专利名称：清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及半导体集成电路，特别涉及一种清洗管子内壁结晶物的清洗装置。
背景技术：
在半导体集成电路中，由于特殊制程的需要，在沉积Si02或SiN层时，用于连接炉体与抽真空装置的管子内壁不可避免的会有附产物的结晶形成，导致管子堵塞，为了制程的稳定性，必须定期的对其进行清理，由于结晶物较难处理，给清洗管子工作带来很大的工作量。其中用于沉积SiN的炉管中的管子内壁由于主要结晶物为NH4CL，NH4CL易溶于水，除去所述结晶物有下列2种方式，一种是将待洗的管子浸泡在注满水的容器中，仅靠自然溶解来清除附着在管子内壁的结晶物，耗时IOh左右，清洗效果欠佳，且每容器需要注入大约0. 9吨水；第二种需人力用水枪持续冲洗来清除附着在管子内壁的结晶物，这种清除方式既浪费大量的水，又增加劳动力，所述管子为弯管时工作量更大。其中用于沉积Si02的炉管中的管子内壁主要结晶物为TE0S(四乙氧基硅烷，分子式为C8H2004Si)，不溶于水，现有用改锥等尖状物轻轻敲打附着在管子内壁的结晶物，一点点清除，再用水冲洗，既耗费人力，又容易损坏管子的内壁，降低了管子的使用寿命；也有用百洁布擦拭附着在管子内壁的结晶物，既耗费人力，又浪费大量的时间，且清理效果不佳， 所述管子为弯管时不易处理。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种自动清除内壁附有结晶物的管子的清洗装置。本实用新型的技术解决方案是清洗装置，用于清洗内壁附着结晶物的待清洗管， 其特征之处在于，包括水管架，水管架上设有进水管、进酸管、排水管、水泵、杂质分离器以及两波纹管，两连接件，所述待清洗管通过连接件与波纹管连接并与水管架构成循环流路，所述进水管、进酸管、排水管以及波纹管上设有阀体。作为优选所述水管架呈U型或倒U型。作为优选所述待清洗管通过两连接件与波纹管密封连接。作为优选所述杂质分离器包括中间的两级滤网、上端的单向泄压阀、下端的杂质存放槽。作为优选所述待清洗管内壁附着结晶物为SiN结晶物。作为优选所述待清洗管内壁附着结晶物为TEOS结晶物。作为优选所述待清洗管为直管或具有弧度的弯管。作为优选所述阀体为自动阀并且进水管和进酸管上设有水流量计。作为优选所述阀体为手动阀。与现有技术相比，本实用新型的优点是结构简单，成本低，提高生产效率，降低劳动力，清洗效果好。
图1是本实用新型清洗装置的结构图。图2是本实用新型的工作原理图。图3是杂质分离器的结构图。
具体实施方式
本实用新型下面将结合附图作进一步详述图1示出了本实用新型的最佳实施例。请参阅图1所示，在本实施例中，清洗装置，用于清洗内壁附着结晶物的待清洗管 1，包括倒U型水管架2 ；进水管21，通过第一阀体211连接至倒U型水管架2 ；进酸管22，通过第二阀体221连接至倒U型水管架2 ；排水管23，通过第三阀体231、第四阀体232连接至倒U型水管架2两末端；水泵24，串接在倒U型水管架2上；杂质分离器25，串接在倒U型水管架2上；第一波纹管26、第二波纹管27，所述波纹管一端分别连接在倒U型水管架2的两侧水管上，所述第一波纹管沈和第二波纹管27分别设有第五阀体261和第六阀体271 ； 第一连接件3、第二连接件4，所述待清洗管1两端分别通过第一连接件3和第二连接4与所述第一波纹管26、第二波纹管27密封连接，所述待清洗管1与倒U型水管架2构成循环流路。所述阀体为自动阀并且进水管21和进酸管22上设有水流量计(图中未示)，所述阀体也可以为手动阀。根据不同的沉积制程，所述待清洗管内壁附着结晶物为SiN结晶物或 TEOS结晶物。如图3所示，所述杂质分离器25包括中间的两级滤网251、252，上端的单向泄压阀 253、下端的杂质存放槽254，两级滤网用于过滤循环装置内的杂质，所述杂质落入下端的杂质存放槽254内，所述杂质分离器25上端的单向泄压阀253用于泄除清洗装置内的压力， 避免管内积聚气压。所述连接件3、4的两端分别具有与波纹管沈、27 —端以及待清洗管1端相匹配的端口，所述连接件3、4中间套装密封环31、41，所述连接件3、4通过外部的卡子(图中未示) 紧固波纹管26、27和待清洗管1。应用波纹管的弹性，所述清洗装置能够接入不同长度和管型的待清洗管1，所述待清洗管1可以为直管，也可以为具有弧度的弯管。下面结合图2对清洗装置的原理做如下描述内壁附着结晶物为TEOS结晶物的待清洗管1通过第一连接件3、第二连接件4分别连接到第一波纹管沈和第二波纹管27上， 再通过卡子(图中未示)夹紧固定，待清洗管1与倒U型水管架2构成回路，再关掉排水管 23上的第三阀体231、第四阀体232，打开进水管21的第一阀体211、进酸管22的第二阀体 221，打开波纹管上第五阀体261和第六阀体271，根据实际配比通入一定量的纯水和酸后， 关掉进水管21的第一阀体211、进酸管22的第二阀体221，打开水泵M，用水泵M驱动构成循环水路。清洗完毕后关掉波纹管上的第五阀体261和第六阀体271。打开排水管23上的第三阀体231和第四阀体232排掉清洗装置内的废水。清洗内壁附着结晶物为SiN结晶物的待清洗管1时，原理跟清洗附着结晶物为 TEOS结晶物的待清洗管1大致相同，不同之处在于，不通入酸。[0026]本实用新型的水管架也可以为U型，但不局限于所述形状。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，凡依本实用新型权利要求范围所做的均等变化与修饰，皆应属本实用新型权利要求的涵盖范围。
权利要求1.一种清洗装置，用于清洗内壁附着结晶物的待清洗管，其特征在于包括水管架，水管架上设有进水管、进酸管、排水管、水泵、杂质分离器以及两波纹管，所述待清洗管与波纹管连接并与水管架构成循环流路，所述进水管、进酸管、排水管以及波纹管上设有阀体。
2.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于所述水管架呈U型或倒U型。
3.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于所述待清洗管通过两连接件与波纹管密封连接。
4.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于所述杂质分离器包括中间的两级滤网、 上端的单向泄压阀、下端的杂质存放槽。
5.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于所述待清洗管内壁附着结晶物为SiN 结晶物。
6.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于所述待清洗管内壁附着结晶物为TEOS 结晶物。
7.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于所述待清洗管为直管或具有弧度的弯管。
8.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于所述阀体为自动阀并且进水管和进酸管上设有水流量计。
9.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于所述阀体为手动阀。
专利摘要本实用新型涉及一种清洗装置，用于清洗内壁附着结晶物的待清洗管，该种清洗装置包括倒U型水管架，所述倒U型水管架上设有进水管、进酸管、水泵、杂质过滤器、排水管以及两波纹管，所述进水管、进酸管、排水管以及波纹管上设有阀体，所述待清洗管两端分别通过两连接件与两波纹管密封连接，所述待清洗管与倒U型水管架构成循环流路。本实用新型的优点是结构简单，成本低，提高生产效率，降低劳动力，清洗效果好。
文档编号B08B13/00GK202207682SQ201120294140
公开日2012年5月2日 申请日期2011年8月12日 优先权日2011年8月12日
发明者巩雨锋, 曹肖肖 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司