专利名称：一种烤盘的制作方法
技术领域：
本实用新型是一种烤盘，特别是一种用于烤箱的烤盘，属于烤盘的改进技术。
背景技术：
现有用于烤箱的烤盘结构如图1所示，其底部的内表面为平板或半球式，烧烤时， 食物(如烤肉、熏肉、烤牛排、烤鱼)放置在烤盘底部的内表面上，食物加热渗出的油和/或 水堆积在烤盘底部，食物会被过多的油和水浸泡，因此，大大影响了烧烤效果，而且烤盘也 不易清洗。
实用新型内容本实用新型的目的在于考虑上述问题而提供一种能提高烧烤效果，方便清洗的烤
ο本实用新型的技术方案是一种烤盘，包括烤盘底部及设置在底部周围的侧壁，其 特征在于所述烤盘底部的内表面上设置有一个以上积油凹槽。上述积油凹槽为菱形。上述积油凹槽的深度大于或等于1. 2mm。上述积油凹槽设置在烤盘底部的中部位置。上述烤盘底部呈长方形或方形。上述烤盘底部、侧壁及积油凹槽一体成型。本实用新型由于采用在烤盘底部的内表面上设置有一个以上积油凹槽的结构，烧 烤食物时，由食物渗出的油和/或水会流到积油凹槽内，食物不会被油和/或水浸泡，因此， 大大提高了食物的烧烤效果，而且烤盘也易清洗。
图1为现有技术烤盘的结构示意图；图2为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
实施例如图2所示，本实用新型烤盘，包括烤盘底部11及设置在底部周围的侧壁12，所述 烤盘底部11的内表面上设置有一个以上积油凹槽13，积油凹槽13呈网状分布。本实施例中，上述积油凹槽13为菱形。为方便清洗，上述积油凹槽13的深度大于 或等于1. 2mm。上述积油凹槽13设置在烤盘底部11的中部位置，积油凹槽13总面积大于 或等于烤盘底部11的内表面面积的80%。上述烤盘底部11呈长方形或方形。为方便加 工，上述烤盘底部11、侧壁12及积油凹槽13 —体成型。
权利要求一种烤盘，包括烤盘底部(11)及设置在底部周围的侧壁(12)，其特征在于所述烤盘底部(11)的内表面上设置有一个以上积油凹槽(13)。
2.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于上述积油凹槽(13)为菱形。
3.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于上述积油凹槽(13)的深度大于或等于 1. 2mm。
4.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于上述积油凹槽(13)设置在烤盘底部(11) 的中部位置。
5.根据权利要求1至4任一项所述的烤盘，其特征在于上述烤盘底部(11)呈长方形或 方形。
6.根据权利要求5所述的烤盘，其特征在上述烤盘底部(11)、侧壁(12)及积油凹槽 (13) 一体成型。
专利摘要本实用新型是一种烤盘，包括烤盘底部(11)及设置在底部周围的侧壁(12)，其特征在于所述烤盘底部(11)的内表面上设置有一个以上积油凹槽(13)。本实用新型由于采用在烤盘底部的内表面上设置有一个以上积油凹槽的结构，烧烤食物时，由食物渗出的油和/或水会流到积油凹槽内，食物不会被油和/或水浸泡，因此，大大提高了食物的烧烤效果，而且烤盘也易清洗。
文档编号A47J37/01GK201767793SQ20102050474
公开日2011年3月23日 申请日期2010年8月26日 优先权日2010年8月26日
发明者张建龙 申请人:美的集团有限公司