所述机构，所述控制器配置成控制所述机构和所述至少一个光源，以 在所述目标组织表面上提供包括各个治疗光斑的治疗图案； 其中所述机构包括电磁场源，所述电磁场源用于提供电磁场以相对于所述外壳移动所 述至少一个光源，并且其中所述至少一个光源被安装在摇臂上以允许所述至少一个光源以 弧形路径相对于所述外壳移动。25.如权利要求24所述的机头，其中所述至少一个光源包括第一光源和第二光源。26.如权利要求24所述的机头，其中所述电磁场源包括线圈。27.如权利要求24所述的机头，进一步包括用于聚焦所述至少一个光束的光学系统。28.如权利要求24所述的机头，其中所述至少一个光源包括激光二极管。29.如权利要求24所述的机头，其中所述至少一个光源包括发光二极管。30.如权利要求24所述的机头，其中所述控制器配置成控制所述机构，使得所述治疗 光斑在在所述目标组织表面上以行和列的阵列方式排列。31.如权利要求24所述的机头，其中所述控制器配置成控制所述机构，使得所述治疗 光斑在所述目标组织表面上以交错行的阵列方式排列。32.如权利要求24所述的机头，其中所述控制器配置成控制所述机构，使得在所述治 疗光斑在所述目标组织表面上随机地排列。33. -种用于治疗目标组织表面的机头，所述机头包括： 外壳； 在外壳中的支撑部，其中所述支撑部可相对于所述外壳移动； 安装到所述支撑部的至少一个光源，所述至少一个光源用于产生至少一个光束，所述 至少一个光源位于所述机头的外壳内；以及 移动机构，用于相对于所述外壳移置所述至少一个光源，其中所述移动机构包括电磁 场源，所述电磁场源用于提供电磁场以相对于所述外壳移动所述支撑部。34.如权利要求33所述的机头，其中所述至少一个光源包括第一光源和第二光源。35.种用于治疗目标组织表面的机头，所述机头包括： 外壳； 在外壳中的支撑部，其中所述支撑部可相对于所述外壳移动； 安装到所述支撑部的至少一个光源，所述至少一个光源用于产生至少一个光束，所述 至少一个光源位于所述机头的外壳内；以及 移动机构，用于相对于所述外壳移置所述至少一个光源，其中所述移动机构包括电磁 场源，所述电磁场源用于提供电磁场以相对于所述外壳移动所述支撑部； 其中安装所述至少一个光源的所述支撑部可以弧形路径相对于所述外壳移动。36. 如权利要求35所述的机头，其中所述支撑部包括摇臂，所述一个或多个光源位于 所述摇臂的第一端，并且所述移动机构的一部分位于所述摇臂的第二端，所述第二端与所 述第一端相对。37. 如权利要求35所述的机头，其中所述电磁场源包括线圈。38. 如权利要求35所述的机头，进一步包括用于聚焦所述至少一个光束的光学系统。39. 如权利要求35所述的机头，其中所述至少一个光源包括激光光二极管。40. 如权利要求35所述的机头，其中所述至少一个光源包括发光二极管。41. 如权利要求35所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上以行和列的阵列方式排列的治疗 光斑的治疗图案。42. 如权利要求35所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上以交错行的阵列方式排列的治疗 光斑的治疗图案。43. 如权利要求35所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上随机地排列的治疗光斑的治疗图 案。44. 如权利要求35所述的机头，其中所述至少一个光源包括第一光源和第二光源。45. -种用于治疗目标组织表面的机头，所述机头包括： 外壳； 在外壳中的支撑部，其中所述支撑部可相对于所述外壳移动； 安装到所述支撑部的至少一个光源，所述至少一个光源用于产生至少一个光束，所述 至少一个光源位于所述机头的外壳内；以及 移动机构，用于相对于所述外壳移置所述至少一个光源，其中所述移动机构包括电磁 场源，所述电磁场源用于提供电磁场以相对于所述外壳移动所述支撑部； 一个或多个轨道，并且其中安装所述至少一个光源的支撑部可移动地耦合到所述一个 或多个轨道，使得所述支撑部可以直线路径相对于所述一个或多个轨道平移。46. 如权利要求45所述的机头，其中所述电磁场源包括线圈。47. 如权利要求45所述的机头，进一步包括用于聚焦所述至少一个光束的光学系统。48. 如权利要求45所述的机头，其中所述至少一个光源包括激光光二极管。49. 如权利要求45所述的机头，其中所述至少一个光源包括发光二极管。50. 如权利要求45所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上以行和列的阵列方式排列的治疗 光斑的治疗图案。51. 如权利要求45所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上以交错行的阵列方式排列的治疗 光斑的治疗图案。52. 如权利要求45所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上随机地排列的治疗光斑的治疗图 案。53. 如权利要求45所述的机头，其中所述至少一个光源包括第一光源和第二光源。54. -种用于治疗目标组织表面的机头，所述机头包括： 外壳； 在外壳中的支撑部，其中所述支撑部可相对于所述外壳移动； 安装到所述支撑部的至少一个光源，所述至少一个光源用于产生至少一个光束，所述 至少一个光源位于所述机头的外壳内；以及 移动机构，用于相对于所述外壳移置所述至少一个光源，其中所述移动机构包括电磁 场源，所述电磁场源用于提供电磁场以相对于所述外壳移动所述支撑部； 其中，所述移动机构进一步包括磁化部，所述磁化部用于与所述电磁场源磁化地相互 作用。55. 如权利要求54所述的机头，其中所述电磁场源包括线圈。56. 如权利要求54所述的机头，进一步包括用于聚焦所述至少一个光束的光学系统。57. 如权利要求54所述的机头，其中所述至少一个光源包括激光光二极管。58. 如权利要求54所述的机头，其中所述至少一个光源包括发光二极管。59. 如权利要求54所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上以行和列的阵列方式排列的治疗 光斑的治疗图案。60. 如权利要求54所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上以交错行的阵列方式排列的治疗 光斑的治疗图案。61. 如权利要求54所述的机头，进一步包括控制器，所述控制器配置成控制所述机构 和所述至少一个光源，以提供具有在所述目标组织表面上随机地排列的治疗光斑的治疗图 案。62. 如权利要求54所述的机头，其中所述至少一个光源包括第一光源和第二光源。
【专利摘要】提供了一种用于用至少一个光束治疗目标组织表面的机头，包括：外壳；至少一个光源，用于产生至少一个光束，所述至少一个光源位于所述机头的外壳内；开口，用于允许所述至少一个光束发射出所述外壳并朝向所述目标组织表面；机构，用于相对于所述外壳受控地移置所述至少一个光源；以及控制器，用于控制所述机构，所述控制器配置成控制所述机构和所述至少一个光源，以在所述目标组织表面上提供包括各个治疗光斑的治疗图案；其中所述机构包括电磁场源，所述电磁场源用于提供电磁场以相对于所述外壳移动所述至少一个光源，并且其中所述至少一个光源被安装在摇臂上以允许所述至少一个光源以弧形路径相对于外壳移动。
【IPC分类】A61B18/20, A61N5/067
【公开号】CN105342700
【申请号】CN201510934600
【发明人】卡斯珀·多勒瑞斯, 克劳斯·多勒瑞斯
【申请人】强度创新有限公司
【公开日】2016年2月24日
【申请日】2008年4月10日
【公告号】CN101677835A, EP2134281A1, EP2134281A4, EP2134281B1, US8696655, US20110137303, WO2008124839A1