射频治疗仪、射频开关控制方法、处理设备和存储介质与流程

文档序号:36241762发布日期:2023-12-02 04:18阅读:24来源:国知局
射频治疗仪的制作方法

本技术涉及射频治疗,特别是涉及一种射频治疗仪、射频开关控制方法、处理设备和存储介质。


背景技术:

1、射频治疗仪是一种对人体组织进行射频能量输出的设备,射频能量刺激皮下深层组织,由于组织的电阻抗作用在局部产生热能,使皮肤深层的温度瞬间升高,加速真皮及皮下组织的血液循环,使纤维组织瞬间受热产生立即性收缩,同时刺激胶原蛋白长期新生与重建,达到紧肤祛皱等效果。

2、但是,现有的射频治疗仪进行治疗时,由于人体表面阻抗以及能量耐受程度的不均匀性,射频电极作用范围内的不同区域的人体组织的加热效果会不同,容易产生局部过热或者局部热量不够的现象。


技术实现思路

1、基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种能够解决局部过热或者局部热量不够问题的射频治疗仪、射频开关控制方法、处理设备和存储介质。

2、一种射频治疗仪,包括:

3、射频电极头,具有多个相互绝缘的发射元件,所述发射元件用于进行射频能量输出;

4、射频开关阵列,包括多个射频开关,各所述射频开关的输出端分别与各所述发射元件的输入端一一对应连接,其中,各所述射频开关分时导通;

5、射频源,所述射频源的输出端与各所述射频开关的输入端连接。

6、本实施例中,上述射频治疗仪,通过将射频开关的输出端分别与各发射元件的输入端连接,射频源的输出端与射频开关阵列的输入端连接,并使各射频开关分时导通,即同一时间只有一射频开关导通,使各发射元件分时输出射频能量,从而可以设置各射频开关的导通时间或射频源各时间的输出功率来控制各发射元件输出的射频能量,可使各发射元件输出的射频能量与对应治疗区域的情况相匹配,从而有效避免局部过热或者局部热量不够的问题,保证各发射元件对应的辐射区域的治疗效果。另外,由于各射频开关分时导通,则实现对各发射元件输出的射频能量的独立控制只需单个射频源,无需采用多个射频源,有利于降低成本,且避免了同频串扰的问题。

7、在其中一个实施例中,所述射频治疗仪还包括:

8、开关控制组件,所述开关控制组件分别与各所述射频开关的控制端连接,用于控制各射频开关的通断。

9、本实施例中,通过开关控制组件控制各射频开关的通断,进而实现各射频开关分时导通,并可控制各射频开关的单次导通时间,实现各发射元件输出功率的控制,保证各发射元件对应的辐射区域的治疗效果,并避免多个发射元件同时工作时的同频串扰问题。

10、在其中一个实施例中,所述射频治疗仪还包括:

11、温度测量组件,所述温度测量组件用于测量各所述发射元件对应的辐射区域的温度;

12、所述开关控制组件,与所述温度测量组件连接,用于接收所述温度测量组件测量的各所述辐射区域的温度,并根据各所述辐射区域的温度控制各所述射频开关的单次导通时间。

13、本实施例中,通过温度测量组件测量各所述发射元件对应的辐射区域的温度,并通过开关控制组件根据各所述辐射区域的温度控制各所述射频开关的单次导通时间,根据各所述辐射区域的温度适应性地调整各射频开关的单次导通时间,保证各发射元件输出功率与实际情况相对应,进而保证各辐射区域的治疗效果。

14、在其中一个实施例中,所述温度测量组件包括多个温度传感器,各所述发射元件的中心区域和各所述发射元件的外围区域均设有所述温度传感器,所述温度传感器用于测量对应的辐射区域的温度;

15、其中,所述开关控制组件还用于将各所述辐射区域内测得的最高温度作为各所述辐射区域的温度。

16、本实施例中,通过在各发射元件的中心区域和各所述发射元件的外围区域均设置温度传感器,从而测量各所述辐射区域的中心区域温度和外围区域温度,并将各所述辐射区域内测得的最高温度作为各所述辐射区域的温度,从而避免区域过热易导致人体组织损伤,提高安全性。

17、在其中一个实施例中,所述射频治疗仪还包括提示组件;所述开关控制组件还用于获取各所述温度传感器测得的温度中的最大值与最小值的差值,在所述差值大于第一预设值时,所述开关控制组件控制所述提示组件发出提示信息。

18、本实施例中,通过比较各温度传感器测得的温度中的最大值与最小值的差值是否大于第一预设值,来判断辐射区域的各位置的温度是否近似相等,进而判断发射元件是否贴紧对应的辐射区域,以判断射频电极头是否完全贴紧人体组织。在判定射频电极头未完全贴紧人体组织时,可以通过提示组件及时提醒用户,以保证射频治疗仪的治疗效果。

19、在其中一个实施例中,所述开关控制组件还用于在目标区域的温度与所述目标区域的温度设定阈值的差值大于第二预设值时,减少当前导通的射频开关的导通时间;在所述目标区域的温度与所述目标区域对应的温度设定阈值的差值小于第三预设值时,增加当前导通的射频开关的导通时间;其中,所述目标区域为所述目标发射元件对应的辐射区域,所述目标发射元件指的是当前处于工作状态的发射元件,所述第三预设值小于所述第二预设值。

20、本实施例中,通过开关控制组件判断目标区域的温度与目标区域的温度设定阈值的差值是否满足相应条件,可以判断目标区域的温度是否合理,若目标区域的温度与目标区域的温度设定阈值的差值大于第二预设值,则目标区域的温度过高,需要减少对目标区域输出的射频能量,即减少当前导通的射频开关的导通时间;若目标区域的温度与目标区域对应的温度设定阈值的差值小于第三预设值,需要增加对目标区域输出的射频能量,即减少当前导通的射频开关的导通时间,通过上述方式,实现对目标区域的温度的实时调节,避免目标区域过热或热量不够,保证目标区域的治疗效果。

21、在其中一个实施例中,所述开关控制组件还用于在目标区域的温度与所述目标区域的温度设定阈值的差值大于第二预设值,且差值大于第二预设值的持续时间大于第四预设值时,减少当前导通的射频开关的导通时间;并在所述目标区域的温度与所述目标区域对应的温度设定阈值的差值小于第三预设值,且差值小于第三预设值的持续时间大于所述第四预设值时,增加当前导通的射频开关的导通时间;其中,所述目标区域为所述目标发射元件对应的辐射区域,所述目标发射元件指的是当前处于工作状态的发射元件,所述第三预设值小于所述第二预设值。

22、本实施例中,通过开关控制组件判断目标区域的温度与目标区域的温度设定阈值的差值是否满足相应条件,并判断持续时间是否大于第四预设值,可以避免误判,实现对目标区域的温度的实时调节,避免目标区域过热或热量不够,保证目标区域的治疗效果。

23、在其中一个实施例中,所述射频开关包括光电二极管、第一电容、第二电容、第一电感和第二电感,其中,

24、所述第一电容的第一端与所述射频源的输出端连接,所述第一电容的第二端分别与所述光电二极管的正极、所述第一电感的第一端连接,所述第一电感的第二端用于接收所述开关控制组件发送的高电平或低电平信号;

25、所述光电二极管的负极分别与所述第二电容的第一端、所述第二电感的第一端连接,所述第二电感的第二端连接等电势位,所述第二电容的第二端与对应的所述发射元件的输入端连接;其中,

26、所述开关控制组件发送的信号为高电平信号时,所述射频开关导通;

27、所述开关控制组件发送的信号为低电平信号时,所述射频开关断开。

28、本实施例中,通过上述连接方式,通过第一电容和第二电容对直流信号进行过滤,避免直流信号干扰发射元件的工作,第一电感和第二电感另外,控制电压转换电路向对应的射频开关输出高电平信号或低电平信号,从而控制射频开关导通或断开,实现发射元件工作与否的控制,进而可控制各射频开关的单次导通时间以及控制各射频开关分时导通,实现单射频源下的各发射元件输出功率的控制,进而保证各发射元件对应的辐射区域的治疗效果。

29、在其中一个实施例中,所述开关控制组件包括处理器和电压转换电路,所述处理器的输出端与所述电压转换电路的第一输入端连接,所述电压转换电路的各输出端分别与各所述射频开关的第一电感的第二端一一对应连接,所述处理器用于控制所述电压转换电路向各所述射频开关发送所述高电平信号或所述低电平信号。

30、本实施例中,通过处理器和电压转换电路的配合,输出高电平信号给需要导通的射频开关,输出低电平信号给需要断开的射频开关,以使射频开关的光电二极管导通或断开,从而通过处理器实现各射频开关的导通和断开,进而可调节各发射元件的输出功率,以匹配各辐射区域的情况,保证各辐射区域不会过热或热量不足。

31、在其中一个实施例中,所述发射元件包括第一绝缘层、导线层和第二绝缘层,所述导线层设于第一绝缘层和第二绝缘层之间,所述导线层的输入端与所述射频开关的输出端连接,所述导线层用于进行射频能量输出。

32、本实施例中,通过导线层的输入端与射频开关的输出端连接,从而在与导线层连接的射频开关导通时,该导线层输出能量,对对应的辐射区域进行治疗,并通过将导线层设于第一绝缘层和第二绝缘层之间,避免导线层与除射频开关外的其他电器件连接,保证发射元件只有在对应的射频开关导通时,才会发射射频能量。

33、在其中一个实施例中,所述射频治疗仪还包括:

34、阻抗匹配组件,所述阻抗匹配组件设于所述射频源与所述射频开关阵列之间,用于匹配所述射频源和所述电极头之间的阻抗。

35、本实施例中,通过将阻抗匹配组件设于所述射频源与所述射频开关阵列之间,从而只需一个阻抗匹配组件即可满足射频信号传递要求,提高能量利用效率,相对而言,成本较低,易于实现。

36、在其中一个实施例中,所述射频治疗仪还包括:

37、多个阻抗匹配组件,多个所述阻抗匹配组件分别一一对应设置在多个射频通路上,所述射频通路为所述射频开关与所述发射元件之间构成的通路,分别用于匹配所述射频源与各所述发射元件之间的阻抗。

38、本实施例中,通过阻抗匹配组件分别一一对应设置在多个射频通路上,可以提高射频治疗仪整体的匹配效率,降低射频信号传输损耗。

39、一种射频开关控制方法,应用于射频治疗仪,所述方法包括:

40、分别获取所述射频治疗仪中各发射元件对应的辐射区域的温度设定阈值;

41、根据各所述温度设定阈值确定各射频开关的单次导通时间;其中,各所述射频开关分别与各所述发射元件一一对应连接,所述射频开关用于导通或断开所述发射元件与所述射频治疗仪中射频源之间的通路;

42、根据各所述射频开关的单次导通时间控制各所述射频开关分时导通。

43、本实施例中,通过根据温度设定阈值确定各射频开关的单次导通时间,进而控制各发射元件的工作时间,从而控制各射频开关在一个周期内输出的射频能量,保证各射频开关在一个周期内输出的射频能量与对应的温度设定阈值匹配,避免出现辐射区域局部过热或者局部热量不够的问题。

44、在其中一个实施例中,所述方法还包括:

45、获取目标发射元件对应的辐射区域的温度,其中,目标发射元件指的是当前处于工作状态的发射元件;

46、根据所述目标发射元件对应的辐射区域的温度调节当前导通的射频开关的导通时间。

47、本实施例中,通过获取目标发射元件对应的辐射区域的温度,并根据所述目标发射元件对应的辐射区域的温度调节当前导通的射频开关的导通时间,从而根据各辐射区域的实时情况实时调节各射频开关的导通时间,保证各发射元件输出功率与实际情况相对应,进而保证各辐射区域的治疗效果。

48、在其中一个实施例中,所述射频治疗仪包括多个温度传感器,各所述发射元件的中心区域和各所述发射元件的外围区域均设有所述温度传感器;其中,

49、所述获取各发射元件对应的辐射区域的温度,包括:

50、获取各温度传感器测得的温度;

51、将各所述辐射区域内的测得的最高温度作为各所述辐射区域的温度。

52、本实施例中,通过在各发射元件的中心区域和各所述发射元件的外围区域均设置温度传感器,从而测量各所述辐射区域的中心区域温度和外围区域温度,并将各所述辐射区域内测得的最高温度作为各所述辐射区域的温度,避免对应射频开关的导通时间过长,进而避免区域过热易导致人体组织损伤,提高射频治疗仪的使用安全性。

53、在其中一个实施例中,所述方法还包括:

54、获取当前工作的发射元件上的各温度传感器测得的温度;

55、获取各所述温度传感器测得的温度中的最大值与最小值的差值;

56、若所述差值大于第一预设值,则判定所述射频电极头未完全贴紧人体组织。

57、本实施例中,通过比较各所述温度传感器测得的温度中的最大值与最小值的差值是否大于第一预设值,来判断辐射区域的各位置的温度是否近似相等,进而判断发射元件是否贴紧对应的辐射区域,以判断射频电极头是否完全贴紧人体组织。在判定所述射频电极头未完全贴紧人体组织时,可以及时提醒用户,以保证射频治疗仪的治疗效果。

58、在其中一个实施例中,根据所述当前工作的发射元件的辐射区域的温度调节当前导通的射频开关的导通时间,包括:

59、若所述目标区域的温度与所述目标区域的温度设定阈值的差值大于第二预设值,则减少当前导通的射频开关的导通时间,其中,所述目标区域为所述目标发射元件对应的辐射区域;

60、若所述目标区域的温度与所述目标区域对应的温度设定阈值的差值小于第三预设值,则增加当前导通的射频开关的导通时间,其中,所述第三预设值小于所述第二预设值。

61、本实施例中,通过判断目标区域的温度与所述目标区域的温度设定阈值的差值是否满足相应条件,可以判断目标区域的温度是否合理,若所述目标区域的温度与所述目标区域的温度设定阈值的差值大于第二预设值,则目标区域的温度过高,需要减少对目标区域输出的射频能量,即减少当前导通的射频开关的导通时间;若所述目标区域的温度与所述目标区域对应的温度设定阈值的差值小于第三预设值,需要增加对目标区域输出的射频能量,即减少当前导通的射频开关的导通时间,通过上述方式,实现对目标区域的温度的实时调节,避免目标区域过热或热量不够,保证目标区域的治疗效果。

62、在其中一个实施例中,根据所述当前工作的发射元件的辐射区域的温度调节当前导通的射频开关的导通时间,包括:

63、若所述目标区域的温度与所述目标区域的温度设定阈值的差值大于第二预设值,且差值大于第二预设值的持续时间大于第四预设值,则减少当前导通的射频开关的导通时间,其中,所述目标区域为所述目标发射元件对应的辐射区域;

64、若所述目标区域的温度与所述目标区域对应的温度设定阈值的差值小于第三预设值,且差值小于第三预设值的持续时间大于所述第四预设值,则增加当前导通的射频开关的导通时间,其中,所述第三预设值小于所述第二预设值。

65、本实施例中,通过判断目标区域的温度与所述目标区域的温度设定阈值的差值是否满足相应条件,并判断持续时间是否大于第四预设值,可以避免误判,实现对目标区域的温度的实时调节,避免目标区域过热或热量不够,保证目标区域的治疗效果。

66、一种处理设备,包括存储器和处理器,所述存储器存储有计算机程序,所述处理器执行所述计算机程序时实现以下步骤:

67、分别获取所述射频治疗仪中各发射元件对应的辐射区域的温度设定阈值;

68、根据各所述温度设定阈值确定各射频开关的单次导通时间;其中,各所述射频开关分别与各所述发射元件一一对应连接,所述射频开关用于导通或断开所述发射元件与所述射频治疗仪中射频源之间的通路;

69、根据各所述射频开关的单次导通时间控制各所述射频开关分时导通。

70、一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现以下步骤:

71、分别获取所述射频治疗仪中各发射元件对应的辐射区域的温度设定阈值;

72、根据各所述温度设定阈值确定各射频开关的单次导通时间;其中,各所述射频开关分别与各所述发射元件一一对应连接,所述射频开关用于导通或断开所述发射元件与所述射频治疗仪中射频源之间的通路;

73、根据各所述射频开关的单次导通时间控制各所述射频开关分时导通。

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