具有八心八箭图案的改进的椭圆形钻石的制作方法

本发明涉及一种改进的椭圆形钻石，其在暴露于光线时产生八心八箭图案，该八心八箭图案的形状更加严密地复制了理想打磨的圆形切割钻石所产生的八心八箭。

背景技术：

假如圆形钻石被切割成几乎完美的圆形形状，该圆形形状具有相等且对称地切割的面且其角部分在相对较窄的范围内被打磨，当圆形切割钻石暴露于光线时成功产生八心八箭图案。不同于圆形的钻石，椭圆形的钻石根据定义具有带有两条长边和两条短边的不对称的几何形状。如美国专利第7,878,025号所示及所教导的那样，申请人仍然能够打磨椭圆形形状的钻石以在经受光照时产生八心八箭图案，该美国专利第7,878,025号的内容通过引用被并入本文。在美国专利第7,878,025号所教导的产生于椭圆形形状的钻石中的八心八箭图案模仿了产生于对称圆形形状钻石中的八心八箭图案。

已经被发现的是，相比美国专利第7,878,025号中所产生的心形形状，根据本发明，当椭圆形钻石被打磨成包括唯一的冠状星形刻画的构造，并且该冠状星形刻画的构造具有包含在椭圆形钻石的两个长边和两个短边中的尺寸和几何形状相等的两个刻面部的冠部星形刻面，以及具有包含在椭圆形钻石的对角边或肩部边中的每个中的尺寸和几何形状不相等的两个刻面部的冠部星形刻面时，产生于八心八箭图案中的心形形状可以在对称性和美观性上充分地提高。在优选的实施方式中，在椭圆形钻石的对角边上的每个冠部星形刻面中的不相同的部分实质上在尺寸和形状上分别彼此相等。

本发明的改进的椭圆形钻石优选地包括八个主冠部刻面和八个主亭部刻面，八个主冠部刻面中的每个都具有完美地平行的相对的主冠部刻面，并且八个主冠部刻面中的每个都与置于其上的主亭部刻面完美地对齐。无论是八个主冠部刻面还是八个主亭部刻面都不在钻石的短边或长边上对齐。

同样优选的是，本发明的椭圆形钻石打磨成使得八个主冠部刻面中没有一个与椭圆形的形状一致，并且事实上，钻石应被打磨成使得八个主冠部刻面中的四个(其至少部分地位于钻石的短边上)与椭圆形的形状完全不一致，并且另外四个主冠部刻面(其至少部分地位于钻石的长边上)与椭圆形的形状仅稍微不一致。此构造导致在整个钻石上高度不均匀的腰部厚度，即，在整个钻石上腰部厚度广泛地变化。然而，根据本发明，通过进一步打磨本发明的椭圆形钻石，使得其包括多个副亭部刻面(优选地数量为十二个)，且所有的副亭部刻面对称地位于钻石的相对的亭部边上，该相对的亭部边在其对角肩部边之间延伸，且没有副亭部刻面位于钻石的任何的短边上，腰部厚度的变化程度被最小化。

而且，本发明的改进的椭圆形钻石包括16个冠部半部(半刻面)，并且优选地，十六个冠部半部不会如同具有八个主冠部刻面和16个冠部半部的传统椭圆形钻石那样在主冠部刻面上的中途位置处彼此相遇。

技术实现要素：

本发明的椭圆形钻石包括：椭圆形形状，该椭圆形形状具有被四个对角边或肩部边分开的两个长边和两个短边，并且进一步包括八个主冠部刻面、八个主亭部刻面、16个冠部和亭部半部(半刻面)、多个副亭部刻面以及对称构造的冠部星形刻面(优选地八个)，其具有在钻石的短边上的两个星形刻面、在钻石的长边上的两个星形刻面以及在钻石的对角边或肩部边上的四个星形刻面，该对称构造被布置成使得在钻石的长边和短边上的每个冠部星形刻面包括尺寸和几何形状相等的两个刻面部，并且钻石的对角边或肩部边上的每个冠部星形刻面包括尺寸和几何形状不相等的两个刻面部。在优选的实施方式中，在椭圆形钻石的对角边上的每个冠部星形刻面中的不相同部在尺寸和形状上彼此大致相等。

而且，在本发明的椭圆形钻石的八个主冠部刻面的位置优选地相对于钻石的两个长边和两个短边偏置，使得八个主冠部刻面中的四个部分地位于或延伸进入钻石的短边，造成这四个主冠部刻面与椭圆的形状不一致，并且使得其他四个主冠刻面部地位于或延伸进入钻石的长边，并且与椭圆的形状仅稍微不一致。此外，本发明的椭圆形钻石还包括多个副亭部刻面，优选的十二个，所有 的副亭部刻面对称地位于钻石的相对的亭部边上、该钻石的亭部边在钻石的对角边或肩部边之间延伸，并且副亭部刻面位于钻石的任一短边上。

附图说明

当结合附图阅读本发明以下详细的说明时，其他的优点将变得显而易见，其中：

图1是示出本发明的初始打磨操作期间、从台部刻面侧的本发明的椭圆形钻石的放大顶视图，其八个主刻面中的每个都具有一个直边边缘，该边缘与相对的主冠部刻面的直边边缘平行；

图2是从台部刻面侧的本发明的完成的椭圆形钻石的顶视图，其示出本发明的冠部半刻面、主刻面以及唯一的冠部星形刻面构造。

图3是本发明的完成的椭圆形的钻石的侧轮廓视图；以及

图4是本发明的完成的椭圆形钻石的底视图，其示出钻石的相对的亭部侧上的副亭部刻面的构造。

具体实施方式

钻石是被用作为用于借助反射和折射散射光的棱镜的晶体。传统的椭圆形钻石具有八个主冠部刻面、八个主亭部刻面和十六个亭部半刻面，它们根据它们在椭圆形状上的位置在主亭部刻面和腰部之间以不同的角度被抛光。在传统的椭圆形钻石中，主亭部刻面和亭部半刻面被放置为符合钻石的形状和/或者轮廓，并且所选择的角度使得腰部在整个钻石上是一致的且厚度均匀的。

如图1至4所示，本发明的椭圆形钻石在如何切割椭圆形的钻石方面忽略传统的教导，并且也与美国专利7878025中所示的椭圆形钻石不同，美国专利7878025的内容通过引用被包含于此。在本发明的椭圆形钻石中，并且如图1更具体地所示的，最靠近钻石的短边的主冠部刻面M1、M2、M3和M4与椭圆形高度不重合，而四个主冠部刻面M5、M6、M7和M8仅与椭圆形状略微不重合。八个主冠部刻面M1至M8中的每一个都具有一个直线侧边缘，直线边缘与对面的主冠部刻面的直线侧边缘平行。例如，如图1所示，主冠部刻面M2的边缘A与主冠部刻面M4的边缘B平行。而且，所有的八个主冠部刻面M1至M8的位置都相对于钻石的两条长边和两条短边偏置，以便钻石的每条长边仅与主冠部刻面M5、M6以及M7和M8在钻石的每条相对的边上部分重 叠，并且每条短边仅与主冠部刻面M1、M2以及M3和M4分别在钻石的每条相对的短边上的部分重叠。这导致了每个主冠部刻面M1、M2、M3和M4与钻石的形状大致不重合，并且与主冠部刻面M1、M2、M3和M4相比，其他的四个主冠部刻面M5、M6、M7和M8的每个都与钻石的形状略微不重合。

钻石的对角边或肩部边分别位于钻石的长边和短边之间，并且类似于美国专利7878025中的角边。然而，与美国专利7878025不同，没有一个主冠部刻面与钻石的短边或长边一致。相反地，四个主冠部刻面M1、M2以及M3、M4在钻石的每个相对侧分别与短边和对角边或肩部边部分重叠。另外，主冠部刻面M5、M6以及M7、M8在钻石的每个相对侧分别与长边和对角边或肩部边部分重叠。

本发明的唯一的冠部星刻面布局需要每个冠部星刻面包括在椭圆形钻石的两条长边和两条短边中的每条中的两个同等尺寸和几何形状的刻面部，以及在椭圆形钻石的四条对角边或肩部边的每条中的两个不同尺寸和几何形状的刻面部。如图2所示，两个冠部星刻面C1和C2与钻石的短边对齐，并且分别包括两个刻面部a、b和c、d，其中刻面部a、b、c和d的尺寸和几何形状相同。同样地，两个冠部刻面C3和C4与钻石的长边对齐，并且分别包括两个刻面部e、f和g、h，其中刻面部e、f、g和h的尺寸和几何形状相同。在钻石的对角边或肩部边上的四个冠部刻面C5、C6、C7和C8的尺寸和几何形状与在短边和长边上的冠部星刻面C1、C2、C3和C4的尺寸和形状不相似。在相对的对角边上的冠部星刻面C5和C6分别包括两个刻面部i、j以及两个刻面部k和l。同样的，位于相对的对角边上的冠部刻面C7和C8每个都分别具有两个刻面部m、n和o、p。在钻石的对角边上的刻面部i、j、k和l以及刻面部m、n、o和p都具有相等的尺寸和几何形状，并且比在钻石的短边上的刻面部大致地更大。八个主冠部刻面M1至M8和冠部星刻面C1至C8围绕桌刻面T。图2还示出了具有十六个冠部半刻面的钻石，十六个冠部半刻面分别具有附图标记MC1至MC16。十六个冠部半刻面在主冠部刻面上的中间点彼此不接触。这确保了箭的形状不会扭曲。

如图4所示，本发明的椭圆形钻石的亭部侧包括八个主亭部刻面P1至P8、十六个亭部半刻面PHF1至PHF16以及十二个副亭部刻面PSF1至PSF12，其 中所有的副亭部刻面PSF1至PSF12对称地位于钻石的相对的亭部侧上。没有一个副亭部刻面PSF1至PSF12位于钻石的任何一条短边上，并且由此，没有副亭部刻面接触在钻石的短边上的亭部半刻面PHF1、PHF2和PH9、PH10。这导致了如图3所示的腰部G在整个钻石中的厚度均匀变化。

为了提供足够的光线折射以产生八心八箭图案的目的，以非常接近但略微不同的角度和深度来抛光主冠部和亭部刻面。

本发明的椭圆形钻石包括下列刻面：

8 主冠部刻面

8 主亭部刻面

16 冠部半刻面

16 亭部半刻面

8 冠部星刻面

桌刻面

12 副亭部刻面

为了获得八心八箭图案，主亭部角度和主冠部角度必须在很窄的范围内被抛光。优选地，主亭部角度应该在40.5°至41.1°的范围内，并且主冠部角度在33.8°至35.2°之间被抛光。亭部半刻面应该在42.0°至42.6°的角度范围内被抛光，其中在短边上的亭部半刻面的深度分别比在长边和角边上的深度更大。

为了在椭圆形钻石中产生最优的八心八箭图案，钻石应该被切割以满足在下面的表Ⅱ中所列的最优参数：

表Ⅱ

亭部半部高度(测量的从钻石的腰部到底尖点的距离)应在下列范围中：71.5％-78.8％。

冠部星角度范围：比主冠部刻面角度更平7.6°–12.8°，冠部星刻面彼此不接触。

冠部半部：根据它们的位置比主冠部刻面角度更陡3.2°–8.2°。

腰部厚度：1％–7.5％

底尖必须被抛光在完美地中心的点中：允许0.8％的容差。

除了实现八心八箭图案的上述参数，更优的美观的钻石刻面应该被切割以满足下面的表Ⅲ中的标准：

表Ⅲ

彼此45°地抛光八个主亭部刻面；在长边上的两个主亭部刻面在40.9°至41.2°，在对角边上的四个主亭部刻面在40.6°至40.9°，并且在短边上的两个主亭部刻面在40.4至40.7°；

以65°至73°的角度抛光副亭部刻面；

十六个亭部半部的抛光：亭部半部必须在42.0°至42.6°的角度范围被抛光。在短边上的亭部半刻面在相对地靠近底尖的点彼此相交，在对角边上的亭部半刻面也在某点相交，并且在长边上的亭部半刻面在相对靠近底尖的点彼此相交，其中亭部半部相交的每个点与底尖间隔相同的距离；

十六个冠部半部比根据其位置的主亭部刻面更陡3.8°至82°地抛光。