一种便于除污的多齿梳子的制作方法

文档序号:15953485发布日期:2018-11-16 20:57阅读:459来源:国知局
一种便于除污的多齿梳子的制作方法

本发明属于日常生活用品领域,具体为一种便于除污的多齿梳子。



背景技术:

多齿梳子由于其面板上设置了大量梳齿,虽然其能提高头发的梳理效率,但是也导致脱落的头发缠绕在梳齿上无法快速清除掉,同时由于多齿梳子的梳齿呈面状分布,导致梳齿上的污渍较难清洗掉,采用普通的毛刷无法对中间位置梳齿上的污渍进行清除。



技术实现要素:

本发明的目的是针对以上问题,提供一种便于除污的多齿梳子,它既能快速将缠绕在其上的发丝去除掉,同时除污更加快速方便。

为实现以上目的,本发明采用的技术方案是:一种便于除污的多齿梳子,它包括均匀设置在背板上的梳齿,所述背板一端连接手柄,所述梳齿套接在除污板上;所述除污板上设置有用于插入梳齿的小孔;所述除污板背面设置有伸缩轴;所述伸缩轴插入到背板上的轴孔内;所述伸缩轴上设置有压缩弹簧;所述压缩弹簧位于除污板和背板之间;所述除污板上设置有导磁板;所述手柄内设置有滑轴,所述滑轴前端延伸进入背板内;所述滑轴前端设置有磁铁;所述磁铁位于导磁板上方;所述滑轴尾端设置有内弹簧;所述滑轴上设置有拨动块;所述拨动块设置在手柄外壁的长条槽内。

进一步的,所述除污板背面设置有固定套连接小孔;所述固定套内设置有海绵套;所述固定套端面设置有沉孔。

进一步的,所述除污板边缘呈向背板侧弯曲的圆弧形状。

进一步的,所述导磁板为铁板或磁铁板。

进一步的,所述背板内设置有用于磁铁滑动的活动腔。

进一步的,所述伸缩轴端头直径大于轴孔直径。

本发明的有益效果:

通过拨动拨动块即可控制磁铁来回伸缩,通过磁力促使除污板在梳齿上来回滑动,因此也使得梳齿上缠绕的发丝能被除污板定出来,使用者能快速清除掉头发,同时除污板来回滑动可以将每个梳齿上的污渍进行清除,通过控制除污板来回移动结合水洗,能快速清除污渍。

附图说明

图1为本发明内部结构示意图。

图2为图1左视图。

图3为除污板结构示意图。

图中:1、手柄;2、背板;3、梳齿;4、除污板;5、伸缩轴;6、磁铁;7、滑轴;8、拨动块;9、内弹簧;10、活动腔;11、导磁板;12、压缩弹簧;13、固定套;14、海绵套;15、沉孔;16、长条槽。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明进行详细描述,本部分的描述仅是示范性和解释性,不应对本发明的保护范围有任何的限制作用。

如图1-图3所示,本发明的具体结构为:一种便于除污的多齿梳子,它包括均匀设置在背板2上的梳齿3,所述背板2一端连接手柄1,所述梳齿3套接在除污板4上;所述除污板4上设置有用于插入梳齿3的小孔;所述除污板4背面设置有伸缩轴5;所述伸缩轴5插入到背板2上的轴孔内;所述伸缩轴5上设置有压缩弹簧12;所述压缩弹簧12位于除污板4和背板2之间;所述除污板4上设置有导磁板11;所述手柄1内设置有滑轴7,所述滑轴7前端延伸进入背板2内;所述滑轴7前端设置有磁铁6;所述磁铁6位于导磁板11上方;所述滑轴7尾端设置有内弹簧9;所述滑轴7上设置有拨动块8;所述拨动块8设置在手柄1外壁的长条槽16内。

优选的,所述除污板4背面设置有固定套13连接小孔;所述固定套13内设置有海绵套14;所述固定套13端面设置有沉孔15。

优选的,所述除污板4边缘呈向背板2侧弯曲的圆弧形状。

优选的,所述导磁板11为铁板或磁铁板。

优选的,所述背板2内设置有用于磁铁6滑动的活动腔10。

优选的,所述伸缩轴5端头直径大于轴孔直径。

本发明具体使用原理:

用手推动拨动块8后移,磁铁6离开除污板4正上方,除污板4上的导磁板11失去磁力吸引,同时受到压缩弹簧12的推力,使得除污板4沿梳齿3方向往上移动,将梳齿3上缠绕的发丝和污渍推出来,方便用户快速清理。

松开拨动块8,在内弹簧9的弹力作用下,伸缩轴5往前移动,磁铁6移动到除污板4正上方,导磁板11受到磁铁6的强力磁力吸引,除污板4沿梳齿3方向往下移动,将压缩弹簧12压缩住。

需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,由于文字表达的有限性,而客观上存在无限的具体结构,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进、润饰或变化,也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合;这些改进润饰、变化或组合,或未经改进将发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均应视为本发明的保护范围。

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