本实用新型涉及光照培养箱技术领域，尤其涉及一种用于小麦芽期耐盐性鉴定的光照培养箱。
背景技术：
植物与土壤盐渍化问题关系极为密切。盐渍化造成了植物生境条件的变化，严重影响了植物的生长过程和干物质积累。因此，植物的耐盐特性与耐盐和盐生植物的开发利用、耐盐作物品种的培育和提高作物抗盐能力等已成为在盐渍土地资源的开发利用和改良中迫切需要加以解决的重大问题。
人们为了寻求更佳的粮食作物生长环境，需要对种子进行大量的实验，培养过程中需要用到培养箱，现在培养箱功能比较单一，使用过程中培养箱内部温度均匀性不好把控，光照情况不好把控，导致培养出来的芽苗长势不均。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中培养箱内温度均匀性、光照均匀性不好控制的缺点，而提出的一种用于小麦芽期耐盐性鉴定的光照培养箱。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
设计一种用于小麦芽期耐盐性鉴定的光照培养箱，包括培养箱体，所述培养箱体底部设有支腿，所述培养箱体内设有竖直摆放的隔板，所述隔板一侧为第一培养腔室，另一侧为第二培养腔室，所述第一培养腔室、第二培养腔室内部设置完全相同；
所述第一培养腔室底部固接有旋转电机，所述旋转电机输出轴置于第一培养腔室内，所述旋转电机输出轴上固接有竖直摆放的可调节伸缩杆，所述可调节伸缩杆上固接有水平放置的培养基托盘，所述第一培养腔室内设有加湿器，所述第一培养腔室顶部设有照明灯；
所述培养箱体四周及隔板内部共同开设有相互连通的环形气流通道，所述培养箱体一侧通过第一气管连接有气流加热装置，所述气流加热装置另一侧通过第二气管连接有循环风机，所述循环风机通过第三气管与培养箱体另一侧的环形气流通道连通。
使用的时候，通过调节培养基托盘距离照明灯，改变光照强度，通过循环风机将气流加热装置产生的热气送入环形气流通道，热气流在环形气流通道内流动，均匀的给腔室内部加热，同时在旋转电机的带动下，使培养基托盘缓慢转动，接受更加均匀的光照及温度变化，能够在本装置内的两个培养腔室内做对比试验，同时能够对培养基上的种芽进行均匀的光照控制、温度控制、湿度控制。
优选的，所述气流加热装置包括加热箱，所述加热箱内部设有加热电阻丝，所述加热箱一侧设有出风口，所述出风口与第一气管连接，所述加热箱另一侧设有进风口，所述进风口与第二气管连接。
优选的，所述第三气管与环形气流通道之间设有气流分散板，避免热气流直接吹到环形气流通道内，防止培养箱体内壁局部过热。
本实用新型提出的一种用于小麦芽期耐盐性鉴定的光照培养箱，有益效果在于：本实用新型能够在两个培养腔室内做对比试验，同时能够对培养基上的种芽进行均匀的光照控制、温度控制、湿度控制。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中：旋转电机1、支腿2、培养箱体3、环形气流通道4、可调节伸缩杆5、培养基托盘6、照明灯7、加湿器8、出风口9、加热电阻丝10、加热箱11、进风口12、循环风机13、隔板14、气流分散板15。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1，一种用于小麦芽期耐盐性鉴定的光照培养箱，包括培养箱体3，培养箱体3底部设有支腿2，培养箱体3内设有竖直摆放的隔板14，隔板14一侧为第一培养腔室，另一侧为第二培养腔室，第一培养腔室、第二培养腔室内部设置完全相同；
第一培养腔室底部固接有旋转电机1，旋转电机1输出轴置于第一培养腔室内，旋转电机1输出轴上固接有竖直摆放的可调节伸缩杆5，可调节伸缩杆5上固接有水平放置的培养基托盘6，第一培养腔室内设有加湿器8，第一培养腔室顶部设有照明灯7；
培养箱体3四周及隔板14内部共同开设有相互连通的环形气流通道4，培养箱体3一侧通过第一气管连接有气流加热装置，气流加热装置另一侧通过第二气管连接有循环风机13，循环风机13通过第三气管与培养箱体3另一侧的环形气流通道4连通；气流加热装置包括加热箱11，加热箱11内部设有加热电阻丝10，加热箱11一侧设有出风口9，出风口9与第一气管连接，加热箱11另一侧设有进风口12，进风口12与第二气管连接，第三气管与环形气流通道4之间设有气流分散板15，避免热气流直接吹到环形气流通道4内，防止培养箱体3内壁局部过热。
使用的时候，通过调节培养基托盘6距离照明灯7，改变光照强度，通过循环风机13将气流加热装置产生的热气送入环形气流通道4，热气流在环形气流通道4内流动，均匀的给腔室内部加热，同时在旋转电机1的带动下，使培养基托盘6缓慢转动，接受更加均匀的光照及温度变化，能够在本装置内的两个培养腔室内做对比试验，同时能够对培养基上的种芽进行均匀的光照控制、温度控制、湿度控制。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。