卫生间/垃圾房除味器的制作方法

本实用新型涉及一种除异味装置，具体是一种卫生间和垃圾房用的除味器。

背景技术：

现有卫生间内一般用的是抽风机，大便后开启抽风机抽臭味时，会造成整个卫生间都是臭的，并且臭味长时间不能散去，故利用抽风机进行臭味清除效果很不好，故需要针对卫生间或垃圾房设计一款专门除臭或除异味的装置。

技术实现要素：

本实用新型的目的是克服现有技术中的不足，提供一种除异味效果好的卫生间/垃圾房除味器。

为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：

卫生间/垃圾房除味器，包括箱体、气流通道、风扇、负离子发生器以及与负离子发生器电连接的电极，电极安装在气流通道中，所述气流通道、风扇、负离子发生器位于箱体内，所述箱体的底部设有进风口，箱体的前侧壁上设有出风口，气流通道的一端与进风口连通，另一端与出风口连通，所述风扇设在气流通道中。

进一步地，所述风扇设在进风口处。

进一步地，所述箱体的后侧壁的两侧边分别安装有安装固定板，所述安装固定板上设有安装孔。

进一步地，所述进风口处设有防护网。

进一步地，所述出风口处设有防护网。

本实用新型的有益效果：

由于采用上述的结构形式，本专利具有安装方便、除异味效果好的特点；除味器可以通过安装固定板固定在卫生间/垃圾房的墙壁上，也可以吊挂固定在卫生间/垃圾房的天花板上，工作时，在风扇的作用下，空气从进风口抽入箱体内的气流通道中，电极生成的负离子对气流中的异味进行清除。

附图说明

利用附图对本实用新型作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制，对于本领域的普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据以下附图获得其它的附图：

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为图1所示的内部结构示意图。

图中：1、箱体；2、气流通道；3、风扇；4、负离子发生器；5、电极；6、进风口；7、出风口；8、安装固定板；9、安装孔；10、防护网；11、防护网。

具体实施方式

为了使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细的描述，需要说明的是，在不冲突的情况下，

本技术：
的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

如图1、2所示，卫生间/垃圾房除味器，包括箱体1、气流通道2、风扇3、负离子发生器4以及与负离子发生器4电连接的电极5，电极5安装在气流通道2中，所述气流通道2、风扇3、负离子发生器4位于箱体1内，所述箱体1的底部设有进风口6，箱体1的前侧壁上设有出风口7，气流通道2的一端与进风口6连通，另一端与出风口7连通，所述风扇3设在气流通道中且位于进风口6处。

箱体1的后侧壁的两侧边分别安装有安装固定板8，所述安装固定板8上设有安装孔9。

进一步地，所述进风口6处设有防护网10。

进一步地，所述出风口7处设有防护网11。

工作原理：本专利可以固定在卫生间/垃圾房的墙壁上，也可以固定在卫生间/垃圾房的天花板上。工作时，在风扇的作用下，空气从进风口6抽入箱体内的气流通道中，电极5生成的负离子对气流中的异味进行清除。

以上所述是本实用新型的优选实施方式而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，都不脱离本实用新型技术方案的保护范围。

技术特征：

1.一种卫生间/垃圾房除味器，其特征在于：包括箱体、气流通道、风扇、负离子发生器以及与负离子发生器电连接的电极，电极安装在气流通道中，所述气流通道、风扇、负离子发生器位于箱体内，所述箱体的底部设有进风口，箱体的前侧壁上设有出风口，气流通道的一端与进风口连通，另一端与出风口连通，所述风扇设在气流通道中。

2.根据权利要求1所述的卫生间/垃圾房除味器，其特征在于：所述风扇设在进风口处。

3.根据权利要求1所述的卫生间/垃圾房除味器，其特征在于：所述箱体的后侧壁的两侧边分别安装有安装固定板，所述安装固定板上设有安装孔。

4.根据权利要求1所述的卫生间/垃圾房除味器，其特征在于：所述进风口处设有防护网。

5.根据权利要求1所述的卫生间/垃圾房除味器，其特征在于：所述出风口处设有防护网。

技术总结
本实用新型公开了一种卫生间/垃圾房除味器，包括箱体、气流通道、风扇、负离子发生器以及与负离子发生器电连接的电极，电极安装在气流通道中，所述气流通道、风扇、负离子发生器位于箱体内，所述箱体的底部设有进风口，箱体的前侧壁上设有出风口，气流通道的一端与进风口连通，另一端与出风口连通，所述风扇设在气流通道中。所述箱体的后侧壁的两侧边分别安装有安装固定板，所述安装固定板上设有安装孔。由于采用上述的结构形式，本专利具有安装方便、除异味效果好的特点；除味器可以通过安装固定板固定在卫生间/垃圾房的墙壁上，也可以吊挂固定在卫生间/垃圾房的天花板上，电极生成的负离子对气流中的异味进行清除。

技术研发人员：吴平治
受保护的技术使用者：吴平治;广州市道文光电科技有限公司
技术研发日：2019.06.24
技术公布日：2020.10.27