专利名称：足底按摩装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及医疗保健领域，尤其涉及一种足底按摩装置。
背景技术：
众所周知，足底集中了人体大量的穴位，依据中医理论，按摩足底相关的穴位或反射区可以起到保健甚至治疗疾病的功效。因此，市场上出现了众多的足底按摩器。这些足底按摩器基本可以分为自动式和电动式两大类。自动式，即依靠人给予的动カ通过足底按摩器的反作用カ对足底进行按摩，这类装置大多结构简单，按摩方式単一，对足底的穴位或反射区的刺激较小，按摩的效果有限。而电动式，即为依靠电カ驱动对足底进行按摩，这种装置的按摩方式多祥化，对足底的穴位或反射区的刺激也较大，按摩效果较好，但是由于其依靠电カ驱动，因此对使用的环境也提出了要求，増加了电路的结构，也使得足底按摩器整 体体积较大，使用不够简便。
实用新型内容本实用新型的主要目的是提供ー种结构简单、使用方便且足底的穴位或反射区的刺激较大的足底按摩装置。本实用新型提供一种足底按摩装置，包括固定座、转动件和设置在转动件上的足底按摩件，其中，所述足底按摩件包括支撑柱和按摩头，所述按摩头呈一端封闭的管状设置，所述支撑柱收容在所述按摩头内，所述支撑柱的侧壁表面设有螺旋状凹槽，所述按摩头的内表面设置有与所述螺旋状凹槽适配的螺纹凸起，所述按摩件还包括缠绕所述支撑柱、其一端与所述按摩头底部相抵的复位弹簧；所述固定座呈底部封闭的管状设置，所述转动件收容在所述固定座内，绕所述固定座的内壁表面一周设置有波浪状凹槽，所述转动件的外表面设置有至少I个与所述波浪状凹槽适配的限位凸起，所述固定座内部设置有与转动件一起转动的转动盘，所述足底按摩件固定在转动盘上。优选地，所述按摩头外表面呈球面设置。优选地，所述按摩头外表面设置有若干凸起和/或凹陷。优选地，所述波浪状凹槽呈规则的周期排布，且一波峰与其前ー个波谷之间部分的坡度大于该波峰与其后ー个波谷之间部分的坡度。优选地，所述限位凸起的下表面呈斜面设置。本实用新型采用螺旋状凹槽与螺纹凸起配合，波浪状凹槽与限位凸起配合，使得按摩头不但可以上下运动而且可以旋转，增强了对足底穴位或反射区的刺激；同时还可以随转动件的转动而转动，避免了按摩头持续按摩ー个位置后足底产生的疼痛感，而且还可以模仿推拿按摩手法，使按摩方式更多样化。
[0011]图I为本实用新型足底按摩装置一实施例的结构示意图；图2为本实用新型足底按摩装置一实施例的俯视图；图3为本实用新型足底按摩装置一实施例中足底按摩件的结构示意图；图4为本实用新型 足底按摩装置一实施例中支撑柱的结构示意图；图5为本实用新型足底按摩装置一实施例中固定件的剖面结构示意图；图6为本实用新型足底按摩装置一实施例中固定件的波浪状凹槽的结构示意图；图7为本实用新型足底按摩装置一实施例中转动件的限位凸起的剖面结构示意图。本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，參照附图做进ー步说明。
具体实施方式
以下结合附图及具体实施例就本实用新型的技术方案做进ー步的说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。參照图I和图2，图I为本实用新型足底按摩装置一实施例的结构示意图；图2为本实用新型足底按摩装置一实施例的俯视图。在本实施例中，足底按摩装置20包括固定座21、转动件22和设置在转动件22上的足底按摩件10，固定座21呈底部封闭的管状设置，转动件22收容在固定座21内，绕所述固定座21的内壁表面一周设置有波浪状凹槽211，转动件22的外表面设置有至少I个与波浪状凹槽211适配的限位凸起221，固定座21内部设置有与转动件21 —起转动的转动盘，转动件21可相对于转动盘上下移动，足底按摩件10固定在转动盘上。參照图3和图4，图2为本实用新型足底按摩装置一实施例中足底按摩件的结构示意图；图3为本实用新型足底按摩装置一实施例中支撑柱的结构示意图。上述足底按摩件10包括支撑柱11和按摩头12，按摩头12呈一端封闭的管状设置，支撑柱11收容在按摩头12的空腔内。支撑柱11设置在ー个直径大于支撑柱11的支撑座上，支撑柱11的侧壁表面设有螺旋状凹槽111，按摩头12的内表面设置有与螺旋状凹槽111适配的螺纹凸起121，螺纹凸起121与螺旋状凹槽111配合可使按摩头12沿轴向转动，并且还在其轴向方向上发生位移。按摩件10还包括缠绕在支撑柱11上的复位弹簧13，复位弹簧13的一端与按摩头12底部相抵，另一端与撑柱11的支撑座相抵。当脚踩在足底按摩件10上并向下用カ时，在螺旋状凹槽111与螺纹凸起121的配合下，按摩头12将沿轴向转动，并且向下运动，此时复位弹簧13被压缩。当脚对足底按摩件10的力撤去时，复位弹簧13弾性恢复，在复位弹簧13的作用下，按摩头12将沿轴向转动，此次转动方向与前一次转动方向相反，并且向上运动。如此反复的踩踏足底按摩件10就可对足底进行按摩，而且可以转动的按摩头12对足底的穴位或反射区的刺激较大，按摩的效果比较明显，同时按摩的力度还可通过对足底按摩件10踩踏的力度进行调整。上述按摩头12的顶部外表面呈球面设置，可以增强按摩时的舒适感。上述按摩头12的外表面设置有若干颗粒状的凸起和/或凹陷，可以增加按摩头12的外表面的粗糙程度，增强按摩头12对足底的穴位或反射区的刺激程度。參照图5和图6，图5为本实用新型足底按摩装置一实施例中固定件的剖面结构示意图；图6为本实用新型足底按摩装置一实施例中固定件的波浪状凹槽的结构示意图.[0028]在本实施例中，波浪状凹槽211呈规则的周期排布，并且波浪状凹槽211的一波峰与该波峰前一个波谷之间部分的坡度大于该波峰与该波峰后一个波谷之间部分的坡度。波峰两侧坡度的不同，可以使限位凸起221运动到波峰时，更容易向坡度较小的方向运动，如此可以使转动件22做圆周自转运动。參照图7，图7为本实用新型足底按摩装置一实施例中转动件的限位凸起的剖面结构示意图。在本实施例中，限位凸起221的下表面呈斜面设置，配合上述实施例中的波浪状凹槽211，使得转动件22更容易做圆周自转运动。当脚踩在足底按摩装置20上并向下用カ时，在波浪状凹槽211与限位凸起221的配合下，转动件22可以相对于固定座21转动并且在轴向方向发生位移，此时复位弹簧13被压缩。当撤去脚对足底按摩件20向的カ时，复位弹簧13弾性恢复，转动件22又将相对于固定座21转动并且在轴向方向发生位移。如此反复，使得转动件22上设置的足底按摩 件10不但可以自转，而且还可以随转动件22的转动而转动，避免了足底按摩件10持续按摩ー个位置后，足底产生的疼痛感，而且还可以模仿推拿按摩手法，使足底按摩件20的按摩方式更多样化。本实用新型采用螺旋状凹槽111与螺纹凸起121配合，波浪状凹槽211与限位凸起221配合，使得按摩头12不但可以上下运动而且可以旋转，增强了对足底穴位或反射区的刺激；同时还可以随转动件22的转动而转动，避免了按摩头12持续按摩ー个位置后足底产生的疼痛感，而且还可以模仿推拿按摩手法，使按摩方式更多样化。以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
权利要求1.一种足底按摩装置，其特征在于，包括固定座、转动件和设置在转动件上的足底按摩件，其中，所述足底按摩件包括支撑柱和按摩头，所述按摩头呈一端封闭的管状设置，所述支撑柱收容在所述按摩头内，所述支撑柱的侧壁表面设有螺旋状凹槽，所述按摩头的内表面设置有与所述螺旋状凹槽适配的螺纹凸起，所述按摩件还包括缠绕所述支撑柱、其一端与所述按摩头底部相抵的复位弹簧； 所述固定座呈底部封闭的管状设置，所述转动件收容在所述固定座内，绕所述固定座的内壁表面一周设置有波浪状凹槽，所述转动件的外表面设置有至少I个与所述波浪状凹槽适配的限位凸起，所述固定座内部设置有与转动件一起转动的转动盘，所述足底按摩件固定在转动盘上。
2.如权利要求I所述的足底按摩装置，其特征在于，所述按摩头外表面呈球面设置。
3.如权利要求2所述的足底按摩装置，其特征在于，所述按摩头外表面设置有若干凸起和/或凹陷。
4.如权利要求I所述的足底按摩装置，其特征在于，所述波浪状凹槽呈规则的周期排布，且一波峰与其前ー个波谷之间部分的坡度大于该波峰与其后ー个波谷之间部分的坡度。
5.如权利要求I所述的足底按摩装置，其特征在于，所述限位凸起的下表面呈斜面设置。
专利摘要本实用新型足底按摩装置采用螺旋状凹槽与螺纹凸起配合，波浪状凹槽与限位凸起配合，使得按摩头不但可以上下运动而且可以旋转，增强了对足底穴位或反射区的刺激；同时还可以随转动件的转动而转动，避免了按摩头持续按摩一个位置后足底产生的疼痛感，而且还可以模仿推拿按摩手法，使按摩方式更多样化。
文档编号A61H39/04GK202409460SQ20112053368
公开日2012年9月5日 申请日期2011年12月19日 优先权日2011年12月19日
发明者谢光盛 申请人:谢光盛