本发明涉及一种种植方法，尤其涉及一种双垄并行大棚蔬菜的种植方法。
背景技术：
塑料大棚用于春季育苗、冬季蔬菜栽培，已成为广大种、养殖户的投资小、见效快的致富之路，但是现有大棚种植密度较大，不便于作业人员作业，而且缺少标准化操作，不利于作物的成长及病虫害的防治。
技术实现要素：
本发明提供一种双垄并行大棚蔬菜的种植方法，本发明便于种植作业，既增大了作业人员行走间隙距离，也有利于节省空间，确保作物的茁壮成长，有效预防病虫害，保证作物的收成。
为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种双垄并行大棚蔬菜的种植方法，包括以下步骤，
步骤一，在耕种前10～15天旋耕土地，每平方米床土用3～5克多菌灵或溴化甲烷处理；
步骤二，在旋耕后的土地上起垄，两地垄为一组，每组相邻两地垄之间的距离＜相邻两组地垄之间的距离；
步骤三，将蔬菜种子放入到700～800倍发酵肥液中浸泡1～2小时后，播种到地垄上；
步骤四，种子发芽后5～10天，喷洒1000～1500倍发酵肥液；
步骤五，在作物成长期，每隔10～15天喷洒一次1000～1500倍发酵肥液，每隔1～2天灌溉一次；
步骤六，在作物开花期，每隔10～15天用等量式波尔多液或77％可杀得可湿性粉剂500～700倍液对植株喷雾，停止施用发酵肥液和灌溉；
步骤七，在作物坐果期，控制昼夜通风，夜间外界最低温度不低于15℃；
步骤八，作物坐果稳定后，每隔10～15天喷洒一次1000～1500倍发酵肥液，每隔1～2天灌溉一次。
作为优选的技术方案，所述步骤二中，相邻组地垄之间距离为25～35cm，每组两地垄之间距离的10～15cm，垄高20～30cm，在地垄上施加发酵肥作为底肥。
作为优选的技术方案，所述步骤五中，在作物成长期，每隔5～7天按质量份数将10份的草木灰与50～60份的水搅拌，取出草木灰清液喷洒作物。
作为优选的技术方案，所述步骤五和步骤八中，灌溉为在每组两地垄之间浇小水灌溉。
作为优选的技术方案，所述步骤五中，在作物成长期，摘除植株下部的老叶、枯叶和病叶。
由于采用了上述技术方案，本发明便于种植作业，既增大了作业人员行走间隙距离，也有利于节省空间，确保作物的茁壮成长，有效预防病虫害，保证作物的收成。
附图说明
以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释，并不限定本发明的范围。其中：
图1是本发明实施例的种植流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，进一步阐述本发明。在下面的详细描述中，只通过说明的方式描述了本发明的某些示范性实施例。毋庸置疑，本领域的普通技术人员可以认识到，在不偏离本发明的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，附图和描述在本质上是说明性的，而不是用于限制权利要求的保护范围。
此外，下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
如图1所示，一种双垄并行大棚蔬菜的种植方法，包括以下步骤，
步骤一，在耕种前10～15天旋耕土地，每平方米床土用3～5克多菌灵或溴化甲烷处理，对土地进行有效消毒；
步骤二，在旋耕后的土地上起垄，两地垄为一组，每组相邻两地垄之间的距离＜相邻两组地垄之间的距离，既增大了作业人员行走间隙距离，也有利于节省空间；
步骤三，将蔬菜种子放入到700～800倍发酵肥液中浸泡1～2小时后，播种到地垄上，促进种子发芽；
步骤四，种子发芽后5～10天，喷洒1000～1500倍发酵肥液，促进种苗成长；
步骤五，在作物成长期，每隔10～15天喷洒一次1000～1500倍发酵肥液，每隔1～2天灌溉一次，促进作物成长；
步骤六，在作物开花期，每隔10～15天用等量式波尔多液或77％可杀得可湿性粉剂500～700倍液对植株喷雾，停止施用发酵肥液和灌溉，有效防止落花；
步骤七，在作物坐果期，控制昼夜通风，夜间外界最低温度不低于15℃；
步骤八，作物坐果稳定后，每隔10～15天喷洒一次1000～1500倍发酵肥液，每隔1～2天灌溉一次。
所述步骤二中，相邻组地垄之间距离为25～35cm，每组两地垄之间距离的10～15cm，垄高20～30cm，在地垄上施加发酵肥作为底肥，作业人员可以在每组地垄之间行走，既增大了作业人员行走间隙距离，也有利于节省空间。
所述步骤五中，在作物成长期，每隔5～7天按质量份数将10份的草木灰与50～60份的水搅拌，取出草木灰清液喷洒作物，有效预防病虫害。
所述步骤五和步骤八中，灌溉为在每组两地垄之间浇小水灌溉，有效防止冲苗。
所述步骤五中，在作物成长期，摘除植株下部的老叶、枯叶和病叶，防止田间郁闭。
本实施例便于种植作业，既增大了作业人员行走间隙距离，也有利于节省空间，确保作物的茁壮成长，有效预防病虫害，保证作物的收成。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征及本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。