本实用新型涉及绿化设施，尤其涉及一种立体植物墙。
背景技术：
植物墙，就是将植物种植、安放在垂直表面（如墙面），以一种自然环保的形式装饰的垂直墙面。植物墙包含了降噪、隔热控温、调节空气质量等多种环保功能，对于调节城市热岛效应有着积极的作用。现有植物墙存在的技术问题包括：1）直接从植物墙上部对植物浇水的灌溉方式容易引起基质中的养分流失；2）采用浇灌水一直源源不断的喷洒，会导致水资源浪费，利用率低；3）其种植槽不具有排水功能，植株容易产生离层引起落叶、落花，根系容易腐烂，绿植成活率低。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服当前的植物墙浇灌易引起基质中的养分流失、喷洒使水资源利用率低、排水功能差根系容易腐烂的问题，而提供一种植物墙，该植物墙对现有的浇水结构进行改进，能够对植物进行均匀灌溉，节省水资源，根系渗水顺畅，有利于植物生长。
本实用新型是这样实现的：一种立体植物墙，包括竖直设置的固定架、设置于固定架上的旋转植物架和蓄水槽，所述旋转植物架中心通过转轴活动安装于固定架上、且能够在竖直平面上进行旋转，旋转植物架上设置有种植层，旋转植物架的外缘沿环形均匀开设有进水孔，所述种植层通过进水孔与蓄水槽连通，所述蓄水槽侧壁还连接有进水管。
优选的，所述旋转植物架包括种植槽，所述种植槽呈圆盘形，所述进水孔设置于种植槽的槽壁，所述种植层设置于种植槽的槽底。
优选的，所述种植槽中设置有加固筋，加固筋沿种植槽的半径方向均匀设置。
优选的，所述种植槽中设置有栅格，种植层分布于栅格下表面。
优选的，所述种植层为锯末层或土壤层。
优选的，所述蓄水槽上端敞口。
优选的，所述进水管与水源连通，进水管上安装有电磁阀，电磁阀电连接有控制器。
优选的，所述蓄水槽中设置有液位传感器，所述液位传感器与控制器电连接。
本实用新型具有以下的优点：本实用新型的立体植物墙对现有的浇水结构进行改进，通过旋转式的旋转植物架将蓄水槽中的水，从不同方位缓慢流进植物根部，不用铺设水管，同时实现了对植物的均匀灌溉，由于旋转植物架能够将水向不同方位渗透，有效防止铺设水管一次性上水导致植物根部腐烂的问题，保证了根系渗水顺畅，有利于植物生长；同时通过在植物墙上端设置蓄水槽，将雨水进行收集，合理利用雨水，节约能源，同时还能够通过进水管上水，并且通过液位传感器控制进水管的开关，进而控制蓄水槽中的水位，实现自动上水。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图。
图中：1-固定架，2-旋转植物架，3-蓄水槽，4-种植层，5-进水孔，6-进水管，7-种植槽，8-加固筋，9-电磁阀，10-液位传感器。
具体实施方式
在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例1：一种立体植物墙，如图1所示，包括竖直设置的固定架1、设置于固定架上的旋转植物架2和蓄水槽3，旋转植物架中心通过转轴活动安装于固定架上、且能够在竖直平面上进行旋转，旋转植物架2上设置有种植层4，种植层为压实的锯末层或土壤层，种植层上可以种植植物，旋转植物架包括种植槽7，种植槽呈圆盘形，种植层设置于种植槽的槽底，种植槽7中安装有加固筋8，加固筋8沿种植槽7的半径方向设置，并且加固筋8穿过种植层4，对种植层4起到加固的作用，防止其脱落；种植槽7中还安装有栅格，每个栅格中能够至少种植一株绿植，栅格位于种植层7的上表面，同样起到固定种植层的作用；种植槽7外缘的槽壁上沿环形均匀开设有进水孔5，种植层通过进水孔5与蓄水槽3连通，种植槽7旋转的过程中，种植槽7最上端的进水孔5与蓄水槽下端的出水口连通，对种植槽内的种植层进行灌溉；优选的，蓄水槽3上端敞口，能够存储雨水，蓄水槽3侧壁还连接有进水管6，进水管与水源连通，进水管6上安装有电磁阀9，电磁阀电连接有控制器，蓄水槽3中设置有液位传感器10，液位传感器10与控制器电连接，当低于设置的水位线时，电磁阀打开，进行上水，当高于水位线时，电磁阀关闭，停止上水。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。