推进器格栅清洁电路和清洁推进器格栅的方法
【专利摘要】本发明公开了推进器格栅清洁电路和清洁推进器格栅的方法。示例装置包括以第一电压对格栅施加第一能量的低压格栅清洁电路，以及检测施加的能量清除格栅的短路状况的故障并以高于第一电压的第二电压对格栅施加第二能量的高压格栅清洁电路。
【专利说明】推进器格栅清洁电路和清洁推进器格栅的方法
【技术领域】【背景技术】
[0001]离子推进器目前用于一些通信卫星的航天器控制。一些现有系统通过离子化氙气并跨越两个或三个充电钥格栅将其加速而工作。随着离子穿过这些格栅，小量钥溅出并沉积在下游格栅上。随着时间推移，这些沉积物可以增长大到足以剥落并引起格栅之间的短路，从而使推进器关机。当这种情况出现时，推进器必须关闭，从而格栅可以被清洁以消除短路。采用格栅清洁电路通过短路施加能量，导致材料被烧掉。
[0002]图1是离子推进器内污染的离子推进格栅的示意图。当推进器运行时，离子化气体102跨越两个或多个充电格栅104被加速。然而，沉积物可以集聚在格栅104上，直到在一点产生短路106，这降低或消除推进器的有效性。
[0003]现有技术的格栅清洁电路采用联接电压源108 (例如，航天器总线电压)的降压电阻器Iio清洁格栅104。电压源108施加于(通过降压电阻器110)短路的格栅104。然而，仍存在其它格栅清洁处理和格栅清洁电路的需要，以提供对现有技术系统的改进和提供额外益处或优势，例如，降低工作或维护成本，增加推进器服务寿命，增加格栅服务寿命，降低能量需求，例如，用于清除格栅，但是仍有效地降低或消除格栅表面或格栅系统上的污染物。
【发明内容】
[0004]公开的示例装置包括以第一电压将第一能量施加于格栅的低压格栅清洁电路和以高于第一电压的第二电压将第二能量施加于格栅的高压格栅清洁电路。
[0005]公开的示例方法包括检测包含对格栅施加第一电压的第一格栅清洁处理，和将具有高于第一电压的第二电压的第二格栅清洁处理施加于格栅。
[0006]公开的离子推进系统包括第一推进器格栅，联接基准点的第二推进器格栅，用于通过以第一电压施加第一能量清除在第一推进器格栅和第二推进器格栅之间的短路状况的低压格栅清洁电路，以及用于检测第一能量清除短路状况的故障并响应检测而以高于第一电压的第二电压将第二能量施加于格栅的高压格栅清洁电路。
[0007]本发明包含可以包括以第一电压将第一能量施加于格栅的低压格栅清洁电路和以高于第一电压的第二电压将第二能量施加于格栅的高压格栅清洁电路的装置。格栅可以包括离子推进系统推进器格栅。高压格栅清洁电路可以用于通过测量在低压格栅清洁电路中的第一节点电压；和比较该第一节点电压和阈值来检测在格栅中的短路状况。高压格栅清洁电路可以用于通过在不同于第一节电电压的节点测量低压格栅清洁电路中的第二节点电压；和比较在第二节点电压和第一节点电压之差与阈值来检测用于清除格栅的短路状况的第一能量的故障，并且响应检测到该故障，高压格栅清洁电路施加第二能量。高压格栅清洁电路可以用于检测低压格栅清洁电路正在将第一能量施加于格栅:和响应检测到低压格栅清洁电路正在施加第一能量而停止施加第二能量。高压格栅清洁电路可以用于通过检测在低压格栅清洁电路中的压降来检测低压格栅清洁电路正在施加第一能量。第二电压可以用于引起在格栅和第二格栅之间的电弧。在第一电压的第一能量不足以引起在格栅和第二格栅之间的电弧。本发明可以包含一方法，其包括检测包含对格栅施加第一电压的第一格栅清洁处理，和将具有高于第一电压的第二电压的第二格栅清洁处理施加于格栅。检测第一格栅清洁处理可以包括测量在第一节点的第一节点电压。该方法还可以包括测量在第二节点的第二节点电压；比较第二节点电压和第一节点电压之差与阈值；以及基于比较来检测第一格栅清洁处理清除在格栅中的状况的故障，其中响应检测到该故障而施加第二格栅清洁处理。第二格栅清洁处理可以包括以第二电压处将能量施加于格栅，引起在格栅和第二格栅之间的电弧。格栅可以包括离子推进系统推进器格栅。该方法还可以包括，检测当施加第二格栅清洁处理时通过第一格栅清洁处理正在施加的电流；和响应检测到该电流而停止第二格栅清洁处理。此外，该方法可以包括当停止第二格栅清洁处理时检测电流已经停止；和重新施加第二格栅清洁处理。当施加第一格栅清洁处理时可以执行施加第二格栅清洁处理。
[0008]本发明可以包含包括第一推进器格栅，联接基准点的第二推进器格栅，用于通过以第一电压施加第一能量清除在第一推进器格栅和第二推进器格栅之间的短路状况的低压格栅清洁电路，以及用于检测第一能量清除短路状况的故障和响应检测而以高于第一电压的第二电压将第二能量施加于格栅的高压格栅清洁电路的系统。高压格栅清洁电路可以用于测量低压格栅清洁电路的第一节点电压，从而检测短路状况。高压格栅清洁电路可以用于测量低压格栅清洁电路的第二节点电压，以及比较第二节点电压和第一节点电压从而检测故障。高压格栅清洁电路可以用于施加第二电压，引起在第一推进器格栅和第二推进器格栅之间的电弧。
[0009]已经讨论的特征、功能、和优势可以在不同的实施例中独立地实现，或可以在其他实施例中组合起来实现，参考下面的说明书和附图将理解进一步的细节。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1是离子推进器内污染的离子推进格栅的示意图。
[0011]图2是包括格栅清洁电路的示例离子推进系统的方框图。
[0012]图3是图2的示例格栅清洁电路的更详细的示意图。
[0013]图4是用于清除推进器格栅短路状况的示例方法的流程图。
[0014]图5是平台生产和服务方法的流程图。
[0015]图6是平台的方框图。
【具体实施方式】
[0016]以下公开示例离子推进系统，推进器格栅清洁电路和用于清洁推进器格栅的方法。与当前的格栅清洁电路相比，示例离子推进系统、推进器格栅清洁电路、和用于清洁推进器格栅的方法能够清除由推进器格栅上的沉积物引起的更广范围的短路状况。例如，某些类型的短路状况出现在相对高的电压，但是不出现在过去用于清除短路状况的较低电压。
[0017]在某些示例中，离子推进系统包括低压格栅清洁电路和高压格栅清洁电路。示例低压格栅清洁电路能够以较低压(例如，100V)施加更高的电流来移除引起在推进器格栅中的短路的沉积物。高压格栅清洁电路施加高压信号启动电弧，其能够使低压格栅清洁电路施加更高电流来清除沉积物。在某些示例中，高压格栅清洁电路监控低压格栅清洁电路来确定低压格栅清洁处理在清除(例如，消除)短路状况时是否有效。如果高压格栅清洁电路确定低压格栅清洁处理不清除短路状况，那么高压格栅清洁电路将高压格栅清洁处理施加于推进器格栅。
[0018]在某些示例中，高压格栅清洁处理包括将充分更高的电压(例如，1000V)施加于推进器格栅。高压格栅清洁处理可以引起电弧出现在电联接低压格栅清洁电路的第一格栅和电联接基准点的第二格栅之间。在某些示例中，在格栅之间的感应电弧出现在定位在各个格栅上的沉积物之间。感应电弧产生在第一格栅和第二格栅之间(例如，在沉积物之间)的低电阻等离子体路径。低电阻路径能够使低压格栅清洁处理通过沉积物引导更高电流，因而能够使低压格栅清洁电路清除沉积物(例如，清除短路状况)。
[0019]在某些示例中，利用低压格栅清洁处理和高压格栅清洁处理可以为在离子推进推进器中的任何对相邻推进器格栅清除短路状况。在示例中，离子推进推进器包括三个推进器格栅，其中中心的推进器格栅定位在另外两个格栅之间，因此邻近另外两个格栅。出现在中心格栅和外部格栅的第一格栅之间的短路可以通过将低压格栅清洁处理(例如，通过低压格栅清洁电路)和高压格栅清洁处理(例如，通过高压格栅清洁电路)施加于中心格栅同时将第一外部格栅连接基准点和/或通过将低压格栅清洁处理和高压格栅清洁处理施加于第一外部格栅同时将中心格栅连接基准点来清除。
[0020]相似地，在中心格栅和外部格栅的第二格栅之间的短路可以通过将低压格栅清洁处理和高压格栅清洁处理施加于中心格栅同时将第二外部格栅连接基准点和/或通过将低压格栅清洁处理和高压格栅清洁处理施加于第二外部格栅同时将中心格栅连接基准点来清除。
[0021]在某些示例中，在中心格栅和第一外部格栅之间、在中心格栅和第二外部格栅之间的短路可以通过将低压格栅清洁处理和高压格栅清洁处理施加于中心格栅同时将外部格栅连接基准点和/或通过将低压格栅清洁处理和高压格栅清洁处理施加于外部格栅同时中心格栅连接基准点来清除。
[0022]图2是包括格栅清洁电路的示例离子推进系统200的方框图。图2的示例离子推进系统200可以用于为诸如航天器的平台提供推进力。图2的离子推进系统200包括电源202、推进器204、推进器格栅206，208，210、低压格栅清洁电路212、和高压格栅清洁电路214。
[0023]示例电源202提供电能给推进器204和推进器格栅206-210，从而能够使推进器204提供推进力。示例电源202可以提供在多个电压和/或电流的电能量满足推进器204和/或格栅206-210的具体需求。
[0024]示例推进器204包括推进剂216和电极218。推进剂216由电机218生成的电子转换成离子。充电示例推进器格栅206-210，从而加速结果离子产生推进力。示例推进器格栅206是屏栅，示例格栅208是加速格栅，和示例格栅210是减速格栅。在某些示例中，省略减速格栅210。在某些其他示例中，包括额外的格栅。经过一段时间，材料沉积物可以建立在格栅206-210的相邻格栅之间。最终，这些沉积物可以减少格栅206、208、和210的相邻格栅之间的距离，因此在相邻格栅206、208或208、210之间的高压桥接间隙并导致短路，这降低推进器204的有效性或引起推进器204的不可操作。
[0025]当电源202检测到短路时，电源202 (或另一个控制器)发信号指示低压格栅清洁电路212尝试清除短路状况。示例低压格栅清洁电路212将低压、高压(例如，100V)电信号施加于外部格栅206、210。示例高压格栅清洁电路214将高压格栅清洁处理施加于外部格栅206、210。当在相邻格栅206、208和208、210之间的间隙引起在高压处的短路但是不能通过低压格栅清洁处理清除时，高压格栅清洁电路214提供额外(例如，第二)能量使低压格栅清洁处理清除短路状况。
[0026]在图2的示例中，高压格栅清洁电路214监控低压格栅清洁电路212，确定是否清除短路状况。如果高压格栅清洁电路214确定低压格栅清洁电路212未能清除短路，那么示例高压格栅清洁电路214将高压电信号(例如，1000V)施加于外部格栅206、210。高压电信号可以是为避免损伤格栅206-210和/或推进器204而限制的电流。内部格栅208保持联接基准点。
[0027]高压格栅清洁电路214生成在相邻格栅206、208或208、210之间的间隙上的电弧。该电弧产生在相邻格栅206、208或208、210之间的低电阻等离子体路径，这可以由低压格栅清洁处理遍历。因此，示例低压格栅清洁电路212可以结合高压格栅清洁电路214使用，将大量电流弓I导到沉积物从而清除沉积物。
[0028]当高压格栅清洁电路214检测低压格栅清洁电路212正在引导电流(例如，从而清除沉积物)，高压格栅清洁电路214停止施加高压信号。如果低压格栅清洁处理显示电流的额外降低，那么示例高压格栅清洁电路214重新启用和重新建立电弧路径。在图2的示例中，低压格栅清洁处理，并根据需要，高压格栅清洁处理继续进行，直到一段时间之后和/或直到格栅清洁处理已经将能量阈值量施加于格栅206-210。
[0029]在成功清除沉积物的情况下，示例低压格栅清洁电路212和高压格栅清洁电路214停止将电流引导到格栅206-210，并可以重新开始推进器204的操作。在某些示例中，直到尝试重新启动推进器204才表示成功清除沉积物。如果未成功清除沉积物，那么示例系统200可以另外尝试利用格栅清洁电路212、214重新清除短路状况。
[0030]图3是图2的示例格栅清洁电路212、214的更详细的示意图。示例低压格栅清洁电路212联接电气总线302和格栅清除信号304 (例如，来自图2的电源202、来自控制器、或来自其他源的)。总线302提供由格栅清洁电路212、214使用的电能，分别将低压能量和高压能量施加于格栅206-210中的短路状况。
[0031]图3的低压格栅清洁电路包括切换元件306、308(例如，金属氧化物半导体场效应半导体(M0SFET)、结型场效应晶体管(JFET)、双极结型晶体管(BJT)、机电切换元件等等)，控制电能量施加于格栅206-210。示例切换元件306、308由格栅清除信号304控制。当切换元件306、308电闭合时(即，传导电流)，电信号通过总线302施加于外部格栅206、210。当存在短路状况时，电流可以从总线302通过格栅206、210流到格栅208。
[0032]图3的示例低压格栅清洁电路212进一步包括电流限制和/或电流感测电阻器310、312。当电流流到格栅206时(或流到格栅210)，在电阻器310 (或电阻器312)的端子上出现大电压降。另一方面，当切换元件306、308闭合和电流不能流过格栅206-210时(例如，因为低压格栅清洁处理不能桥接在相邻格栅206、208和208、210之间的间隙)，在电阻器310、312处的电压降相对较小或基本等于零。[0033]图3的示例高压格栅清洁电路214包括高压控制器314、高压发生器316、和切换元件318。示例高压控制器314监控低压格栅清洁电路212，确定是否存在短路状况和确定低压格栅清洁处理有效还是未能清除短路状况。例如，图3的高压控制器314监控在第一节点320、322的电压(例如，联接电阻器310、312的第一端子)。当在第一节点320、322处的电压高于阈值电压时，示例控制器314确定是否已经出现短路状况(例如，因为切换元件306,308已经闭合)。
[0034]示例高压控制器314进一步检测低压格栅清洁处理(例如，由低压格栅清洁电路212执行)是否未能清除短路状况。例如，除了监控在节点320、322处的节点电压之外，示例高压控制器314监控在节点324、326处的节点电压(例如，在从节点320、322的电阻器310、312的相对端上)。如果在电阻器310、312的电压之差(例如，在节点320和324或节点322和326之间)大于阈值电压，那么不例高压控制器314确定电流施加于各个格栅306-210。相比之下，如果电压之差小于阈值电压，那么低压格栅清洁处理不能桥接在格栅206-210之间的间隙，因此，不能清除短路状况。
[0035]响应检测到清除短路状况的故障，示例高压控制器314提供信号电闭合切换元件318。因此，高压发生器316生成高压信号(例如，1000V)和将该高压信号施加于格栅206、210。如果成功，那么高压信号产生在格栅206、210和格栅208之间的电弧，从而提供具有低电阻路径的低压格栅清洁电路212，通过低电阻路径将能量施加于格栅206、210。
[0036]当低压格栅清洁电路212开始将电流引导到格栅206、210时，在节点324、326处的电压降低。示例高压控制器314检测在节点324、326处的电压降，并电开启示例切换元件318，停止将高压施加于格栅206、210。如果低压格栅清洁电路212不能维持低电阻路径和电流流动停止，那么示例高压控制器314再次检测电压增加和将高压重新施加于格栅206、210。该示例处理可以迭代执行，直到清除短路状况和/或直到移除格栅清除信号304。
[0037]尽管在图3中示出低压格栅清洁电路212和高压格栅清洁电路214的示例电路拓补结构，但是可以使用其他电路拓补结构。例如，尽管在图3中示出高压发生器316，但是可以额外地或可选地使用其他高压发生器电路。示例高压控制器314可以包括逻辑电路和/或其他控制电路。在某些示例中，高压控制器314实施在包括图2的离子推进系统200的平台中的其他逻辑中(例如，在航天器中)。
[0038]图4是表示清除推进器格栅中的短路状况的示例方法400的流程图。示例方法400可以利用图2和图3的低压格栅清洁电路212和高压格栅清洁电路214实施。在某些示例中，当在离子推进系统的推进器格栅中检测到短路状况时，例如图2的系统200，调用方法400。
[0039]图4的不例方法400通过将具有第一电压(例如，1000V)的第一能量施加于格栅(例如，图3的格栅206、210)开始(模块402)。例如，低压格栅清洁电路212可以响应格栅清除信号304开始低压格栅清洁处理。示例高压格栅清洁电路214(例如，通过高压控制器314)测量第一节点电压(模块404)。可以测量第一节点，例如，在节点320处或在节点322处。高压格栅清洁电路214 (例如，通过高压控制器314)还测量第二节点电压(模块406)。可以测量第二节点，例如，在节点324处或在节点326处(例如，对应于(例如，相对的)测量其第一电压的节点320、322的节点324、326中的一个节点)。
[0040]示例高压控制器314确定在第一节点电压和第二节点电压之差是否小于阈值(模块408)。如果电压之差小于阈值(模块408)，那么示例高压控制器314检测第一能量(例如，来自低压格栅清洁电路212的)未能清除格栅短路状况(模块410)。高压格栅清洁电路214将具有第二电压的第二能量施加于格栅206、210 (模块412)。例如，高压控制器314可以闭合切换元件318，引起高压发生器316开始将高压施加于格栅206、210。
[0041]示例高压格栅清洁电路214(例如，通过高压控制器314)测量第一节点电压(例如，与在模块404测量第一节点电压相同的节点320、322处)(模块414)。高压格栅清洁电路214 (例如，通过高压控制器314)还测量第二节点电压(例如，与在模块406测量第二节点电压相同的节点324、326处的电压)(模块416)。示例高压控制器314确定在第一节点电压和第二节点电压之差是否小于阈值(模块418)。如果电压之差小于阈值(模块418)，那么示例高压控制器314确定阈值时间是否已经过去(模块420)。例如，高压格栅清洁处理和/或低压格栅清洁处理可以时间限制为避免损伤推进器格栅206-210。如果阈值时间还未过去(模块420)，那么控制返回到模块412，继续将第二能量施加于格栅206、210。如果在第一节点电压和第二节点电压之差不小于阈值(模块418)，那么示例高压格栅清洁电路214停止施加第二能量(模块422)。
[0042]在停止第二能量之后(模块422)，或如果高压控制器314确定在模块408第一节点电压和第二节点电压之差不小于阈值，那么示例低压格栅清洁电路212确定是否停止施加第一能量(模块424)。例如，低压格栅清洁电路212可以检测格栅清除信号304的状态或值。如果低压格栅清洁电路212继续施加第一能量(模块424)，那么控制返回模块402。如果低压格栅清洁电路212停止施加第一能量(模块424)，或如果阈值时间已经过去(模块420)，那么示例方法400结束。在高压格栅清洁电路214停止第二能量之前阈值时间过去的示例中，确定阈值时间已经过去包括同时停止第一能量和第二能量(例如，通过格栅清除信号304)。
[0043]尽管参考图4中所示的流程图描述示例方法，但是可以可选地使用实施离子推进系统200、低压格栅清洁电路212、和/或高压格栅清洁电路214的许多其他方法。例如，模块的执行顺序可以改变，和/或可以改变、删除、或组合描述的某些模块。
[0044]可以在如图5中所示的平台生产和服务方法500和如图6中所示诸如飞机的平台600的背景下描述本公开的示例。在试验性生产期间，示例方法500可以包括平台600 (例如，飞机)的规格和设计(模块502)，例如示例电源202、示例推进器204、示例低压格栅清洁电路212、和/或高压格栅清洁电路214的放置和/或设计。试验性生产可以进一步包括材料采购(模块504)。在生产期间，进行平台600 (例如，飞机)的部件和组件制造(模块506)和系统集成(模块508)。在部件和组件制造(模块506)和/或系统集成(模块508)期间，示例电源202、示例推进器204、示例低压格栅清洁电路212、和/或高压格栅清洁电路214可以附接至(例如，固定于)结构位置。此后，平台600 (例如，航天器)可以进行检定和交付(模块510)，从而投入使用(模块512)。当顾客在使用时，安排平台600 (例如，飞机)定期进行日常维护和服务(模块514)，还可以包括改装、重构、翻新等等。
[0045]示例方法500的每个操作可以由系统集成商、第三方、和/或操作人员(例如，顾客)执行。为了方便描述，系统集成商可以包括但不限于许多平台(例如，飞机)制造商和主要系统转包商；第三方可以包括但不限于许多卖主、转包商、和供应商；以及操作人员可以是航空公司、租赁公司、军事组织、服务组织等等。[0046]如图6中所示，由示例方法500生产的平台600 (例如，航天器)包括具有多个系统604和内部606的机身602。高水平系统604的示例包括一个或多个推进系统608、电气系统610、液压系统612、和环境系统614。本文中公开的示例方法和装置可以集成到示例系统608-614中，提供格栅短路的清除。可以包括许多其他系统。
[0047]在生产和服务方法500的任何一个或多个阶段可以使用本文中体现的装置和方法。例如，对应于生产处理506的部件或组件可以与当平台600在使用中512时生产部件或组件相似的方式制造。而且，一个或多个装置实施例、方法实施例、或装置实施例和方法实施例的组合可以在生产阶段506和508期间实施，例如，通过充分加速平台600(例如，航天器)的装配或降低平台600的成本。相似地，当平台600 (例如，航天器)在使用中512时，可以利用一个或多个装置实施例、方法实施例、或装置实施例和方法实施例的组合，例如但不限于，维护和服务514。
[0048]尽管本文中已经描述某些示例装置和方法，但是本公开的保护范围不限于此。相反，本公开涵盖在相关权利要求的保护范畴内的所有装置和方法。
【权利要求】
1.一种装置，包括: 以第一电压对格栅施加第一能量的低压格栅清洁电路；和 以高于所述第一电压的第二电压对所述格栅施加第二能量的高压格栅清洁电路。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述格栅包括离子推进系统推进器格栅。
3.根据权利要求1所述的装置，其中所述高压格栅清洁电路用于通过以下步骤检测所述格栅中的短路状况: 测量所述低压格栅清洁电路中的第一节点电压；和 将所述第一节点电压与阈值比较。
4.根据权利要求3所述的装置，其中所述高压格栅清洁电路用于通过以下步骤检测所述第一能量清除所述格栅的短路状况的故障: 在不同的节点测量所述低压格栅清洁电路内不同于所述第一节点电压的第二节点电压；和 将所述第二节点电压和所述第一节点电压之差与阈值比较，所述高压格栅清洁电路响应检测到所述故障而施加所述第二能量。
5.根据权利要求1所述的装置，其中所述高压格栅清洁电路用于: 检测所述低压格栅清洁电路正在将所述第一能量施加于所述格栅；和 响应于检测到所述低压格栅清洁电路正在施加所述第一能量而停止施加所述第二能量。
6.根据权利要求5所述的装置，其中所述高压格栅清洁电路通过检测所述低压格栅清洁电路中的压降而检测所述低压格栅清洁电路正在施加所述第一能量。
7.根据权利要求1所述的装置，其中所述第二电压引起所述格栅和第二格栅之间的电弧。
8.根据权利要求7所述的装置，其中在所述第一电压的第一能量不足以引起所述格栅和所述第二格栅之间的电弧。
9.一种方法，包括: 检测包含对格栅的第一电压施加的第一格栅清洁处理；和 对所述格栅施加具有高于所述第一电压的第二电压的第二格栅清洁处理。
10.根据权利要求9所述的方法，其中检测所述第一格栅清洁处理包括在第一节点测量第一节点电压。
11.根据权利要求10所述的方法，进一步包括: 在第二节点测量第二节点电压； 将所述第二节点电压和所述第一节点电压之差与阈值比较；和基于所述比较检测所述第一格栅清洁处理清除所述格栅中的状况的故障，其中响应于检测到所述故障而施加所第二格栅清洁处理。
12.根据权利要求9所述的方法，其中所述第二格栅清洁处理包括以所述第二电压对所述格栅施加能量，从而引起所述格栅和第二格栅之间的电弧。
13.根据权利要求9所述的方法，其中所述格栅包括离子推进系统推进器格栅。
14.根据权利要求9所述的方法，进一步包括: 当施加所述第二格栅清洁处理时，检测通过所述第一格栅清洁处理正在施加的电流；和 响应于检测到所述电流而停止所述第二格栅清洁处理。
15.根据权利要求9所述的方法，其中在施加所述第一格栅清洁处理时执行施加所述第二格栅清洁处理。`
【文档编号】B08B7/00GK103769392SQ201310491625
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2013年10月18日 优先权日:2012年10月18日
【发明者】J·F·斯迪克梅尔, P·D·恩古尹 申请人:波音公司