用于光学镜片清洁的工作装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种用于光学镜片清洁的工作装置，包括支撑结构，所述支撑结构的上方设置有框架，所述框架上分散设置有多个滑动固定组件，所述框架的侧面设置有能够翻转框架的翻转按钮，所述支撑结构的下方设置有光源。所述滑动固定组件包括滑动模块和螺栓，所述框架上设置有移动卡槽，所述滑动模块设置于移动卡槽中，所述螺栓穿设于滑动模块中，螺栓的头部设置有接触组件。本实用新型可消除光学镜片在清洁时由于与其他物体接触受到的损伤，并可在清洁的同时使用强光灯观察清洁效果。由于可直接翻转并清洁镜片的另一面，且无二次污染的问题，大大降低了清洁的时间，提高了清洁效率，并可适用于各种不同类型的镜片清洁。
【专利说明】用于光学镜片清洁的工作装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及平板显示、低温多晶硅、AMOLED【技术领域】，具体涉及一种用于光学镜片清洁的工作装置。
【背景技术】
[0002]有机发光显示器件(OLED)是一种主动发光器件，相比于现有的主流平板显示技术薄膜晶体管液晶显示器(TFT-1XD )，OLED具有高对比度、广视角、低功耗和体积更薄等优点，有望成为继LCD之后的下一代平板显示技术，是目前平板显示技术中受到关注最多的技术之一。
[0003]在一般组件中，都需配置开关以驱动组件的运作，就显示组件来说，这些开关的配置可分为主动矩阵式与被动矩阵式两大类型，由于主动矩阵式的配置方式具有可连续发光以及低电压驱动等优点，所以近年来此种配置方式大幅地被应用于显示组件中。在主动矩阵式的显示组件中，其开关可以是薄膜晶体管(thin film transistor)或薄膜二极管等，以薄膜晶体管来说，又可依沟道区的材质分为非晶娃(amorphous silicon ,简称a_Si)薄膜晶体管以及多晶硅(poly-silocon)薄膜晶体管，由于多晶硅薄膜晶体管相较于非晶硅薄膜晶体管，其消耗功率小且电子迁移率大，因此逐渐受到市场的重视。
[0004]早期的多晶硅薄膜晶体管的制程温度高达1000 °C，因此基板材质的选择受到大幅的限制。不过，近来由于激光的发展，制程温度可降至600°C以下，而利用此种制程方式所得的多晶娃薄膜晶体管又被称为低温多晶娃(low temperature poly-silicon,简称为LTPS)薄膜晶体管。目前大多采用准分子激光退火(excimer laser annealing ,简称ELA)的方法进行结晶化。
[0005]激光晶化是由准分子激光器激发出脉冲激光束，激光束经过光学系统调节到达非晶硅基板上，非晶硅膜吸收激光能量，瞬间达到1700°C高温熔化，然后在冷却过程中重新进行结晶。
[0006]由于激光晶化装置中有大量的光学镜片，且激光能量较大，容易造成镜片表面的脏污，影响透光效率，使到达基板的光束能量不再均一。这对于激光晶化来说是致命的缺陷，会造成结晶晶粒大小不均，进而导致使用TFT控制的显示器显示的不均匀。通常这种缺陷被称为光学mura (optic mura)或扫描mura(scan mura)。因此,必须经常对光学系统的镜片进行清洁，以保证到达基板的激光能量的均匀性。
[0007]目前光学镜片清洁时，一般都会将其一面置于一桌面之上，使用酒精或丙酮配合擦镜纸清洁镜片的上表面，清洁完后使用强光灯照射镜片进行检查，并将清洁完的一面放置在桌面之上，使用相同的步骤清洁另一面。检查无脏污残留后，将镜片装回原位置，完成镜片的清洁。然而光学镜片具有很薄且易损的镀膜，且一般自身重量较重，在清洁的时候如果镀膜面和其他物品接触，则容易造成刮伤。即使使用缓冲物质垫于镜片和桌面之间，也容易产生细小的刮痕，甚至在清洁另一面时可能造成二次污染。实用新型内容
[0008]本实用新型提供一种用于光学镜片清洁的工作装置，通过滑动固定组件和接触组件将镜片固定于一可翻转的框架内，并将此框架置于一定高度，使清洁时镜片的两面与任何物体无接触。并通过光源照射可以在清洁时随时观察清洁状况。使用高纯度酒精或丙酮以及专业的擦镜纸进行镜片的清洁，镜片一面清洁完成后直接翻转框架即可进行镜片另一面的清洁。
[0009]本实用新型提供一种用于光学镜片清洁的工作装置，包括支撑结构，所述支撑结构的上方设置有框架，所述框架上分散设置有多个滑动固定组件，通过所述多个滑动固定组件固定待清洁镜片，所述框架的侧面设置有能够翻转框架的翻转按钮，所述支撑结构的下方设置有光源，所述光源照射方向朝向框架。
[0010]进一步地，所述滑动固定组件包括滑动模块和螺栓，所述框架上设置有移动卡槽，所述滑动模块设置于移动卡槽中，所述螺栓穿设于滑动模块中。
[0011〕 进一步地，还包括接触组件，所述接触组件设置于所述螺栓的头部，位于螺栓与待清洁镜片之间。
[0012]进一步地，所述滑动固定组件还包括滑轮，所述滑轮设置于滑动模块中，并能够在所述移动卡槽中滑动。
[0013]进一步地，还包括一个以上滑动支撑臂，所述滑动支撑臂设置于框架中，所述滑动支撑臂上也设置有所述滑动固定组件。
[0014]进一步地，所述接触组件包括硬质层和缓冲层，所述硬质层设置于固定螺栓的头部，所述缓冲层设置于硬质层上方。
[0015]进一步地，所述硬质层和缓冲层均为弧形结构或者平面结构。
[0016]进一步地，所述硬质层和缓冲层均为I型结构。
[0017]进一步地，所述硬质层的材料为金属或合金，所述缓冲层的材料为橡胶。
[0018]进一步地，所述光源通过导轨设置于支撑结构的下方。
[0019]本实用新型具有的优点在于:
[0020]本实用新型提供一种用于光学镜片清洁的工作装置，可消除光学镜片在清洁时由于与其他物体接触受到的损伤，并可在清洁的同时使用强光灯观察清洁效果。由于可直接翻转并清洁镜片的另一面，且无二次污染的问题，大大降低了清洁的时间，提高了清洁效率。另外，对于不同尺寸、形状和重量的镜片，也都有相应的滑动固定模块和接触组件进行固定，因此可适用于各种不同类型的镜片清洁。
【专利附图】
【附图说明】
[0021]图1是本实用新型提供的用于光学镜片清洁的工作装置的立体图；
[0022]图2是本实用新型提供的用于光学镜片清洁的工作装置的侧视图；
[0023]图3是本实用新型中框架以及固定滑动组件之间的结构关系图；
[0024]图4是本实用新型中固定滑动组件的结构示意图；
[0025]图5是本实用新型中具有滑轮的固定滑动组件的结构示意图；
[0026]图6是本实用新型中框架短边的结构示意图；
[0027]图7是本实用新型中框架长边的结构示意图；[0028]图8是本实用新型中框架中设置有滑动支撑臂的结构示意图；
[0029]图9是本实用新型中弧形接触组件的结构示意图；
[0030]图10是本实用新型中平面接触组件的结构示意图；
[0031]图11是本实用新型中L型接触组件的结构示意图。
[0032]图中:1_支撑结构；2_框架；3_滑动固定组件；4_翻转按钮；5_光源；6_接触组件；7_滑动模块；8_第一螺栓；9-滑轮；10_滑动支撑臂；11_硬质层；12_缓冲层；13_待清洁镜片；14-框架长边；15-框架短边；16_固定孔；17-移动卡槽；18-第二螺栓。
【具体实施方式】
[0033]下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好的理解本实用新型并能予以实施，但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
[0034]本实用新型提供一种用于光学镜片清洁的工作装置，如图1、图2和图3所示，包括支撑结构1、可在导轨上移动的光源5、可翻转的用于固定待清洁镜片13的框架2，滑动固定组件3以及接触组件6。
[0035]所述支撑结构I为支撑盒或支撑架，其材料可为高强度的金属、合金或其他物质。
[0036]所述框架2设置于支撑盒或支撑架的上表面，框架2外侧分散设置有多个滑动固定组件3，该滑动固定组件3穿设于该框架2上，通过该滑动固定组件3可以将待清洁镜片13夹持固定于所述框架2上。优选地，所述滑动固定组件3分散设置于所述框架2的各侧边上，并均匀设置，当然也可以仅设置于框架长边14或框架短边15。
[0037]所述框架2的外部还连接有翻转按钮4，通过该翻转按钮4可以轻易的将该框架2翻转180°。优选地，所述翻转按钮4设置于框架2的左右两侧的框架短边15上。
[0038]所述光源5为强光光源，设置于导轨上，并能够在导轨上滑动，所述导轨设置于支撑盒或支撑架的底部上方。优选地，该光源5的光照方向为朝向所述框架2上设置的待清洁镜片13的方向。
[0039]所述接触组件6设置于滑动固定组件3与待清洁镜片13之间，其可以根据待清洁镜片13的结构进行设计，以便于与滑动固定组件3相匹配设置。
[0040]所述框架2优选采用高强度的金属、合金或其他物质制成。所述滑动固定组件3的结构如图4所示，包括第一螺栓8和滑动模块7。所述框架2上设置移动卡槽10，所述滑动模块7设置于移动卡槽10中，第一螺栓8穿设于该滑动模块7，可以在移动卡槽10中移动滑动模块7，以便于根据待清洁镜片13位置调整滑动固定组件3的位置，并通过旋转第一螺栓8，使第一螺栓8相对移动，进而可以很好的调整与待清洁镜片13之间的距离，以便于固定待清洁镜片13。所述的滑动模块7可以为具有滑轮9的固定组件，如图5所示，滑轮9设置于滑动模块7中，通过滑轮与凹槽中框架2的接触面相接触并相对滑动，可以减少磨损。
[0041]所述框架2的大小应由所需固定的最大的光学镜片尺寸决定，如最大的待清洁镜片13长为750mm，宽为200mm，则所述框架2的长宽应稍大于750mm和200mm。所述翻转按钮4设置于框架2的左右两侧的框架短边15上，并搭配设置有可以将框架2沿着所述框架2翻转180°的结构，其为中空结构，可将一螺栓固定于其中以便实现翻转。
[0042]如果一些待清洁镜片13的长度或宽度远小于框架长边14的长度或框架短边15的宽度，则使用高度与框架2侧边(框架长边14及框架短边15)高度相同的滑动支撑臂10而设置于框架2中，如可以在框架2中相对横向或者纵向设置该滑动支撑臂10，框架侧边上具有多个固定孔16，以便于根据不同的框架大小相应设置滑动支撑臂10的位置。穿过该固定孔16，该滑动支撑臂10与框架之间可以通过第二螺栓18固定，如图6、图7和图8所示，将该滑动支撑臂10与欲固定的待清洁镜片13之间也通过滑动固定组件3进行固定，在所述滑动支撑臂10上也设置移动卡槽17，然后将滑动模块7设置于该移动卡槽17中，并通过穿设于滑动模块7中的第一螺栓8来调整与待清洁镜片13之间的相对距离，以便于实现固定与拆卸。采用滑动支撑臂10即可相应的相对缩小框架2尺寸，用于小尺寸待清洁镜片13的固定。
[0043]在固定小尺寸待清洁镜片13时，可使用滑动模块7将第一螺栓8在框架2侧壁的卡槽内滑动，以找到合适的固定位置。找到合适位置后，将第一螺栓8穿过滑动模块7，第一螺栓8的头部安装上接触组件6，并将第一螺栓8朝向框架2内部延伸，锁紧待清洁镜片13。滑动模块7可以选择如图4所示的形状，以便于固定待清洁镜片13。也可选择如图5所示装设有滑轮9的结构，以便于相对框架2移动。
[0044]所述接触组件6形状可由待清洁镜片13形状所定，如图9和图10所示。圆形镜片应使用弧形接触组件，方形镜片可使用平面接触组件。接触组件6应由至少两层组成:硬质层11和缓冲层12，对应为弧形结构或者平面结构。硬质层11用于和滑动固定组件3的第一螺栓8的头部连接，材质可为强度和硬度较高的金属、合金或其他材料，用以分散第一螺栓8对于待清洁镜片13的作用力。缓冲层12位于硬质层上方，由橡胶等软质材料组成，用以增加接触组件6与镜片13的摩擦，填补接触空隙。对于重量较重的待清洁镜片13，可使用[型接触组件，如图11所示，在固定时对应调整位于待清洁镜片13的角部，以从待清洁镜片13边缘底部将其托起。但[型下端(即沿着镜待清洁片13的横向方向)延伸出去的部分不可太长，一般不超过5(3！！！。
[0045]固定完待清洁镜片13之后，即可开始待清洁镜片13清洁。清洁时，如图3所示，使用滑动固定组件将待清洁镜片13紧固于框架2之中，锁紧第一螺栓8，并开启光源5 (强光灯)照射待清洁镜片13。检查待清洁镜片13脏污情况，并使用酒精、丙酮、擦镜纸对待清洁镜片13表面进行清洁，期间可随时查看清洁状况。待一面清洁完成后，拨动翻转按钮4，翻转整个框架2，使待清洁镜片13的另一面朝上，并重复以上清洁步骤，直至镜片13完全清洁干净为止。放松固定用的第一螺栓8，将待清洁镜片13取下，并装回设备原先位置即可。
[0046]以上所述实施例仅是为充分说明本实用新型而所举的较佳的实施例，本实用新型的保护范围不限于此。本【技术领域】的技术人员在本实用新型基础上所作的等同替代或变换，均在本实用新型的保护范围之内。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。
【权利要求】
1.一种用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，包括支撑结构(1),所述支撑结构(I)的上方设置有框架(2),所述框架(2)上分散设置有多个滑动固定组件(3 )，通过所述多个滑动固定组件(3)固定待清洁镜片(13),所述框架(2)的侧面设置有能够翻转框架的翻转按钮(4),所述支撑结构(1)的下方设置有光源(5),所述光源(5)照射方向朝向框架(2).
2.根据权利要求1所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，所述滑动固定组件(3)包括滑动模块(7)和螺栓(8),所述框架(2)上设置有移动卡槽(17),所述滑动模块设置于移动卡槽(17)中，所述螺栓(8)穿设于滑动模块中。
3.根据权利要求2所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，还包括接触组件(6),所述接触组件(6)设置于所述螺栓(8)的头部，位于螺栓(8)与待清洁镜片(13)之间。
4.根据权利要求3所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，所述滑动固定组件(3)还包括滑轮(9)，所述滑轮(9)设置于滑动模块中，并能够在所述移动卡槽(17)中滑动。
5.根据权利要求3所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，还包括一个以上滑动支撑臂(10),所述滑动支撑臂(10)设置于框架(2)中，所述滑动支撑臂(10)上也设置有所述滑动固定组件(3)0
6.根据权利要求3所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，所述接触组件(6)包括硬质层(11)和缓冲层(12),所述硬质层(11)设置于固定螺栓(8)的头部，所述缓冲层(12 )设置于硬质层(11)上方。
7.根据权利要求6所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，所述硬质层(II)和缓冲层(12)均为弧形结构或者平面结构。
8.根据权利要求6所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，所述硬质层(11)和缓冲层(12)均为[型结构。
9.根据权利要求6所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，所述硬质层(11)的材料为金属或合金，所述缓冲层(12)的材料为橡胶。
10.根据权利要求1所述的用于光学镜片清洁的工作装置，其特征在于，所述光源(5)通过导轨设置于支撑结构(1)的下方。
【文档编号】B08B13/00GK203621024SQ201320609775
【公开日】2014年6月4日 申请日期:2013年9月30日 优先权日:2013年9月30日
【发明者】魏博 申请人:昆山国显光电有限公司