本发明涉及农业养殖领域，特别是一种青椒的种植方法。
背景技术：
国内现有的青椒种植模式大多为传统的露天作业，植株直接种在地里一垅一垅的田垅上，为平面种植模式，这种植方式存在如下缺点：受外界气候条件的干扰较大；平面种植模式，单位面积的植株数较少，产量较低；果实隐藏在植株丛中，采摘比较辛苦，劳动强度较大；果实隐藏在植株丛中，果实容易粘上污泥，果实品相较差，还容易烂果，成果率较低。
技术实现要素：
本发明提供一种青椒的种植方法，青椒苗的根部种在凹槽内的栽培基质中，青椒苗的弓形朝向凹槽面向人行道的一侧，具有商品成果率较高、果实品相较好、可降低劳动强度等特点。
本发明采用如下技术方案：
青椒的种植方法，在大棚内设有种植架，种植架具有长条状主架，主架有两条斜边，两斜边上分别设有呈上下多层分布的长条状分架，各分架上分别设有条状凹槽；青椒苗的根部种在此凹槽内的栽培基质中，青椒苗的弓形朝向凹槽面向人行道的一侧。
进一步的，所述栽培基质主要由如下体积比的原料配制而成：印度椰糠15-25％，杉木屑25-35％，河沙8-15％，稻草5-10％。
进一步的，所述稻草中混有大豆粕，稻草与大豆粕按体积比25∶0.5的比例混合在一起。
本发明采用大棚种植方式，受外界气候条件的干扰较小，不易烂果，提高商品成果率。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
青椒的种植方法，在大棚内设有种植架，种植架具有长条状主架，主架有两条斜边，两斜边上分别设有呈上下多层分布的长条状分架，各分架上分别设有条状凹槽；青椒苗的根部种在此凹槽内的栽培基质中，青椒苗的弓形朝向凹槽面向人行道的一侧；所述栽培基质主要由如下体积比的原料配制而成：印度椰糠15-25％，杉木屑25-35％，河沙8-15％，稻草5-10％；所述稻草中混有大豆粕，稻草与大豆粕按体积比25∶0.5的比例混合在一起。
本发明采用大棚种植方式，受外界气候条件的干扰较小，不易烂果，提高商品成果率。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。