专利名称：可微调矫正区域的足弓矫正垫及其矫正方法
技术领域：
本发明涉及一种可微调矫正区域的足弓矫正垫及其矫正方法，特别是指一种可对异常足弓进行精确微支撑，使产生精确矫正效果的足弓矫正垫设计，以及利用该矫正垫进行矫正的方法。
背景技术：
人类的足部必须有良好的肌力、柔软度和协调性，才能承受来自全身体重的压力，同时提供我们走路、跑步和跳跃等行进支撑，足部包含二十六块骨头，由复杂且致密的韧带和筋膜包围连结，而且整个足部就像拱形或弓形结构，具有良好的弹性。大体上，该足部具有三个重要的足弓，即内侧纵弓、外侧纵弓及横弓，主要在提供足部结构避震功能，使活动时富有弹性，是足部承重时减少伤害并延缓疲劳发生的重要结构。如图I与图2所示，以左足而言，该内侧纵弓91是由跟骨92、距骨93、舟状骨94、三块楔状骨95和三块内侧跖骨961 963所构成，整体骨架大致是以距骨93为基石，使具 有较佳的柔软度和较大的曲度，而有利于吸震。另外，该外侧纵弓97由跟骨92、骰骨98及第四、第五跖骨964、965所构成，而以骰骨98为基石，该外侧纵弓97较扁平且活动度不大，有利于支撑。该横弓99 一般指脚掌前五块妬骨961 965的基部所构成。此横弓99的前方就是所谓的跖弓(图未示)，跖弓只在不负重状态才会存在，当人体站立会使跖弓趋于扁平。五根足趾主要是在步行末期时做推蹬、抓持与顶挡的动作，对于人体的移动敏捷性有举足轻重的功效。而肌群及韧带则能协助人体平衡及稳定。然而，人类由于先天或后天的影响，足部的结构大致可分为如图5所示足弓使用率示意图中的超高足弓80、高足弓81、微高足弓82、一般正常足弓83、微平足弓84、平足弓85及超平足弓86 (即扁平足)等多种类型，其中的微平足弓84、平足弓85及超平足弓86等「扁平足」，主要由于韧带或肌腱先天性发育不良，舟状骨94向下移位，或发生骨折等情形，导致内侧纵弓91塌陷而形成，站立时，重量会集中在双脚的内侧部位，而且在行走间，上述的距骨93及舟状骨94旋转与下降幅度过大，将常态性使得其上方的胫骨901产生偏斜，日久即容易产生一些慢性并发症。因此，现今市面上用于矫正脚型的「矫正器」，大都是针对扁平足的足形，用于矫正内侧纵弓91的塌陷现象。请参图3与图4所示，以目前人体的足形而言，大多数的人在站立时，足部会呈「翻脚刀」，也即重量较集中在双脚的后跟外侧，造成跟骨92外斜、后足部外翻的现象，此将使得跟骨92的内侧与距骨93间的距离缩短，甚至会向上牵连使得胫骨901偏斜，而与股骨902内侧的间隙变小，因而容易导致内侧半月板903软骨磨损，或膝关节内侧磨损，引发退化性关节炎，甚至腰部长期受到不当力量压迫形成腰酸与长骨刺、或有阿基里斯氏肌腱炎等并发症。为此，乃有人研发出一种用于垫设在鞋内的足形矫正器，可导正扁平足和高弓足不正常的内、外翻脚刀的情况，其中之一是提供一种足形矫正垫，该矫正垫大致呈一曲形板，并包含一具有纵向弧度及横向弧度的顶面及底面。该顶面于纵、横方向弧度的交会处具有一支撑足部跖骨的顶凸部。使用时，该顶面能承托在使用者的足底，用以顶压迫使足底服贴该顶面，凭借的以本身自有的正常的足弓形状，来改善脚部的力学机制，令脚底部呈现出完美的正常踩踏脚型。该现有的足形矫正器更包含复数形成在底面上的方形凹槽，所述的这些凹槽是对应位在该顶面的顶凸部下方。当使用者踩踏时，该顶凸部会相对受到最大作用力，此时，即能凭借所述的这些凹槽所提供的挠性变形裕度，让该足形矫正器具有较佳的弹性及吸震力，在踩踏上较为舒适。然而，上述现有足形矫正器的凹槽，在设计上密度较小，影响到顶凸部左右支撑的均匀度，使得弹性支撑点较为松散，使用时易造成偏斜，影响足形矫正器应有的矫正功能。且其凹槽为方形设计，当受到使用者踩踏末期(即踩越阶段)向下且朝前的踏蹬力时，所述的这些凹槽容易遭到挤迫而扭曲变形，所能提供的支撑性不足，且在使用一段时间之后，会造成该足形矫正器的力学支撑弹性降低，影响使用的功能。再者，经本发明人实际观察前述所谓的「脚型矫正器」的使用情形，发现尽管对 于例如扁平足具有矫正功效，但在其使用前，尚必需以打磨机器对该脚型矫正器及边贴合片进行修磨，以使该矫正器的支撑高度，能确实符合个别使用人的足弓曲度变化，作业上相当麻烦且难以掌握磨修的精确度；而且，该修整好的矫正器在使用一段时间后，前述「翻脚刀」的情形将会有所改变，而需再一次进行渐进性的调节，届时该旧有的矫正器即通常因修改调整不易而加以弃置，致使整个足弓矫正疗程需多次重新订做矫正器，造成极大的浪费及使用者较大的费用负担。有鉴于此，本案即在提供一种能改善上述传统足弓矫正垫应用上的缺失，且应用上更为方便经济的足弓矫正垫结构及其使用方法。
发明内容
本发明的主要目的，是在于改善设计一足弓主撑板，使该主撑板的底面，依需求布设有多数垫片定位部，配合所述的这些垫片定位部，并设具有若干微调垫片，凭借所述的这些微调垫片，可针对使用者不同足弓区域的高弓变化情况，分别施予不同位置与数量的微调垫片的排列组合垫加，使能更精确且灵活地消除该足弓施压率异常的情况。本发明依前述所提供的足弓垫结构，由于用于垫加结合的微调垫片，可以随需求而简易拆装调变，因此，对矫正过程所需要的定期追踪与调整，提供了可行且方便的操作途径，更能进一步避免产生传统足弓垫的使用过程，需因应不同阶段多次重新订作的不便与浪费。本发明依前述所提供的足弓垫结构，其中的微调垫片，更可设成多种尺寸与规格(长短厚薄)，以方便不同高低调整需求的灵活运用。本发明依前述所提供的足弓垫结构，其中的微调垫片更具有一微倾斜断面，恰能符合足弓逐渐向内或向外翻转的通常型态，更方便于实际应用的操作。本发明依前述的足弓垫结构，适可依造一完美而简便的处理步骤，提供一精确的足弓矫正方法，使得足弓矫正的作业更为精确符合使用者的需求，且进一步缩短且方便再调或复制的时程，以达降低作业成本的目的。为实现上述目的，本发明采用的技术方案是
一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于其包括至少一足弓主撑板及至少一微调垫片，该主撑板为一弓形板，且其底部依需求布设有多个垫片定位部；该调微调垫片为扁薄片，其一侧设有能够与该垫片定位部相配合的相对定着部。其中所述的主撑板底部设有一中段弯弓区域，且该中段弯弓区域内的垫片定位部密度高于其他区域。其中所述的微调垫片的轮廓为多边形。其中所述的微调垫片的轮廓为弧周形。其中所述的垫片定位部与相对定着部是凹坑与凸柱型态的配合。其中所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易黏毡与相对易黏毡结合。其中所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易粘胶加以结合。 其中所述的微调垫片的断面是楔状。其中所述的微调垫片的断面是中间厚周边薄的凸片造型。为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括—种足弓垫微调矫正区域的方法，其特征在于先以足底扫描机具得足压分记录及数据，在该记录及数据中取得足压空白区，然后，分别针对该足压空白区，在一足弓矫正垫的底部结合至少一微调垫片，以填补该足压空白区的支撑力。所述的微调垫片具有楔状断面。其中所述的微调垫片具有中间厚周边薄的断面。其中所述的微调垫片具有两种以上不同厚度。与现有技术相比较，本发明具有的有益效果是凭借所述的这些微调垫片，针对使用者不同足弓区域的高弓变化情况，分别施在该主撑板的底部，以不同高度及数量的微调垫片的垫加组合，以达到简易且精确矫正足弓施压率的异常状态，且方便于日后渐进性矫正的调整。
图I是一般人体足部骨架结构的俯视示意图；图2是一般人体足部骨架结构的内侧视示意图；图3是一般人体足部骨架结构的前视示意图；图4是一般人膝部关节骨架结构的示意图；图5是本发明足弓垫主撑板的立体示意图；图6是本发明的主撑板与微调垫片的组合前立体示意图；图7是本发明的主撑板与微调垫片的组合后立体示意图；图8是本发明的施作状态断面示意图；图9是足底扫描作业的实施示意图；图10是一般超闻型足弓的足压图像不意图；图IOA是本发明对应图10所示足弓所进行的主撑板及微调垫片的矫正组配型态示意图；图11是一般高型足弓的足压图像示意图；图IlA是本发明对应图11所示足弓所进行的主撑板及微调垫片的矫正组配型态示意图；图12是一般微高型足弓的足压图像示意图；图12A是本发明对应图12所示足弓所进行的主撑板及微调垫片的矫正组配型态示意图；图13是一般正常型足弓的足压图像示意图；图13A是本发明对应图13所示足弓所进行的主撑板及微调垫片的矫正组配型态示意图；图14是一般微平型足弓的足压图像示意图；图14A是本发明对应图14所示足弓所进行的主撑板及微调垫片的矫正组配型态示意图； 图15是一般扁平型足弓的足压图像示意图；图15A是本发明对应图15所示足弓所进行的主撑板及微调垫片的矫正组配型态示意图；图16是一般超扁平型足弓的足压图像示意图；图16A是本发明对应图16所示足弓所进行的主撑板及微调垫片的矫正组配型态示意图；附图标记说明10_主撑板；11-定位部；20_微调垫片；21_相对定着部；22_较厚或较高凸的部位；30_足压空白区；40_扫瞄机具；80_超高足弓；81_高足弓；82_微高足弓；83_正常足弓；84_微平足弓；85_平足弓；86_超平足弓；91_内侧纵弓；901_胚骨；902-股骨；903-内侧半月板；92_跟骨；93_距骨；94_舟状骨；95_楔状骨；961 965-跖骨；97_外侧纵弓；98_骰骨；99_横弓。
具体实施例方式有关于本发明前的述的技术内容，特点与功效，兹配合适当的实施例参考图，期得以更详细的说明如下；如图所示者请参图5至图8所示，本发明的足弓矫正垫，主要包括一足弓主撑板10及若干微调垫片20，该主撑板10的整体依照常态撑持需求制设成中央弧凸且前后降弯的弓形板，且其底面依需求率分配布设有多数垫片定位部11，该垫片定位部11可以是定位点或凹坑或粘胶或易黏毡等类似效果的结构，上述的需求率通常在该主撑板10的底部中段弯弓区域的分配密度较高，以方便于在该部位进行较精密地微调；另上述的微调垫片20是具柔软支撑材料制成的扁薄片，其一侧可配合前述垫片定位部11的型态，制成相搭配的相对定着部21，也即可以是相对定位点凸柱或粘胶或相对易黏毡等类似效果的结构，使所述的这些微调垫片20依需求位置，在主撑板10的底面进行排列组合粘贴，此外，所述的这些微调垫片20的轮廓可以依需求设成各种多边形或弧周形(图示者概为叶状形)，其断面可以是呈楔状或周边薄中间厚的凸片造型(图示者概为楔状)；而且可以制备多种厚度，以提供不同撑垫高度的需求。请参图5至图16A所示，本发明的足弓矫正垫的使用方法，是先利用适当扫瞄机具40(图9所示)，对使用者的足底进行踩踏足压分配情形进行扫描及记录，以判断使用者的足弓型态(例如图10至图16A即利用上述记录衍生的足压分布图，以及对应该足压分布图所进行的足弓垫矫正作业示意图)，而后依据该取得的记录，对足压空白区30进行密度(即数量较多而密集)和/或厚度较高的微调垫片20的垫加，例如图10所示的超高足弓80，以及图11所示的高足弓81均为典型的案例，图IOA及图IlA即为相对应的矫正作业实施例；反之，若是足压空白区30较小或接近无足压空白区30时，即减少垫加微调垫片20的密度和/或厚度，例如图13所示的正常足弓83，以及图14所示的微平足弓84，即配合图13A及图14A所为垫加较少或较薄微调垫片20的案例，图15及图16所示者，则完全无足压空白区30，则如图15A及图16A所示者，而无需再垫加任何微调垫片20 ;而且，请参图8所示者，上述微调垫片20的垫加，通常是将较厚或较高凸的部位22，对应于主撑板10的外侧，以使得在踩踏过程，对足部的外侧产生较大的支撑力，相对即产生较佳的防止足底外翻的效果；再者，上述微调垫片20的楔形边及低周边的设计，也方便于相邻微调垫片20高度的衔接，以提供支撑曲线的顺畅度。
综上所述，本发明的确足以提供一种可依照各种足弓异常型态，进行微调处理的足弓矫正垫结构及其处理方法，实施也极为方便可行，不仅前所未有，更具有产业上的可利用性，确为一不可多得的创新。以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于其包括至少一足弓主撑板及至少一微调垫片，该主撑板为一弓形板，且其底部依需求布设有多个垫片定位部；该微调垫片为扁薄片，且其一侧设有能够与该垫片定位部相配合的相对定着部。
2.根据权利要求I所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的主撑板底部设有一中段弯弓区域，且该中段弯弓区域内的垫片定位部密度高于其他区域。
3.根据权利要求I或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的轮廓为多边形。
4.根据权利要求I或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的轮廓为弧周形。
5.根据权利要求I或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部是凹坑与凸柱型态的配合。
6.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部是凹坑与凸柱型态的配合。
7.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部是凹坑与凸柱型态的配合。
8.根据权利要求I或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易黏毡与相对易黏毡结合。
9.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易黏毡与相对易黏毡结合。
10.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易黏毡与相对易黏毡结合。
11.根据权利要求I或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易粘胶加以结合。
12.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易粘胶加以结合。
13.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的垫片定位部与相对定着部之间，是以易粘胶加以结合。
14.根据权利要求I或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是楔状。
15.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是楔状。
16.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是楔状。
17.根据权利要求5所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是楔状。
18.根据权利要求8所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是楔状。
19.根据权利要求11所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是楔状。
20.根据权利要求I或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是中间厚周边薄的凸片造型。
21.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是中间厚周边薄的凸片造型。
22.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是中间厚周边薄的凸片造型。
23.根据权利要求5所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是中间厚周边薄的凸片造型。
24.根据权利要求8所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是中间厚周边薄的凸片造型。
25.根据权利要求11所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于所述的微调垫片的断面是中间厚周边薄的凸片造型。
26.一种足弓垫微调矫正区域的方法，其特征在于先以足底扫描机具得足压分记录及数据，在该记录及数据中取得足压空白区，然后，分别针对该足压空白区，在一足弓矫正垫的底部结合至少一微调垫片，以填补该足压空白区的支撑力。
27.根据权利要求I所述的足弓垫微调矫正区域的方法，其特征在于所述的微调垫片具有楔状断面。
28.根据权利要求I所述的足弓垫微调矫正区域的方法，其特征在于所述的微调垫片具有中间厚周边薄的断面。
29.根据权利要求I或2或3所述的足弓垫微调矫正区域的方法，其特征在于所述的微调垫片具有两种以上不同厚度。
全文摘要
本发明是有关一种可微调矫正区域的足弓矫正垫及其矫正方法，主要提供一足弓主撑板及若干微调垫片，在该主撑板的底面，依需求布设有多数垫片定位部；凭借所述的这些微调垫片，针对使用者不同足弓区域的高弓变化情况，分别施在该主撑板的底部，以不同高度及数量的微调垫片的垫加组合，以达到简易且精确矫正足弓施压率的异常状态，且方便于日后渐进性矫正的调整。
文档编号A61F5/01GK102813567SQ20111015518
公开日2012年12月12日 申请日期2011年6月10日 优先权日2011年6月10日
发明者陈升环 申请人:陈升环