本实用新型属于设施农业温室、大棚生产中的灌溉辅助设施，具体涉及一种可以提高垄上沟灌灌水均匀度的装置。
背景技术：
灌溉方式对设施蔬菜的生长发育和产品的形成具有至关重要的影响，解决好灌溉与蔬菜生长的关系是增加产量、提高效益的关键技术措施之一。目前设施蔬菜大多采用起垄覆膜栽培，灌溉方式主要有沟灌、膜下滴灌、膜上灌和膜下沟灌。传统的沟灌技术灌水定额大，水肥深层渗漏严重；设施环境湿度大，作物病害发生严重，农药用量增加，产品质量达不到绿色产品标准。膜下滴灌技术具有较多的优点，如节水、节肥、降低设施环境湿度，省工、提升产量和品质等，但膜下滴灌需要建立加压首部，对灌溉水质要求较高，滴灌带需要定期更换，使得其使用成本较高。膜上灌是水在膜上流动并由放苗孔和膜孔渗入土中，只灌作物，属局部灌溉，此种方法灌水均匀度高，但相对于膜下沟灌和滴灌设施环境湿度较大。膜下沟灌是将地膜覆盖在灌水沟上，具有能够降低设施环境湿度、提高土壤温度、抑制杂草生长和使用成本较低等特点，在生产上使用最为普遍；但其存在以下主要问题：(1)沟底坡降起伏不定且修复比较困难，导致灌水均匀度不高；(2)灌水沟横断面积较大，土地利用率低；(3)浇水时地膜与土壤紧贴一起，空间窄小、浇水不畅、水分外溢，影响膜下沟灌技术的降湿效果。为此，梁玉芹发明了一种可以降低设施环境湿度的用于膜下沟灌的灌溉辅助装置(专利号：201120259474.X)，可以支撑起地膜成半桶状，解决了现有技术存浇水不畅、水分外溢等问题，但关于灌水均匀度不高、土地利用率低等问题仍未解决。
技术实现要素：
本实用新型的主要目的：针对上述存在的缺陷，提供一种结构简单、灌水均匀度高、节能的垄上膜下灌水槽，解决现有膜下沟灌灌水均匀度不够、土地利用率低等缺陷。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：本实用新型包括导流槽、灌水槽、渗水孔、连接件、支撑架、挡板、地膜。所述导流槽槽壁上设有交错均匀的渗水孔，渗水孔孔径及间距需根据土壤入渗能力和供水系统供水能力综合确定；所述灌水槽由多段横断面为弧形、梯形或V型导流槽通过连接件连接而成；所述支撑架用于调节固定灌水槽坡降(一般在2‰-5‰之间)，并使灌水槽外表面与土壤表面具有1-2mm的间隙，以提高渗水孔渗水能力。本实用性新型可以显著提高膜下沟灌灌水均匀度和土地利用率。
本实用新型的优点效果在于：(1)灌水均匀度高。灌水槽底部坡降恒定，渗水孔布置均匀，保证了灌水均匀度。(2)土地利用率提高。灌水槽横断面与原来灌水沟横断面相比缩减了50％左右，可以有效增大垄面面积或者缩小垄间距，从而提高了土地利用率。(3)灌水槽长度可以任意调节。灌水槽是由多个导流槽通过连接件连接而成的，可以形成所需任意长度，适合不同垄长的需要。(4)可重复利用。导流槽为铝质、PVC或者其他轻质材料，强度适中、耐腐蚀、不生锈、可以重复利用、成本低廉。
附图说明
图1是本实用新型一种实施例的结构示意图。
图中：1、导流槽，2、灌水槽，3、渗水孔，4、连接件，5、支架，6、挡板，7、进水口，8、中心线、9、地膜。
具体实施方式
本实用新型的导流槽1槽壁上交错均匀布置有渗水孔3，渗水孔孔径及间距，可以根据土壤入渗能力和供水系统供水能力综合确定；多段导流槽1通过连接件4连接成所需长度的灌水槽2；支架5用于调节固定灌水槽坡降(一般在2‰-5‰之间)，并使灌水槽外表面与土壤表面具有1-2mm的间隙，以提高渗水孔渗水能力；灌水槽设在地膜9下；挡板6用于防止灌溉水从灌水槽2末端流出。使用时水流从进水口7进入灌水槽，通过渗水孔均匀的渗入土壤。本实用新型可以显著提高垄上膜下沟灌灌水均匀度。
本装置适用的设施蔬菜有辣椒、番茄、黄瓜、西瓜、哈密瓜等起垄种植作物，通过本装置进行灌溉，有利于提高灌水均匀度和土地利用率，从而提高作物产量。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，本实用新型的保护范围不限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内，可显而易见地得到的技术方案的简单变化或等效替换均落入本实用新型的保护范围内。