯含量在3-5000ppm,同样可以控制或降低氧化电位杀菌水的金属腐蚀性。我们知道，游离氯气或者其衍生物可以增强体系的氧化性及杀菌性能。将A单元加入B单元，可以在一定程度上降低混合液的氧化性，同时降低了游离氯气带来的安全性的风险。因此，优先采取将A单元加入B单元的添加方式。如图14所示，通过控制A、B单元的混合方式，将A单元加入B单元，可以一定程度降低对金属的腐蚀性。将A单元加入B单元，可采取一次性加入或者分批加入或者缓慢加入或者喷雾加入或者滴加方式。由上可知，含二价铜或者总铜的氧化电位水，二价铜(或者总铜中的二价铜和可以转化为二价铜的一价铜和零价铜)与氢离子及有效氯相互作用，极大的影响了体系对金属的腐蚀性。本发明提供一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，包括以下步骤(I)提供pH调节剂A单元； (2)提供有效氯提供单元B单元；(3)将A单元与B单元混合，得到强氧化性溶液，强氧化性溶液的pH值在2_8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3-5000mg/L，其总铜的含量不高于2000mg/L0本发明还提供一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水，包括使用前独立分装的A单元和B单元，A单元为pH调节剂；B单元为有效氯提供单元，A单元与B单元混合后得到强氧化性溶液，强氧化性溶液的pH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3-5000mg/L，其总铜的含量不高于2000mg/L。A单元为酸性或弱碱性的固体或液体，其中液体的pH值优选为0-8间，又优选为
1-6间，再优选为1-5间，还优选为2-4间，最优选为2-3间。A单元选自酸性物质或碱性物质或酸性物质与碱性物质的组合。其中酸性物质可选自无机酸、有机酸、强酸弱碱盐或酸性物质的前体的一种或者几种。无机酸可选自盐酸、氢溴酸、氢碘酸、硫酸、硝酸、氯酸、高氯酸、溴酸、高溴酸、偏高碘酸、偏磷酸、高锰酸、氢硼酸、氢砹酸、氢碲酸、氢叠碘酸、氟硅酸、氯铅酸、锇酸、硒酸、高铁酸、氟磺酸、氰酸、硫氰酸、磷酸、硫酸氢钠、亚硫酸或亚硝酸。有机酸可选自苦味酸、焦性苦味酸、三氟乙酸、三氯乙酸、乙酸、甲酸、甲磺酸、苯磺酸、KMD酸、2-氯乙硫醇、乙二酸、丙二酸、丁二酸、乳酸、丙酮酸、酒石酸、苹果酸、枸椽酸、苯甲酸、水杨酸或咖啡酸。常见的强酸弱碱盐通常为过渡金属的强酸盐或者胺类物质的强酸盐，如氯化铝、氯化铁、硫酸铝、硫酸铁、硝酸铜或氯化铵。酸性物质的前体是指在溶液中能够转化为酸性物质的物质，如酸的酰氯衍生物，如琥珀酰氯。其中碱性物质可选自无机碱、有机碱、强碱弱酸盐的一种或者几种。无机碱可选自碱金属的氢氧化物，如氢氧化钠、氢氧化钾等，也可选自碱土金属的氢氧化物，如氢氧化钙、氢氧化钡、氢氧化镁等，也可以选自过渡金属的氢氧化物，如氢氧化锌、氢氧化铁等。有机碱可选自含氮物质，如氨水、二乙醇胺、三乙胺、天然生物碱等。强碱弱酸盐，如碳酸钠、乙酸钠、磷酸钠、柠檬酸钠等。其中酸性物质与碱性物质的组合可选自弱酸弱碱盐如柠檬酸铵或强酸弱碱盐与强碱弱酸盐的组合或弱酸与其共轭碱的组合。B单元可含有液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质中的一种或几种。次氯酸盐可选自次氯酸钠、次氯酸钙、漂白粉、漂白粉精、次氯酸镁的一种或几种。次氯酸盐的复盐可选自氯化磷酸三钠(Na3PO4 ·1/4Ν&0α ·12Η20)。亚氯酸盐可选自亚氯酸钠、亚氯酸钙。有效氯前体物质是指与酸或水反应可以生成活化态有效氯的含氯物质，且其在B单元中的稳定性高于在Α、Β单元的混合液中，有效氯前体物质可选自二氯异氰尿酸钠、二氯异氰尿酸、三氯异氰尿酸、氯胺Τ、氯酸盐、高氯酸盐的一种或几种。B单元的有效氯为有效氯的稳定形态。稳定形态的有效氯是指在B单元中具有更好稳定性，与酸或水反应可以生成活化态有效氯的含氯物质。B单元中有效氯含量应保证Α、B单元混合液中的有效氯含量为3-5000mg/L。A单元与B单元混合液中有效氯含量为3-5000mg/L，其中优选为3_4000mg/L，再优选为 3-3000mg/L，还优选为 3_2000mg/L，又优选为 3-1000mg/L，最优选为 30_500mg/L。B单元为中性或者碱性的固体或液体,其中液体优选为pH不低于8,再优选为pH不低于9，还优选为pH不低于10，又优选为pH不低于11，更优选为pH不低于12，最优选为pH不低于13。B单元的pH控制可以是强碱、中强碱、弱碱或者强碱弱酸盐的一种或者几种。B单元所含碱性物质可选自碱金属的氢氧化物，如氢氧化钠、氢氧化钾等，也可选自碱土金属的氢氧化物，如氢氧化钙、氢氧化钡、氢氧化镁等，也可以选自过渡金属的氢氧化物，如氢氧化锌、氢氧化铁等，也可以选自含氮物质，如氨水、二乙醇胺、三乙胺等，也可选自强碱弱酸盐，如碳酸钠、乙酸钠、磷酸钠、柠檬酸钠等。A单元与B单元混合液的pH值在2-8间，其中优选为3_8，再优选为4_8，还优选为5-8，最优选为6-8。A单元与B单元混合液中总铜含量不高于2000mg/L,其中优选为不高于1750mg/L,再优选为不高于1500mg/L,又优选为不高于1250mg/L,还优选为不高于750mg/L,最优选为不高于500mg/L。控制总铜及二价铜含量的方法，其一，通过调整A、B单元的体积及内在组分控制AB单元混合液中总铜及二价铜的物质含量；其二，通过A或(及)B单元的预处理，去除部分总铜及二价铜；其三，通过AB单元混合液的后处理，去除部分总铜及二价铜。所述去除总铜及二价铜的方法可以选择如下方法的一种或者几种，以去除或者屏蔽部分总铜及二价铜。可以加入总铜或二价铜失活剂，如沉淀剂与Cu2+形成沉淀-OH—、CO32'S2_，如螯合剂与Cu2+形成大分子螯合物-EDTA ;也可以利用膜分离法，如反渗透膜、离子选择膜、过滤、超滤、纳滤；也可以利用电化学法，如电渗析法、电解法；也可以利用层析法、吸附法或离子交换法。含有效氯的溶液在通过上述方法降低总铜或二价铜时，通常有效氯会有一定的损失，其含量需要重新测定。为了减少有效氯的损失，可以选择快速处理方式；也可以选择低温条件下处理；也可以将B单元离子型有效氯转为分子型有效氯(酸性)，使之与离子性物质区分；也可以将离子铜转为非离子性衍生物，使之与离子型有效成分(如，氢离子、次氯酸钠)区分。去除目的性杂质(总铜或二价铜)后，再恢复至有效氯的稳定形态或活化形态。
本发明还提供一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水，杀菌水的pH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3-5000mg/L，其总铜含量不高于2000mg/L。其pH值为2-8，其中优选为3-8间，又优选为4_8间，再优选为5_8间，最优选为
5-7 间。其pH值的控制，可以单独由酸性物质或碱性物质控制或者由酸性物质与碱性物质共同控制，使低腐蚀性的氧化电位杀菌水含有无机酸、有机酸、强酸弱碱盐、无机碱、有机碱、强碱弱酸盐、弱酸弱碱盐或者强酸强碱盐的一种或者几种。所述酸性物质可选自无机酸、有机酸、强酸弱碱盐、弱酸弱碱盐或酸性物质的前体的一种或者几种。无机酸可选自盐酸、氢溴酸、氢碘酸、硫酸、硝酸、氯酸、高氯酸、溴酸、高溴酸、偏高碘酸、偏磷酸、高锰酸、氢硼酸、氢砹酸、氢碲酸、氢叠碘酸、氟硅酸、氯铅酸、锇酸、硒酸、高铁酸、氟磺酸、氰酸、硫氰酸、磷酸、硫酸氢钠、亚硫酸或亚硝酸。有机酸可选自苦味酸、焦性苦味酸、三氟乙酸、三氯乙酸、乙酸、甲酸、甲磺酸、苯磺酸、KMD酸、2-氯乙硫醇、乙二酸、丙二酸、丁二酸、乳酸、丙酮酸、酒石酸、苹果酸、枸椽酸、苯甲酸、水杨酸或咖啡酸。常见的强酸弱碱盐通常为过渡金属的强酸盐或者胺类物质的强酸盐，如氯化铝、氯化铁、硫酸铝、硫酸铁、硝酸铜或氯化铵。酸性物质的前体是指在溶液中能够转化为酸性物质的物质，如酸的酰氯衍生物，如琥珀酰氯。所述碱性物质可以是无机碱、有机碱、强碱弱酸盐或者弱酸弱碱盐的一种或者几种。无机碱可选自碱金属的氢氧化物，如氢氧化钠、氢氧化钾等，也可选自碱土金属的氢氧化物，如氢氧化钙、氢氧化钡、氢氧化镁等，也可以选自过渡金属的氢氧化物，如氢氧化锌、氢氧化铁等；有机碱可选自含氮物质，如氨水、二乙醇胺、三乙胺、天然生物碱等；强碱弱酸盐，如碳酸钠、乙酸钠、磷酸钠、柠檬酸钠等。所述弱酸弱碱盐如柠檬酸铵，或强酸弱碱盐与强碱弱酸盐的组合。所含有效氯可由液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质的一种或几种生成。次氯酸盐可选自次氯酸钠、次氯酸钙、漂白粉、漂白粉精、次氯酸镁的一种或几种。次氯酸盐的复盐可选自氯化磷酸三钠(Na3PO4 ·1/4Ν&0α ·12Η20)。亚氯酸盐可选自亚氯酸钠、亚氯酸钙。有效氯前体物质是指与酸或水反应可以生成活化态有效氯的含氯物质，有效氯前体物质可选自二氯异氰尿酸钠、二氯异氰尿酸、三氯异氰尿酸、氯胺T、氯酸盐、高氯酸盐的一种或几种。其有效氯含量3-5000mg/L，其中优选为3_4000mg/L，再优选为3_3000mg/L，又优选为 3-2000mg/L，更优选为 3-1000mg/L，最优选为 30_500mg/L。其总铜含量不高于2000mg/L，其中优选为不高于1750mg/L，再优选为不高于1500mg/L,又优选为不高于1250mg/L,还优选为不高于1000mg/L,最优选为不高于500mg/L0以下结合实施例详细说明本发明。
实施例1 :配置1000L强酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为3mg/L)原料A :柠檬酸-柠檬酸钠缓冲溶液(PH2-3)，量取1000L，灌装，封口，得A单元(含二价铜5g)。原料B :二氯异氰尿酸钠(有效氯O. 25g/g)，称取12g，分装，得B单元(有效氯约3g)。使用时，将A单元与B单元混合，使B单元溶解，制得1000L强酸性氧化电位杀菌水(pH2-3，0RP1030-1130mV，ACC3mg/L，总铜 5mg/L，其中二价铜 5mg/L)。此时，溶液中含有有机弱酸、强碱弱酸盐。实施例2 :配置1000L弱酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为30mg/L)原料A:乳酸-乳酸钠缓冲溶液(pH3-5)，量取1000L，灌装，封口，得A单元(含二价铜24g)。原料B :二氯异氰尿酸钠(有效氯O. 25g/g)，称取120g，分装，得B单元(有效氯约30g，含二价铜Ig)。使用时，将B单元加入A单元，使B单元溶解，制得1000L弱酸性氧化电位杀菌水(pH3-5，ORP1000-11OOmV，ACC30mg/L，总铜 25mg/L，其中二价铜 25mg/L)。此时，溶液的 pH由酸性物质与碱性物质共同控制。实施例3 :配置1000L微酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为500mg/L)原料A :磷酸-磷酸钠缓冲溶液(pH5_7)，量取1000L，灌装，封口，得A单元。原料B :二氯异氰尿酸钠(有效氯O. 25g/g)，称取2Kg，分装，得B单元(有效氯约500g，含二价铜 50g)。使用时，将A单元加入B单元，使B单元溶解，制得1000L微酸性氧化电位杀菌水(pH5-7,0RP900-1 IOOmV, ACC500mg/L,总铜 50mg/L，其中二价铜 50mg/L)。此时，溶液中含有无机酸、强碱弱酸盐。实施例4 :配置1000L弱酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为1000mg/L)原料A :硫酸水溶液(ρΗ2· 5)，量取1000L，灌装，封口，得A单元(含一价铜75g)。原料B :氯胺T (有效氯0. 25g/g)，称取4Kg，添加120g氢氧化钠，混合包装，得B单元(有效氯约IKg)。使用时，将A单元缓慢加入B单元(不小于15分钟)，使B单元溶解，制得1000L弱酸性氧化电位杀菌水(PH3-4，0RP1100-1200mV, ACC1000mg/L，总铜75mg/L，其中一价铜彡75mg/L)。此时，溶液中含有强酸、强酸强碱盐。实施例5 :配置1000L微酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为2000mg/L)原料A :硫酸水溶液(pH2. 5)，量取500L，盐酸水溶液(pH2. 5)，量取500L，两种酸液混合，包装，得A单元(含一价铜90g)。原料B:三氯异氰尿酸(有效氯O. 4g/g),称取5Kg,添加168g碳酸钠，混合分装，得B单元(有效氯约2Kg，含一价铜IOg)。使用时，将A单元分批加入B单元，使B单元溶解，每批添加量100L，制得1000L微酸性氧化电位杀菌水(PH5-7，0RP1100-1200mV，ACC2000mg/L，总铜100mg/L，其中一价铜^ 100mg/L。实施例6 :配置1000L微酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为5000mg/L)原料A :硫酸水溶液(pH4.0)，量取1000L，添加Imol氯化铝，溶解后，灌装，封口，
得A单元。
原料B:固体二氧化氯(有效氯O. 2g/g),称取25Kg,添加17g碳酸钠，混合分装，得B单元(有效氯约5Kg，含一价铜150g)。使用时，将A单元分批加入B单元，每批添加量50L，制得1000L微酸性氧化电位杀菌水(pH5-7，0RP1100-1200mV，ACC5000mg/L，总铜 150mg/L，其中一价铜彡 150mg/L)。实施例7 :配置IOL强酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为3mg/L)原料A:盐酸水溶液(pH2-3)，量取9.99L，灌装，封口，得A单元(含零价铜2g)。原料B :稳定性二氧化氯溶液(有效氯3mg/ml, pH10_ll,氢氧化钠调节)，量取10ml，灌装，封口，得B单元(有效氯30mg)。使用时，将A单元与B单元混合，制得IOL强酸性氧化电位杀菌水(pH2_3，0RP1050-1150mV, ACC3mg/L，总铜200mg/L，其中零价铜200mg/L)。此时，溶液中含有强酸、
强酸强碱盐。实施例8 :配置IOL弱酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为250mg/L)原料A :盐酸水溶液(pH3-3. 5)，量取9. 9L，灌装，封口，得A单元(含零价铜2g)。原料B :次氯酸钠溶液(有效氯25mg/ml，pH= 10-11，氢氧化钠调节)，量取O. 1L，灌装，封口，得B单元(有效氯2. 5g，含零价铜O. 5g)。使用时，将A单元与B单元混合，制得IOL弱酸性氧化电位杀菌水(pH3_5，ORP1000-11OOmV, ACC250mg/L,总铜 250mg/L，其中零价铜 250mg/L)。实施例9 :配置IOL微酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为1000mg/L)原料A:盐酸水溶液(pH5. 0-6.0)，量取9L，灌装，封口，得A单元。原料B :次氯酸钠溶液(有效氯10mg/ml, pH = 7. 5,氢氧化钠调节),量取1L,灌装，封口，得B单元(有效氯10g，含零价铜3g)。使用时，将B单元加入A单元，制得10L微酸性氧化电位杀菌水(pH5_7，ORP1000-11OOmV，ACC1000mg/L，总铜300mg/L，其中零价铜300mg/L)。此时，溶液中含有强
酸、强酸强碱盐。实施例10 :配置10L弱酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为1500mg/L)原料A :盐酸水溶液(pH2-2. 5)，量取9L，灌装，封口，得A单元(含二价铜3g)。原料B:次氯酸钠溶液(有效氯15mg/ml,pH = 12. 5,氢氧化钠-碳酸钠调节)，量取1L，灌装，封口，得B单元(有效氯15g，含一价铜0. 5g)。使用时，将A单元加入B单元，混合均匀，制得10L弱酸性氧化电位杀菌水(pH3_5，0RP1050-1200mV,ACC1500mg/L,总铜 350mg/L，其中二价铜 300mg/L、一价铜 50mg/L)。此时，溶液中含有强酸、弱酸、强酸强碱盐、强碱弱酸盐。实施例11 :配置IOL微酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为2000mg/L)原料A:盐酸水溶液(pH = 3-3. 5)，量取9. 8L，灌装，封口，得A单元(含一价铜3. 5g)。原料B :次氯酸钠溶液(有效氯100mg/ml, pH = 12,氢氧化f丐调节)，量取200ml,灌装，封口，得B单元(有效氯20g，含二价铜O. 5g)。使用时，将A单元分批加入B单元，每批加入量50ml，制得IOL微酸性氧化电位杀菌水(pH5-7，0RP1000-1200mV, ACC2000mg/L，总铜 400mg/L，其中二价铜 50mg/L、一价铜350mg/L)。实施例12 :配置IOL微酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为2500mg/L)原料A:盐酸水溶液(pH2-3)，量取9.75L，灌装，封口，得A单元(含二价铜4g、一价铜O. 5g)。原料B:次氯酸钠溶液(有效氯100mg/ml, pH = 12, 二乙胺调节)，量取250ml,灌装，封口，得B单元(有效氯25g)。使用时，将A单元缓慢加入B单元(时间不小于I分钟)，制得IOL微酸性氧化电位杀菌水(pH5-7，0RP1000-1200mV，ACC2500mg/L，总铜 450mg/L，其中二价铜 400mg/L、一价铜 50mg/L)。实施例13 :配置IOL强酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为3000mg/L)原料A:盐酸水溶液(PH2.0-3.0)，量取9L，灌装，封口，得A单元。原料B :次氯酸钠发生器制备次氯酸钠溶液(有效氯30mg/ml，pH = 8. 0，碳酸氢钠调节)，量取1L，灌装，封口，得B单元(有效氯30g，含二价铜4. 5g、一价铜O. 5g)。使用时，将A单元缓慢(不少于5分钟)加入B单元，制得IOL强酸性氧化电位杀菌水(pH2-3，0RP1200-1400mV, ACC3000mg/L，总铜 500mg/L，其中二价铜 450mg/L、一价铜50mg/L)。实施例14 :配置IOL弱酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为3500mg/L)原料A 乙酸水溶液(ρΗ3· 0-4. O)，量取9. 65L，添加O. OOlmol氯化铝，溶解后，包装，得A单元(含二价铜4g、一价铜O. 5g)。原料B :次氯酸钠发生器制备次氯酸钠溶液(有效氯O. lg/ml,pH = 8. 5，碳酸钠调节)，量取350ml，包装，得B单元(有效氯35g，含二价铜Ig)。使用时，将A单元喷雾加入B单元，制得IOL弱酸性氧化电位杀菌水(pH3_5，0RP1000-1200mV, ACC3500mg/L,总铜 550mg/L，其中二价铜 500mg/L、一价铜 50mg/L)。此时，溶液中含有弱酸-弱酸强碱盐缓冲体系。实施例15 :配置IOL微酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为4000mg/L)原料A:乙酸-乙酸钠溶液(pH5. 0-5. 5)，量取9. 6L，灌装，封口，得A单元(含二价铜3g、一价铜2g)。原料B :次氯酸钠发生器制备次氯酸钠溶液(有效氯O. lg/ml，pH = 9.0，氢氧化铝调节)，量取O. 4L，灌装，封口，得B单元(有效氯40g，含二价铜O. 5g、一价铜O. 5g)。使用时，将A单元滴加入B单元，制得IOL微酸性氧化电位杀菌水(pH5_7，0RP1000-1200mV, ACC4000mg/L,总铜 600mg/L，其中二价铜 350mg/L、一价铜 250mg/L)。此时，溶液中含有乙酸-乙酸钠缓冲体系。实施例16 :配置IOL弱酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为5000mg/L)原料A:酸性溶液(O.1M乙酸，O. OlM盐酸)，量取9. 5L，灌装，封口，得A单元(含二价铜6g)。原料B :次氯酸 钠溶液(有效氯O. lg/ml,,三乙醇胺调节pH = 14),量取500ml,灌装封口，得B单元(有效氯50g，含零价铜O. 5g)。使用时，将A单元加入B单元，制得IOL弱酸性氧化电位杀菌水(pH3_5，ORPl 100-1300mV, ACC5000mg/L,总铜 650mg/L，其中二价铜 600mg/L、零价铜 50mg/L)。此时，溶液中含有乙酸-乙酸钠缓冲体系。实施例17 :配置IOL酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为3mg/L)原料A:柠檬酸溶液(O. 01M)，量取9L，灌装，封口，得A单元(含零价铜6. 9g)。原料B :次氯酸钠溶液(有效氯30mg/L，含氢氧化钠O. 24M)，量取1L，灌装封口，得B单元(有效氯30mg,含二价铜O.1g)。使用时，将A单元分批加入B单元，每批400ml，制得IOL酸性氧化电位杀菌水(pH6. 95，0RP700mV，ACC3mg/L，总铜 700mg/L，其中二价铜 10mg/L、零价铜 690mg/L)。此时，溶液含柠檬盐缓冲溶液。实施例18 :配置IOL弱酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为1000mg/L)原料A :酒石酸粉末与琥珀酸粉末，各称取O. 5mol，混合包装，得A单元(含二价铜7g、零价铜O. 5g)。原料B:亚氯酸钠溶液(有效氯lmg/ml,氢氧化钡调节至pH = 13),量取10L,灌装封口，得B单元(有效氯IOg)。使用时，将A单元与B单元混合，制得IOL酸性氧化电位杀菌水(pH3_5，ORPl 100-1200mV, ACC1000mg/L,总铜 750mg/L，其中二价铜 700mg/L、零价铜 50mg/L)。此时，溶液含缓冲溶液。实施例19 :配置10L强酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为2000mg/L)原料A:琥珀酸溶液(IM)，量取10L，灌装，封口，得A单元。原料B :二氯异氰尿酸钠(有效氯O. 25g/g)，称取80g，得B单元(有效氯约20g，含二价铜3g，零价铜5g)。使用时，将A单元与B单元混合，制得10L酸性氧化电位杀菌水(pH2_3，0RP1200-1400mV, ACC2000mg/L,总铜 800mg/L，其中二价铜 300mg/L、零价铜 500mg/L)。实施例20 :配置IL氧化电位杀菌水(有效氯含量为4500mg/L)原料A :柠檬酸粉末，称取0. 04mol，氯化锌粉末，称取0. 02mol，琥珀酰氯固体，称取0. Olmol，三者混合(含二价铜10mg、零价铜20mg)。原料B:次氯酸钙粉末(有效氯0. 2g/g)，称取22. 5g (有效氯约4. 5g，含二价铜IOmg)。将A原料与B原料及0. 2mol氯化韩(干燥剂，含二价铜IOmg)混合一元包装。使用时，将上述组合物溶于IL水(含二价铜0. 8g)中，待溶液的pH彡8. O后，制得 IL 氧化电位杀菌水(pH2-8，0RP1000-1400mV, ACC4500mg/L，总铜 850mg/L，其中二价铜830mg/L、零价铜 20mg/L)。
实施例21 :配置IL酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为5000mg/L)原料A :氯化锌溶液(O. 05M)，量取O. 95L，灌装，封口，得A单元(含零价铜O. 7g)。原料B :次氯酸钠溶液(pH = 9)，量取50ml (有效氯5g)，灌装，封口，得B单元(有效氯5g，含二价铜O. lg、零价铜O.1g)。使用时，将A单元与B单元混合，制得IL酸性氧化电位杀菌水(pH3_5，0RP1100-1300mV, ACC5000mg/L，总铜 900mg/L，其中二价铜 100mg/L、零价铜 800mg/L)。实施例22 :配置IL氧化电位杀菌水(有效氯含量为400mg/L)原料A :氯化铝固体，称取O. O ImoI，氯化锌粉末，称取O. OOlmol，两者混合包装，得A单元(含二价铜5mg、零价铜5mg)。原料B :亚氯酸钠溶液(pH = 9),量取IL (有效氯400mg),灌装,封口，得B单元(有效氯400mg，其中含二价铜O. 9g、零价铜40mg)。使用时，将A单元与B单元混合，待溶液的pH彡8. O后，制得IL氧化电位杀菌水(pH2-8，0RP900-1200mV，ACC400mg/L，总铜 950mg/L，其中二价铜 905mg/L、零价铜 45mg/L)。实施例23 :配置IL酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为600mg/L)原料A :氯化锌溶液(O. 05M)，量取1L，灌装，封口，得A单元(含一价铜990mg)。原料B :氯化磷酸三钠固体，称取6g，包装，得B单元(有效氯0.6g，含零价铜IOmg)。使用时，将A单元与B单元混合，制得IL酸性氧化电位杀菌水(pH2_3，0RP1100-1300mV, ACC600mg/L，总铜 1000mg/L，其中一价铜 990mg/L、零价铜 10mg/L)。实施例24 :配置IL氧化电位杀菌水(有效氯含量为700mg/L)原料A :硫酸铁固体，称取0. 03mol，琥珀酰氯，称取0. 02mol，两者混合(含二价铜IOmg)。原料B :次氯酸钙粉末(有效氯O. 25g/g)，称取2. 8g (有效氯约700mg，含零价铜IOmg)。将A原料与B原料及5g乙酸钠(含一价铜50mg)混合一元包装。使用时，将AB组合物溶于IL水(含二价铜1.18g)中，待溶液的pH彡8. O后，制得 IL 氧化电位杀菌水(pH2-8，0RP900-1300mV, ACC700mg/L，总铜 1250mg/L，其中二价铜1190mg/L、一价铜50mg/L、零价铜10mg/L)。因为硫酸钙的溶解性差，所以体系中有不溶物，但是不影响其有效氯、pH、ORP的特性。实施例25 :配置IL氧化电位杀菌水(有效氯含量为800mg/L)原料A:琥珀酰氯，称取0.05mol，包装，封口，得A单元(含二价铜10mg、一价铜IOmg)。原料B :次氯酸钠溶液(pH = 11，氢氧化钠-碳酸钠调节)，量取1L(有效氯800mg)，灌装，封口，得B单元(有效氯800mg，含零价铜1480mg)。使用时，将A单元加入B单元，溶解，待溶液的pH< 8. O后，制得IL氧化电位杀菌水(pH2-8，0RP900-1300mV，ACC800mg/L，总铜 1500mg/L，其中二价铜 10mg/L、一价铜 IOmg/L、零价铜 1480mg/L)。实施例26 :配置IL氧化电位杀菌水(有效氯含量为4000mg/L)原料A :琥珀酰氯粉末，称取0. 02mol，柠檬酸粉末，称取0. Olmol，两者混合(含二价铜5mg、一价铜5mg、零价铜5mg)。 原料B :次氯酸钙粉末(有效氯O. 25g/g)，称取8g，氯胺T (有效氯O. 25g/g)，称取8g,混合包装(总有效氯4g,含二价铜IOmg)。 将A、B原料及5g氯化钙(干燥剂，含二价铜5mg)混合一元包装。使用时，将上述组合物溶于IL水(含二价铜1. 72g)中，待溶液的pH彡8. O后，制得 IL 氧化电位杀菌水(pH2-8，0RP1000-1400mV，ACC4000mg/L，总铜 1750mg/L，其中二价铜1740mg/L、一价铜 5mg/L、零价铜 5mg/L)。实施例27 :配置1000L强酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为5000mg/L)
原料A 电解产生酸性氧化电位水(pH2_3，ACC迅速分解)，量取1000L，灌装，封口，得A单元(含二价铜800g、一价铜70g、零价铜530g)。原料B :氯化磷酸三钠粉末(有效氯O. lg/g)，称取25Kg，二氯异氰尿酸钠(有效氯O. 25g/g)，称取10Kg，混合，包装，得B单元(总有效氯5000g，含二价铜300g、零价铜300g)。使用时，将A单元与B单元混合，制得1000L酸性氧化电位杀菌水(pH2_3，0RP1200-1400mV，ACC5000mg/L，总铜 2000mg/L，其中二价铜 1100mg/L、一价铜 70mg/L、零价铜 830mg/L)。实施例28 :配置IL酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为50mg/L)原料A :盐酸溶液(pH2_3)，量取1L，独立包装(含总铜2g)。原料B :氯气/氮气混合气，灌装量5ml，有效氯50mg，独立高密封包装。使用时，密闭条件下，将A单元加入B单元混合，制得IL酸性氧化电位杀菌水(pH2-3，0RP1100-1200mV, ACC50mg/L,总铜 2000mg/L)。实施例29 :配置IOL酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为500mg/L)原料A :盐酸溶液(3M)，量取15ml (含总铜50mg)，独立防腐包装。原料B :氯酸钠溶液(2· 5M，pH = 8，碳酸钠调节)，量取IOml (含总铜50mg)，独立防腐包装。使用时，将A单元与B单元混合后，再用9. 975L的水稀释，制得IOL酸性氧化电位杀菌水(ρΗ2· 5-3. 5，0RP1100-1300mV, ACC500mg/L,总铜 10mg/L)。实施例30 :配置IOL酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为150mg/L)原料A :盐酸溶液(4M)，量取10ml，独立防腐包装。原料B :高氯酸钠溶液(O. 5M，pH = 8，碳酸钠调节)，量取IOml (含总铜O. 2g)，独
立防腐包装。使用时，将A单元与B单元混合后，再用9. 98L的水稀释，制得IOL酸性氧化电位杀菌水(pH5-7，0RP900-1000mV, ACC150mg/L,总铜 20mg/L)。实施例31 :配置IL酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为200mg/L)原料A :盐酸溶液(pH = O),量取IOml (含二价铜O. lg、一价铜O. lg、零价铜O.1g)，独立包装。原料B :次氯酸钠溶液(pH = 12. 5，氢氧化钾调节)，量取IOml (有效氯200mg，含二价铜O. lg、一价铜O. lg、零价铜O.1g)，独立包装。使用时，将A单元与B单元置于O. 98L水(含二价铜O. 8g、一价铜O. 4g、零价铜O. 2g)中，制得 IL 酸性氧化电位杀菌水(pH2-3，0RP1100-1200mV，ACC200mg/L，总铜 2000mg/L，其中二价铜 1000mg/L、一价铜 600mg/L、零价铜 400mg/L)。实施例32 :配置IOL微酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为5000mg/L)原料A :盐酸水溶液(pH = 2. 76)，量取9. 5L，添加O. Olmol柠檬酸及O. 0035mol氯化锌，溶解后，包装，得A单元(含二价铜15g)。原料B :次氯酸钠溶液(有效氯100mg/ml，碳酸钠O. 11M)，量取500ml，灌装，封口，得B单元(有效氯50g，含二价铜5g)。使用时，将A单元与B单元混合，制得10L酸性氧化电位杀菌水(pH5_7，0RP1000-1200mV, ACC5000mg/L,总铜 2000mg/L，其中二价铜 2000mg/L)。实施例33 :配置1000L强酸性氧化电位杀菌水(有效氯含量为1000mg/L)原料A :酸性水溶液2000L (pH2_3，含总铜IOOmol)。原料A预处理方法1，原料A加入EDTA (IOOmol)，形成大分子络合物，超滤，取滤液，调整pH，得到原料 Al (pH2-3，总铜< 1000mg/L)。方法2，原料A加入水溶性硫离子(IOOmol)，形成沉淀，超滤，取滤液，调整pH，得到原料 A2 (pH2-3，总铜< 200mg/L)。方法3，原料A通过钠型离子交换树脂层析柱，去除部分离子铜；流出液加入足量水溶性硫离子，使S2+ :离子铜的摩尔比1:1 ;超滤，滤除不溶物，调整pH，得到原料A3(pH2-3，总铜< 10mg/L)。方法4，原料A通过纳滤膜，控制条件，去除部分含铜大分子，调整pH，得到原料A4 (pH2-3，总铜< 1900mg/L)。方法5，原料A —定电流下通过离子选择膜，去除部分离子铜，再通过纳滤膜，去除大分子铜，调整PH，得到原料A5 (pH2-3，总铜< 400mg/L)。分别量取原料A1-A5各1000L，灌装，封口，得A单元1-5 1000L酸性水(pH2_3，总铜 10-1900mg/L)。原料B :次氯酸钙粉末(有效氯200mg/g)，称取5kg，分装，得B单元5kg粉末(有效氯lOOOg，含总铜IOOg)。制备上述相同B单元各5份。使用时，将A单元A1-A5分别与一份B单元混合，制得如下1000L氧化电位杀菌水，见下表I。表I
权利要求
1.一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，包括以下步骤(1)提供pH调节剂A单元；(2)提供有效氯提供单元B单元；(3)将所述A单元与所述B单元混合，得到强氧化性溶液，所述强氧化性溶液的pH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3_5000mg/L，其总铜的含量不高于 2000mg/L。
2.如权利要求1所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述强氧化性溶液中的总铜主要包括二价铜、一价铜和零价铜中的一种或者几种。
3.如权利要求1或2所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，在步骤(I)中还包括对所述A单元进行去除部分铜的预处理。
4.如权利要求1或2所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，在步骤(2)中还包括对所述B单元进行去除部分铜的预处理。
5.如权利要求1或2所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，在步骤(3)中还包括对所述A单元与所述B单元混合后的混合液进行去除部分铜的后处理。
6.如权利要求3所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，对所述A单元进行去除部分铜的预处理的方法选自加入失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种。
7.如权利要求4所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，对所述B单元进行去除部分铜的预处理的方法选自加入失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种。
8.如权利要求5所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述对A单元与B单元混合后的混合液进行去除部分铜的后处理的方法选自加入失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种。
9.如权利要求6或7或8所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述去除部分铜的处理方式为快速处理方式，或低温条件下处理，或将B单元离子型有效氯转为分子型有效氯；或将离子铜转为非离子性衍生物，使之与离子型有效成分区分，去除目的性杂质铜后，再恢复至有效氯的稳定形态。
10.如权利要求1所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述A单元为酸性或弱碱性。
11.如权利要求1所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述B单元含有液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质中的一种或几种，所述有效氯前体物质是指与酸或者水反应可以生成有效氯的含氯物质。
12.如权利要求1所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述B单元为中性或者碱性。
13.一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水，其特征在于，包括使用前独立分装的A单元和B单元,所述A单元为pH调节剂；所述B单元为有效氯提供单元,所述A单元与所述B单元混合后得到强氧化性溶液，所述强氧化性溶液的PH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3-5000mg/L，其总铜的含量不高于2000mg/L。
14.如权利要求13所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水，其特征在于，所述强氧化性溶液中的总铜主要包括二价铜、一价铜和零价铜中的一种或者几种。
15.如权利要求13所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水，其特征在于，所述B单元含有液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质中的一种或几种，所述有效氯前体物质是指与酸或者水反应可以生成有效氯的含氯物质。
16.如权利要求13所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水，其特征在于，所述B单元为中性或者碱性。
17.一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水，其特征在于，所述杀菌水的pH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3-5000mg/L，其总铜的含量不高于2000mg/L。
18.如权利要求17所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水，其特征在于，所述杀菌水中的总铜主要包括二价铜、一价铜和零价铜中的一种或者几种。
19.如权利要求17所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水，其特征在于，所述杀菌水中含有无机酸、有机酸、无机碱、有机碱、强酸弱碱盐、强碱弱酸盐、弱酸弱碱盐或者强酸强碱盐的一种或者几种。
20.如权利要求17所述的低腐蚀性的氧化电位杀菌水，其特征在于，所述杀菌水中的有效氯由液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质的一种或几种生成，所述有效氯前体物质是指与酸或者水反应可以生成有效氯的含氯物质。
全文摘要
本发明涉及杀菌消毒领域，特别涉及一种低腐蚀性的氧化电位杀菌水及其制备方法。本发明的低腐蚀性的氧化电位杀菌水的制备方法，包括以下步骤(1)提供pH调节剂A单元；(2)提供有效氯提供单元B单元；(3)将所述A单元与所述B单元混合，得到强氧化性溶液，所述强氧化性溶液的pH值在2-8间，其氧化还原电位不低于600mV，其有效氯含量为3-5000mg/L，其总铜的含量不高于2000mg/L。与现有的酸性氧化电位水相比，本发明的氧化电位杀菌水可降低对金属的腐蚀性，从而扩大了应用范围。
文档编号A01N59/00GK103004868SQ20121053327
公开日2013年4月3日 申请日期2012年12月11日 优先权日2012年12月11日
发明者邵鹏飞 申请人:邵鹏飞