用于护理点诊断系统的质量控制的制作方法

文档序号:22759186发布日期:2020-10-31 09:57阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于护理点医疗诊断的系统,包括:

机载贮存器,所述机载贮存器容纳合成质量控制材料;

具有多个操作参数的多个子系统,所述子系统包括材料分析仪,所述材料分析仪被配置为分析患者样品并分析所述合成质量控制材料;

随时间推移存储质量控制结果的数据库,所述质量控制结果包括所述材料分析仪分析所述合成质量控制材料随时间推移的结果;

一个或多个处理器;和

至少一个存储器,所述至少一个存储器存储指令,当所述指令由所述一个或多个处理器执行时,所述指令致使所述系统在没有用户干预的情况下自动地:

基于所述质量控制结果生成控制图;

基于所述控制图确定所述多个操作参数中的一个参数超出公差;以及

在没有用户干预的情况下调整所述多个子系统中的至少一个,以将超出公差的参数置于公差之内。

2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述数据库还存储先前的患者测试结果,所述先前的患者测试结果包括所述材料分析仪分析从多个患者获得的样品随时间推移的结果,

其中,当所述指令由一个或多个处理器执行时,所述指令进一步致使所述系统在没有用户干预的情况下自动地:

基于所述先前的患者测试结果生成另一控制图;

基于所述另一控制图,确定所述多个操作参数中的另一参数超出公差;以及

在没有用户干预的情况下调整所述多个子系统中的至少一个子系统,以将超出公差的所述另一参数置于公差之内。

3.根据权利要求1所述的系统,其中,当所述指令由所述一个或多个处理器执行时,所述指令还致使所述系统向操作员提供关于自动调节的视觉指示。

4.根据权利要求1所述的系统,其中,当所述指令由所述一个或多个处理器执行时,所述指令还致使所述系统在没有用户干预的情况下自动地:

确定所述多个操作参数中的另一参数超出公差;

确定超出公差的所述另一参数需要用户干预,以将超出公差的所述另一参数置于公差之内;以及

提供通知操作员所述另一参数超出公差的视觉指示。

5.根据权利要求1所述的系统,其中,当所述指令由所述一个或多个处理器执行时,所述指令还致使所述系统在没有用户干预的情况下自动地:

使用所述材料分析仪分析空白样品,其中,所述材料分析仪以与所述材料分析仪对患者样品进行操作的相同的方式对所述空白样品进行操作;

基于对所述空白样品的分析确定所述材料分析仪应该被清洁;以及

提供通知操作员所述材料分析仪应该被清洁的视觉指示。

6.根据权利要求1所述的系统,其中,当所述指令由所述一个或多个处理器执行时,所述指令还致使所述系统在没有用户干预的情况下自动地:

访问来自所述机载贮存器的所述合成质量控制材料;

使用所述材料分析仪分析所述合成质量控制材料,以提供额外的质量控制结果;以及

将所述额外的质量控制结果存储在所述数据库中。

7.根据权利要求1所述的系统,其中,所述材料分析仪是血液分析仪。

8.根据权利要求1所述的系统,其中,所述材料分析仪是以下中的至少一个:化学分析仪、凝血分析仪或尿液分析仪。

9.根据权利要求1所述的系统,其中,所述材料分析仪包括流式细胞仪。

10.根据权利要求9所述的系统,其中,所述多个子系统包括射流子系统、光学子系统和电子子系统。

11.根据权利要求10所述的系统,其中,所述多个操作参数包括光密度、流速、消光通道(ext)、低角度前向光散射通道(fsl)、直角散射通道(ras)、高角度前向光散射通道(fsh)和飞行时间通道(tof)。

12.一种用于护理点医疗诊断的系统,包括:

机载贮存器,所述机载贮存器容纳合成质量控制材料;

具有多个操作参数的多个子系统,所述子系统包括材料分析仪,所述材料分析仪被配置为分析患者样品并分析所述合成质量控制材料;

数据库,所述数据库存储数据,所述数据包括:

随时间推移的质量控制结果,所述质量控制结果包括所述材料分析仪分析所述合成质量控制材料随时间推移的结果,

先前的患者测试结果,所述先前的患者测试结果包括所述材料分析仪分析从多个患者获得的样品随时间推移的结果,以及

随时间推移的空白样品结果,所述空白样品结果包括所述材料分析仪分析空白样品随时间推移的结果;

一个或多个处理器;和

至少一个存储器,所述至少一个存储器存储指令,当所述指令由所述一个或多个处理器执行时,所述指令致使所述系统在没有用户干预的情况下自动地:

基于所述质量控制结果、所述先前的患者测试结果和所述空白样品结果生成至少一个控制图;

基于所述至少一个控制图确定所述多个操作参数中的一个参数超出公差;以及

在没有用户干预的情况下调整所述多个子系统中的至少一个子系统,以将超出公差的参数置于公差之内。


技术总结
本公开涉及一种用于护理点医疗诊断系统的质量控制。在各种实施例中,该系统包括:机载贮存器,该机载贮存器容纳合成质量控制材料;多个子系统,该多个子系统具有多个操作参数并且包括材料分析仪;数据库,该数据库存储质量控制结果,该质量控制结果包括材料分析仪分析合成质量控制材料随时间推移的结果;一个或多个处理器;以及至少一个存储器,该至少一个存储器存储指令,当该指令由该一个或多个处理器执行时,该指令致使该系统在没有用户干预的情况下自动地:基于质量控制结果生成控制图,基于控制图确定多个操作参数中的一个参数超出公差,以及在没有用户干预的情况下调整多个子系统中的至少一个,以将超出公差的参数置于公差之内。

技术研发人员:杰里米·哈蒙德;蒂莫西·布彻;林瑞铭;詹姆斯·鲁塞尔
受保护的技术使用者:IDEXX实验室公司
技术研发日:2019.03.29
技术公布日:2020.10.30
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