专利名称：红外理疗设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种红外理疗设备。
背景技术：
红外理疗是目前流行的护理保健和治疗疾病的方法，为此人们研制了各种红外
理疗设备。现有技术揭示一种远红外理疗设备。请参见图1，该远红外理疗设备包括一支 架1、一外壳2、一反射板3以及多个红外辐射管4。所述支架1由软管11和合页式底座 (图未标)组成。所述合页式底座由上页12和下页13组成。所述上页12内设有控制电 路板14，所述下页13内设有配重铁15。所述控制电路板14用来定时控制和调节功率。 所述合页式底座通过软管11与外壳2相连。所述反射板3与红外辐射管4设置于外壳2 内。所述红外辐射管4的两电极(图未示)与控制电路板14电连接。所述外壳2还包 括一反射罩21以防止使用者与红外辐射管4接触。请参见图2，所述红外辐射管4通常 包括一基体41、缠绕于基体41外的电热丝42以及设置于电热丝42外的黑磁管43。所 述黑磁管43由以下方法制备将氧化钴、氧化锰、氧化铝、碳化硅、黄粘土混合研磨， 形成混合粉体；将所述混合粉体加水炼泥，挤压成管状预制体并在低温下烘干；将所述 管状预制体在高温下烧结形成管；以及按所需长度切割该管形成上述黑磁管43。然而，该远红外理疗设备具有以下不足所述制备黑磁管的红外辐射材料通常 为陶瓷、硅氧化物或金属氧化物等，该红外辐射材料的红外线辐射效率较低，从而使红 外理疗设备的红外线辐射效率较低。
发明内容
有鉴于此，确有必要提供一种红外线辐射效率较高的红外理疗设备。一种红外理疗设备，其包括一支撑元件，一设置于该支撑元件上的红外发射元 件，其中，该红外发射元件包括一碳纳米管结构。相较于现有技术，由于本发明提供的红外理疗设备中红外发射元件包括一碳纳 米管结构，碳纳米管具有较高的红外辐射效率，故该红外理疗设备的红外辐射效率较高。
图1为现有技术中的红外理疗设备的结构分解图。 图2为现有技术中的红外理疗设备中的黑磁管的结构示意图。图3为本发明第一实施例提供的红外理疗设备的结构示意图。图4为本发明第一实施例提供的红外理疗设备的结构分解图。图5为本发明第一实施例提供的红外理疗设备中的碳纳米管拉膜的扫描电镜照 片。
图6为本发明第一实施例的红外理疗设备中的碳纳米管碾压膜中的碳纳米管沿 同一方向择优取向排列的扫描电镜照片。图7为本发明第一实施例的红外理疗设备中的碳纳米管碾压膜中的碳纳米管沿 不同方向择优取向排列的扫描电镜照片。图8为本发明第一实施例的红外理疗设备中的碳纳米管絮化膜的扫描电镜照 片。图9为本发明第一实施例的红外理疗设备中的非扭转的碳纳米管线的扫描电镜 照片。图10为本发明第一实施例的红外理疗设备中的扭转的碳纳米管线的扫描电镜照 片。图11为本发明第二实施例的红外理疗设备的结构分解图。图12为本发明第三实施例的红外理疗设备的结构分解图。
具体实施例方式以下将结合附图对本发明提供的红外理疗设备作进一步的详细说明。请参阅图3至图4，本发明第一实施例提供一种红外理疗设备20，其包括一支架 210，一支撑元件202设置于该支架210上，一设置于该支撑元件202上的红外发射元件 204以及一反射元件206和一防护罩208分别设置于该红外发射元件204的两侧。所述支架210用来支撑该支撑元件202，其结构与材料不限，可以根据实际需要 设计。本实施例中，所述支架210包括一座体2102，一一端设置于该座体2102上的支杆 2104以及与该支杆2104另一端连接的一固定架2106。所述座体2102为一金属圆盘，所 述支杆2104为一金属管，所述支杆2104的一端可以焊接固定于座体2102上。所述固定 架2106用于连接所述支杆2104与支撑元件202，其形状不限，具体可根据所述支撑元件 202的形状进行选择。本实施例中，所述固定架2106为一半圆弧状金属杆。所述固定 架2106通过一第一转动部2108与支杆2104连接，使该固定架2106可以相对于支杆2104 前后旋转，从而使该红外理疗设备20具有较大的辐射面积或利于辐射区域内的间歇式加 热。可以理解，所述支架210为一可选择结构，即该红外理疗设备20使用时可以通过悬 挂等方式设置于需要护理保健的部位附近。所述支撑元件202通过一第二转动部2110与固定架2106连接，使该支撑元件 202可以相对于固定架2106左右旋转。所述支撑元件202的形状与大小不限，可以根据 实际需要设计。所述支撑元件202为由绝缘材料制成的框架，该绝缘材料包括玻璃、陶 瓷、树脂、木质材料、石英、塑料等中的一种或多种。本实施例中，所述支撑元件202 为一耐高温树脂做的圆形的框架。该框架的边上可进一步设置有多个散热孔2022以即时 散发红外理疗设备20内的局部积热，保证红外理疗设备20正常工作。 所述红外发射元件204的大小与形状与作为支撑元件202的框架的大小与形状相 对应。所述红外发射元件204固定于支撑元件202上。所述红外发射元件204固定于支 撑元件202上的方式不限，可通过粘结剂等方式固定。所述粘结剂应为耐高温粘结剂。 所述红外发射元件204与导线(图未示)、开关(图未示)以及控制电路(图未示)电连 接至一电源线212。本实施例中，所述红外发射元件204分别与间隔设置的第一电极214以及第二电极216电连接，并分别通过第一电极214以及第二电极216与电源线212电连
接。 所述红外发射元件204包括一碳纳米管结构。所述碳纳米管结构为一自支撑结 构。所谓“自支撑结构”即该碳纳米管结构无需通过一支撑体支撑，也能保持自身特定 的形状。该自支撑结构的碳纳米管结构包括多个碳纳米管，该多个碳纳米管通过范德华 力相互吸引，从而使碳纳米管结构具有特定的形状。所述碳纳米管结构中的碳纳米管包 括单壁碳纳米管、双壁碳纳米管及多壁碳纳米管中的一种或多种。所述单壁碳纳米管的 直径为0.5纳米 50纳米，所述双壁碳纳米管的直径为1.0纳米 50纳米，所述多壁碳 纳米管的直径为1.5纳米 50纳米。所述碳纳米管的长度不限，优选地，碳纳米管的长 度大于100微米。该碳纳米管结构可以为面状或线状结构。由于该碳纳米管结构具有自 支撑性，故该碳纳米管结构在不通过支撑体支撑时仍可保持面状或线状结构。所述碳纳 米管结构的单位面积热容小于2X10—4焦耳每平方厘米开尔文。优选地，所述碳纳米管结 构的单位面积热容小于等于1.7X10—6焦耳每平方厘米开尔文。由于该碳纳米管结构中的 碳纳米管具有很好的柔韧性，使得该碳纳米管结构具有很好的柔韧性，可以弯曲折叠成 任意形状而不破裂。所述碳纳米管结构包括至少一碳纳米管膜、至少一碳纳米管线状结构或其组 合。具体地，所述碳纳米管膜可以为碳纳米管拉膜、碳纳米管絮化膜或碳纳米管碾压 膜。所述碳纳米管线状结构可以包括至少一个碳纳米管线、多个碳纳米管线平行排列组 成的束状结构或多个碳纳米管线相互扭转组成的绞线结构。当碳纳米管结构包括多个碳 纳米管线状结构时，多个碳纳米管线状结构可以相互平行设置，交叉设置或编织设置形 成一层状结构。当碳纳米管结构同时包括碳纳米管膜和碳纳米管线状结构时，所述碳纳 米管线状结构可设置于至少一碳纳米管膜的至少一表面。所述碳纳米管膜包括均勻分布的碳纳米管，碳纳米管之间通过范德华力紧密结 合。该碳纳米管膜中的碳纳米管为无序排列或有序排列。这里的无序排列指碳纳米管的 排列无规则，这里的有序排列指至少多数碳纳米管的排列方向具有一定规律。具体地， 当碳纳米管膜包括无序排列的碳纳米管时，碳纳米管相互缠绕；当碳纳米管结构包括有 序排列的碳纳米管时，碳纳米管沿一个方向或者多个方向择优取向排列。所述碳纳米管结构的长度，宽度以及厚度不限，可以根据实际需要制备。可以 理解，碳纳米管结构的热响应速度与其厚度有关。在相同面积的情况下，碳纳米管结构 的厚度越大，热响应速度越慢；反之，碳纳米管结构的厚度越小，热响应速度越快。当 所述碳纳米管结构的厚度为1微米 1毫米，碳纳米管结构在小于1秒的时间内就可以达 到最高温度。所述碳纳米管拉膜为从碳纳米管阵列中直接拉取获得的一种具有自支撑性的碳 纳米管膜。每一碳纳米管拉膜包括多个基本沿同一方向且平行于碳纳米管拉膜表面排列 的碳纳米管。所述碳纳米管通过范德华力首尾相连。请参阅图5，具体地，每一碳纳米 管拉膜包括多个连续且定向排列的碳纳米管片段。该多个碳纳米管片段通过范德华力首 尾相连。每一碳纳米管片段包括多个相互平行的碳纳米管，该多个相互平行的碳纳米管 通过范德华力紧密结合。该碳纳米管片段具有任意的宽度、厚度、均勻性及形状。所述 碳纳米管拉膜的厚度为0.5纳米 100微米，宽度与拉取该碳纳米管拉膜的碳纳米管阵列的尺寸有关，长度不限。所述碳纳米管拉膜及其制备方法具体请参见范守善等人于2007 年2月9日申请的，于2008年8月13日公开的第CN101239712A号中国公开专利申请 “碳纳米管膜结构及其制备方法”。为节省篇幅，仅引用于此，但上述申请所有技术揭 露也应视为本发明申请技术揭露的一部分。当该碳纳米管结构由碳纳米管拉膜组成，且 碳纳米管结构的厚度比较小时，例如小于10微米，该碳纳米管结构有很好的透明度，其 透光率可以达到96%，可以用于制造一透明热源。当所述碳纳米管结构包括层叠设置的多层碳纳米管拉膜时，相邻两层碳纳米管 拉膜中的择优取向排列的碳纳米管之间形成一交叉角度α，且α大于等于0度小于等于 90度(0° S α《90° )。所述多个碳纳米管拉膜之间或一个碳纳米管拉膜之中的相邻的碳 纳米管之间具有一定间隙，从而在碳纳米管结构中形成多个微孔，微孔的孔径约小于10 微米。本发明实施例的碳纳米管结构可以包括多个沿相同方向层叠设置的碳纳米管拉 膜，从而使碳纳米管结构中的碳纳米管均沿同一方向择优取向排列。所述碳纳米管碾压膜包括均勻分布的碳纳米管，碳纳米管沿同一方向或不同方 向择优取向排列。所述碳纳米管碾压膜中的碳纳米管部分交叠，并通过范德华力相互吸 弓丨，紧密结合，使得该碳纳米管结构具有很好的柔韧性，可以弯曲折叠成任意形状而不 破裂。且由于碳纳米管碾压膜中的碳纳米管之间通过范德华力相互吸引，紧密结合，使 碳纳米管碾压膜为一自支撑的结构。所述碳纳米管碾压膜可通过碾压一碳纳米管阵列获 得。所述碳纳米管碾压膜 中的碳纳米管与形成碳纳米管阵列的生长基底的表面形成一夹 角β，其中，β大于等于0度且小于等于15度(0《β《15° )，该夹角β与施加在碳纳 米管阵列上的压力有关，压力越大，该夹角越小，优选地，该碳纳米管碾压膜中的碳纳 米管平行于该生长基底排列。该碳纳米管碾压膜为通过碾压一碳纳米管阵列获得，依据 碾压的方式不同，该碳纳米管碾压膜中的碳纳米管具有不同的排列形式。具体地，请参 阅图6，当沿同一方向碾压时，碳纳米管沿一固定方向择优取向排列。请参阅图7，当沿 不同方向碾压时，碳纳米管沿不同方向择优取向排列。当沿垂直于碳纳米管阵列的方向 碾压时，碳纳米管膜各向同性。该碳纳米管碾压膜中碳纳米管的长度大于50微米。所述 碳纳米管碾压膜及其制备方法具体请参见范守善等人于2007年6月1日申请的，于2008 年12月3日公开的第CN101314464A号中国专利申请“碳纳米管薄膜的制备方法”。为 节省篇幅，仅引用于此，但上述申请所有技术揭露也应视为本发明申请技术揭露的一部 分。该碳纳米管碾压膜的面积和厚度不限，可根据实际需要选择。该碳纳米管碾压 膜的面积与碳纳米管阵列的尺寸基本相同。该碳纳米管碾压膜厚度与碳纳米管阵列的高 度以及碾压的压力有关，可为1微米 1毫米。可以理解，碳纳米管阵列的高度越大而 施加的压力越小，则制备的碳纳米管碾压膜的厚度越大；反之，碳纳米管阵列的高度越 小而施加的压力越大，则制备的碳纳米管碾压膜的厚度越小。所述碳纳米管碾压膜中的 相邻的碳纳米管之间具有一定间隙，从而在碳纳米管碾压膜中形成多个微孔，微孔的孔 径约小于10微米。所述碳纳米管结构可包括至少一碳纳米管絮化膜，该碳纳米管絮化膜包括相互 缠绕且均勻分布的碳纳米管。碳纳米管的长度大于10微米，优选地，碳纳米管的长度大于等于200微米且小于等于900微米。所述碳纳米管之间通过范德华力相互吸引、缠绕， 形成网络状结构。所述碳纳米管絮化膜中的碳纳米管为均勻分布，无规则排列，使得该 碳纳米管絮化膜各向同性。所述碳纳米管絮化膜中的碳纳米管形成大量的微孔结构，微 孔孔径约小于10微米。所述碳纳米管絮化膜的长度和宽度不限。请参阅图8 ，由于在 碳纳米管絮化膜中，碳纳米管相互缠绕，因此该碳纳米管絮化膜具有很好的柔韧性，且 为一自支撑结构，可以弯曲折叠成任意形状而不破裂。所述碳纳米管絮化膜的面积及厚 度均不限，厚度为1微米 1毫米，优选为100微米。所述碳纳米管絮化膜及其制备方 法具体请参见范守善等人于2007年4月13日申请的，于2008年10月15日公开的第 CN101284662A号中国专利申请“碳纳米管薄膜的制备方法”。为节省篇幅，仅引用于 此，但上述申请所有技术揭露也应视为本发明申请技术揭露的一部分。所述碳纳米管线包括多个沿碳纳米管线轴向定向排列的碳纳米管。所述碳纳米 管线可以为非扭转的碳纳米管线或扭转的碳纳米管线。该非扭转的碳纳米管线为将碳纳 米管拉膜通过有机溶剂处理得到。请参阅图9，该非扭转的碳纳米管线包括多个沿碳纳米 管线长度方向排列的碳纳米管。该扭转的碳纳米管线为采用一机械力将所述碳纳米管拉 膜两端沿相反方向扭转获得。请参阅图10，该扭转的碳纳米管线包括多个绕碳纳米管线 轴向螺旋排列的碳纳米管。该非扭转的碳纳米管线与扭转的碳纳米管线长度不限，直径 为0.5纳米 100微米。所述碳纳米管线及其制备方法具体请参见范守善等人于2002年 9月16日申请的，于2008年8月20日公告的第CN100411979C号中国公告专利“一种 碳纳米管绳及其制造方法”，以及于2005年12月16日申请的，于2007年6月20日公 开的第CN1982209A号中国公开专利申请“碳纳米管丝及其制作方法”。为节省篇幅， 仅引用于此，但上述申请所有技术揭露也应视为本发明申请技术揭露的一部分。进一步地，可采用一挥发性有机溶剂处理该扭转的碳纳米管线。在挥发性有机 溶剂挥发时产生的表面张力的作用下，处理后的扭转的碳纳米管线中相邻的碳纳米管通 过范德华力紧密结合，使扭转的碳纳米管线的直径及比表面积减小，密度及强度增大。由于该碳纳米管线为采用有机溶剂或机械力处理上述碳纳米管拉膜获得，该碳 纳米管拉膜为自支撑结构，所以该碳纳米管线为自支撑结构。另外，该碳纳米管线中相 邻碳纳米管间存在间隙，故该碳纳米管线具有大量微孔，且微孔的孔径约小于10微米。进一步所述碳纳米管结构表面还可以涂覆一层碳纳米管以外的红外发射材料。 所述红外发射材料包括陶瓷、硅氧化物及金属氧化物等中的一种或几种。可以理解，通 过涂覆一层碳纳米管以外的红外发射材料可以进一步提高该红外发射元件204的红外线 辐射效率。碳纳米管具有良好的导电性能以及热稳定性，作为一理想的黑体结构，具有比 较高的热辐射效率。将该红外理疗设备20连接导线接入电源电压后，通过在10伏 30 伏调节电源电压的大小，该红外理疗设备20可以辐射出波长较长的电磁波。通过温度测 量仪发现该红外理疗设备20的温度为50°C 500°C。对于具有黑体结构的物体来说，其 所对应的温度为200°C 450°C时就能发出人眼看不见的热辐射(红外线)，此时的热辐 射最稳定、效率最高，所产生的热辐射热量最大。由于该碳纳米管结构发出的波长大于 等于3微米且小于等于14微米的红外线约占整体波长的80%以上，而人体对波长大于等 于3微米且小于等于14微米的红外线具有最好的吸收效果，所以采用该碳纳米管结构的红外理疗设备20具有较好的理疗效果。 所述反射元件206，防护罩208的大小与形状与作为支撑元件202的框架的大小 与形状相对应。所述反射元件206固定于支撑元件202上。该反射元件206固定于支撑 元件202上的方式不限，可以采用螺栓固定、粘结剂固定或任何其他可以固定的方式。 所述反射元件206可以为一涂覆有红外反射层的基板，其用来反射红外发射元件204所发 射的红外线，使其向同一方向传播。本实施例中，所述反射元件206为一云母板，该云 母板设置于红外发射元件204的一侧，并固定于支撑元件202上。所述防护罩208为一多孔结构，如金属栅网或纤维编织的网状结构。所述金 属栅网可通过对金属板刻蚀或通过金属线编织而成。所述防护罩208既可以保护红外发 射元件204，还可以防止使用者意外触电。本实施例中，所述防护罩208为一金属栅网， 该金属栅网设置于红外发射元件204远离反射元件206的一侧，并固定于支撑元件202 上。所述金属栅网为通过对金属板刻蚀形成，其包括多个均勻分布的微孔。将防护罩 208固定于支撑元件202上的方式不限，可以为螺栓、粘结剂或任何可以固定的方式。所述红外理疗设备20在使用时，由于碳纳米管结构由均勻分布的碳纳米管组 成，且该碳纳米管结构为膜状、具有较大的比表面积且厚度较小，故该碳纳米管结构具 有较小的单位面积热容和较大的散热表面，在输入音频信号后，碳纳米管结构可迅速升 降温，产生周期性的温度变化，并和周围介质快速进行热交换，使周围介质迅速膨胀和 冷缩，进而发出声音。故，所述红外理疗设备20还可以发声。当通过电源线212输入 电信号时，所述红外发射元件204的发声原理为“电-热-声”的转换。请参阅图11，本发明第二实施例提供一种红外理疗设备30，其包括一支架 310，一支撑元件302设置于该支架310上，一设置于该支撑元件302上的红外发射元件 304，一第一电极314，一第二电极316，以及两个防护罩308分别设置于该红外发射元件 304的两侧。本发明第二实施例提供的红外理疗设备30与本发明第一实施例提供的红外理疗 设备20的结构相似，其区别在于，所述红外发射元件304两侧分别设置有一防护罩308。 可以理解，该红外理疗设备30可以同时向两个相反的方向辐射红外线，从而可实现对多 个人或多个部位同时进行护理保健。请参阅图12，本发明第三实施例提供一种红外理疗设备40，其包括一支架 410，一支撑元件402设置于该支架410上，一设置于该支撑元件402上的红外发射元件 404，一第一电极414，一第二电极416，以及一反射元件406和一防护罩408分别设置于 该红外发射元件404两侧。所述红外发射元件404包括一绝缘基底4042及一设置于该绝 缘基底4042表面的碳纳米管结构4044。本发明第三实施例提供的红外理疗设备40与本发明第一实施例提供的红外理疗 设备20的结构相似，其区别在于，所述红外发射元件404进一步包括一绝缘基底4042， 所述碳纳米管结构4044设置于该绝缘基底4042表面。优选地，该碳纳米管结构4044设 置于该绝缘基底4042靠近防护罩408的表面。可以理解，由于碳纳米管结构4044设置 于该绝缘基底4042表面，所以该碳纳米管结构4044可无需具有自支撑结构，直接通过该 绝缘基底4042支撑。所以碳纳米管结构4044可以为通过丝网印刷等方法形成的碳纳米 管结构。该碳纳米管结构4044可包括多个碳纳米管无序分布。所述绝缘基底4042由绝缘材料制作。本实施例中，所述绝缘基底4042为一陶瓷圆片。可以理解，本实施例中，当碳纳米管结构4044具有自支撑结构时，为了使红外 理疗设备40可以发声，可以将该碳纳米管结构4044悬空设置于两个间隔设置的支撑体 (图未示)上。本发明第四实施例提供一种红外理疗设备，其包括一支架，一支撑元件设置于 该支架上，一设置于该支撑元件上的红外发射元件，以及两个防护罩分别设置于该红外 发射元件两侧。所述红外发射元件包括一绝缘基底，一设置于该绝缘基底表面的碳纳米 管结构，以及一设置于该绝缘基底另一表面的红外发生层。本发明第四实施例提供的红外理疗设备与本发明第二实施例提供的红外理疗设 备的结构相似，其区别在于，所述红外发射元件包括一绝缘基底，一设置于该绝缘基底 表面的碳纳米管结构，以及一设置于该绝缘基底另一表面的红外发生层(图未示)。所述 红外发生层的材料包括陶瓷、硅氧化物及金属氧化物等中的一种或几种。可以理解，本实施例中，当碳纳米管结构具有自支撑结构时，为了使红外理疗 设备可以发声，可以将该碳纳米管结构悬空设置于两个间隔设置的支撑体(图未示)上。 所述红外理疗设备在使用时，可以将其设置于需要护理保健的部位表面或将其 与需要护理保健的部位间隔设置。所述红外理疗设备具有以下优点第一，由于本发明提供的红外理疗设备中红 外发射元件包括一碳纳米管结构，且碳纳米管具有较高的红外辐射效率，故该红外理疗 设备的红外线辐射效率较高。第二，该红外理疗设备中红外发射元件可无需专门的加热 装置，结构简单。第三，由于碳纳米管具有纳米级的直径，使得制备的碳纳米管结构可 以具有较小的厚度，从而有利于制备微型红外理疗设备。第四，由于所述碳纳米管结构 的单位面积热容小于2X 10_4焦耳每平方厘米开尔文，所以当对红外发射元件施加一音频 信号时，该红外理疗设备还可以发声。因此，该红外理疗设备同时兼有护理保健和播放 音乐的功能。第五，采用碳纳米管结构制备红外发射元件，工艺简单，成本较低。另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其他变化，当然，这些依据本发 明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
权利要求
1.一种红外理疗设备，其包括一支撑元件，一设置于该支撑元件上的红外发射元 件，其特征在于，该红外发射元件包括一碳纳米管结构。
2.如权利要求1所述的红外理疗设备，其特征在于，所述碳纳米管结构包括至少一碳 纳米管膜、至少一碳纳米管线状结构或其组合。
3.如权利要求2所述的红外理疗设备，其特征在于，所述碳纳米管膜包括多个碳纳米 管基本沿同一方向排列，且该多个碳纳米管通过范德华力首尾相连。
4.如权利要求2所述的红外理疗设备，其特征在于，所述碳纳米管膜包括沿一固定方 向或不同方向择优取向排列的多个碳纳米管。
5.如权利要求2所述的红外理疗设备，其特征在于，所述碳纳米管膜包括多个相互缠 绕的碳纳米管。
6.如权利要求2所述的红外理疗设备，其特征在于，所述碳纳米管线状结构包括至少 一非扭转的碳纳米管线、至少一扭转的碳纳米管线或其组合。
7.如权利要求6所述的红外理疗设备，其特征在于，所述非扭转的碳纳米管线包括多 个碳纳米管沿该非扭转的碳纳米管线长度方向平行排列，所述扭转的碳纳米管线包括多 个碳纳米管沿该扭转的碳纳米管线长度方向呈螺旋状排列。
8.如权利要求1所述的红外理疗设备，其特征在于，所述碳纳米管结构的单位面积热 容小于2X ΙΟ"4焦耳每平方厘米开尔文。
9.如权利要求1所述的红外理疗设备，其特征在于，所述红外发射元件进一步包括一 层红外发射材料涂覆于碳纳米管结构表面。
10.如权利要求1所述的红外理疗设备，其特征在于，所述红外发射元件进一步包括 一绝缘基底，所述碳纳米管结构设置于该绝缘基底表面。
11.如权利要求10所述的红外理疗设备，其特征在于，所以碳纳米管结构通过丝网印 刷等方法形成于绝缘基底表面。
12.如权利要求10所述的红外理疗设备，其特征在于，所述红外发射元件进一步包 括一红外发生层，该红外发生层与所述碳纳米管结构分别设置于该绝缘基底两相对的表
13.如权利要求1所述的红外理疗设备，其特征在于，所述红外理疗设备进一步包括 一反射元件和一防护罩分别设置于该红外发射元件相对的两侧。
14.如权利要求1所述的红外理疗设备，其特征在于，所述红外理疗设备进一步包括 一支撑所述支撑元件的支架，该支架包括一座体，一一端设置于该座体上的支杆以及与 该支杆另一端可转动连接的一固定架。
15.如权利要求14所述的红外理疗设备，其特征在于，所述支撑元件为一绝缘框架， 且该支撑元件通过一转动部与所述固定架连接。
全文摘要
本发明涉及一种红外理疗设备，其包括一支撑元件，一设置于该支撑元件上的红外发射元件，其中，该红外发射元件包括一碳纳米管结构。
文档编号A61N5/06GK102019039SQ20091019041
公开日2011年4月20日 申请日期2009年9月11日 优先权日2009年9月11日
发明者冯辰, 刘亮, 姜开利, 范守善 申请人:清华大学, 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司